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etch uniformityの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6件
The inductive source may be modulated for improved etch uniformity.例文帳に追加
誘導性ソースを変調してエッチングの均一性を改善することができる。 - 特許庁
METHOD FOR ADJUSTING CRITICAL DIMENSION UNIFORMITY IN ETCH PROCESS例文帳に追加
エッチング処理において限界寸法の均一性を調節するための方法 - 特許庁
To improve the uniformity in an etch rate by discharging oxygen from a focus ring.例文帳に追加
フォーカスリングから酸素を放出させることによって、エッチレートの均一性を改善する。 - 特許庁
To provide a dry etching device which can etch substrates to be processed in various shapes, based on a satisfactory interface uniformity.例文帳に追加
各種形状の被処理基板を良好な面内均一性のもとでエッチング処理することができるドライエッチング装置を提供する。 - 特許庁
To provide a heater holding superior temperature uniformity on a wafer, while minimizing the possibility of deterioration and breakdown during operation, and exhibiting superior etch-resistance during the lifetime extended in operation.例文帳に追加
操作中の劣化や分解の危険を最小にし、操作において延長された寿命中に優れた耐腐食性を示しつつ、ウェーハ上で良好な温度均一性を保持するヒータを提供する。 - 特許庁
To enhance the uniformity of etch rate by increasing the penetration speed of an etchant for exfoliation, in a method wherein a first substrate is exfoliated after a semiconductor thin film formed on the first substrate is fixed to a second substrate.例文帳に追加
第１の基板上に形成した半導体薄膜を第２の基板に固定した後、第１の基板を剥離する方法において、剥離のためのエッチング液の浸透速度を高くし、エッチング速度の均一性を高める。 - 特許庁
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