「femtoseconds」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

At this time, at least pulse width of the non-amplified pulse laser 1 is preferably within a range of 5 to 50 femtoseconds.例文帳に追加

このとき、非増幅パルスレーザー１は、少なくともパルス幅が５フェムト秒〜５００ピコ秒の範囲内であればよい。 - 特許庁

To provide a time-resolved transient absorption measuring apparatus by which a time-resolved transient absorption can be measured in a wide time domain from femtoseconds up to milliseconds.例文帳に追加

フェムト秒〜ミリ秒までの広い時間領域で時間分解過渡吸収を測定可能な時間分解過渡吸収測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a new very-short pulse laser which can stably generate high-output laser with pulse of femtoseconds and oscillate it.例文帳に追加

フェムト秒のパルス幅を有する高出力のレーザ光を安定的に生成し、発振させることのできる新規な極短パルスレーザを提供する。 - 特許庁

Then, a region other than the gate electrode 24 on the semiconductor substrate 21 is irradiated with an ultrashort pulse laser beam whose pulse width is 10-1,000 femtoseconds, and an amorphous layer 26a is formed.例文帳に追加

そして、半導体基板２１におけるゲート電極２４以外の領域にパルス幅が１０〜１０００フェムト秒の超短パルスレーザー光を照射し、非晶質層２６ａを形成する。 - 特許庁

To provide a short pulse optical amplifier which can be miniaturized even if an ordinary erbium fiber is used as an amplification fiber for amplifying short pulse light whose time width is the one in femtoseconds.例文帳に追加

時間幅がフェムト秒台の短パルス光の増幅を行うための増幅ファイバーとして特殊なものでないエルビウムファイバーを使用した場合でも小型化を図ることができる短パルス光増幅器を提供すること。 - 特許庁

To realize a wide-band saturable Bragg reflector suitable for using on the occasion of mode-locking a laser, to provide a pulse not longer than 10 femtoseconds, or pulse tunable over a wide wavelength band and comparatively long.例文帳に追加

１０フェムト秒以下のパルス、あるいは、広い波長帯域にわたり同調可能な比較的長いパルスを提供するために、レーザをモードロックする際に用いるのに適した広帯域可飽和ブラッグ反射器を実現する。 - 特許庁

To synchronize the generation timing of a short-pulse laser for a pump and the generation timing of a short-pulse laser for a probe with each other within tens of femtoseconds.例文帳に追加

ポンプ用の短パルスレーザーの発生タイミングとプローブ用の短パルスレーザーの発生タイミングを数十フェムト秒以内で同期させる。 - 特許庁

A defective pixel electrode 6a or a prescribed position of a transparent member 4 corresponding to a foreign matter 7 is irradiated with a femtosecond laser beam 11 whose pulse width is one to several thousand femtoseconds to control the transmittance of the prescribed position of the transparent member 4, whereby a defective pixel is corrected.例文帳に追加

欠陥画素電極６ａ、または、異物７に対応する透明部材４の所定箇所に対し、パルス幅が１フェムト秒乃至数千フェムト秒であるフェムト秒レーザ光１１を照射し、透明部材４の所定箇所の透過率を制御することによって、欠陥画素の補正を行う。 - 特許庁

A device 201 for correcting a defect is provided, including a laser 32 that emits a laser beam having a pulse width in the order of femtoseconds, and a correcting part correcting a defective part of a pattern formed on a surface of a film substrate 26 having a plane perpendicular to the optical axis (Z axis) of the laser beam.例文帳に追加

欠陥修正装置２０１は、フェトム秒単位のパルス幅を有したレーザ光を出射するレーザ３２と、レーザ光の光軸（Ｚ軸）が直交する面を有するフィルム基板２６の面の上に形成されたパターンの欠陥部を修正する修正部と、を備える。 - 特許庁

The decomposition method and apparatus are capable of obtaining harmless water by light-focusing and illuminating ultrashort pulsed-laser 2 of 1,000 picoseconds to 50 femtoseconds in VOC substance-containing water 8 in a transparent glass tubing part 5 and cutting and decomposing a bonding link of a molecule of the VOC substance in the VOC-containing water.例文帳に追加

透明ガラス管部５内のＶＯＣ物質含有水８に、１０００ピコ秒〜５０フェムト秒の超短パルスレ−ザ−２を集光して照射し、前記ＶＯＣ含有水中のＶＯＣ物質の分子の結合部を切断して分解し、無害な水とする方法と装置を提供し得た。 - 特許庁

Product information is inscribed directly on a surface of a crystal blank 1a with vivid clarity by irradiating a predetermined area P_A of a surface of the crystal blank 1a with high-power femtosecond laser light having a wavelength of 1,064 nm or less for an irradiation time of 10 to 1,000 femtoseconds.例文帳に追加

水晶ブランク１ａの表面の所定の領域Ｐ_Aに、波長が１０６４ｎｍ以下、であって照射時間が１０から１０００フェムト秒の高出力フェムト秒レーザーを照射して、製品情報を直接水晶ブランク１ａの表面に鮮明に印字する。 - 特許庁

The magnetic substance working apparatus 1 has an ultrashort pulse laser beam generator 2 which generates an ultrashort pulse laser beam of 10 femtoseconds to 100 picoseconds in pulse width, a precision moving stage 5 on which the magnetic substance M being a workpiece is placed, an objective lens 4 through which the magnetic substance M is irradiated with the ultrashort pulse laser beam, and a controller 6 which controls the movement of the precision moving stage 5.例文帳に追加

磁性体加工装置１は、パルス幅が１０フェムト秒から１００ピコ秒の超短パルスレーザー光を生成する超短パルスレーザー光生成装置２と、被加工物である磁性体Ｍを載置する精密移動用ステージ５と、超短パルスレーザー光を磁性体Ｍに照射する対物レンズ４と、精密移動用ステージ５に移動を制御する制御コントローラ６とを有する。 - 特許庁

When the laser 700 having suitable pulse width and wavelength is selected in such a system and laser light particularly having the pulse width of femtoseconds to picoseconds and the wavelength in the range from 750 to 850 nm or from 1,000 to 1,100 nm is used, repairs in all steps can be performed using only a single laser apparatus without the need for additional or different repair devices for each test process.例文帳に追加

このような方式で、適切なパルス幅及び波長を有するレーザー装備７００を選択し、特にフェムト秒乃至ピコ秒のパルス幅及び７５０ｎｍ乃至８５０ｎｍまたは１０００ｎｍ乃至１１００ｎｍの波長範囲のレーザー光を使用すれば、テスト段階別に別途の修理装置を使用せずに一つのレーザー装備を使用して全工程で修理を行うことができる。 - 特許庁

The apparatus for repairing display devices of a type including a first substrate having a plurality of signal lines formed thereon includes a laser 700 that radiates laser light 750 having a wavelength in a range of from 750 to 850 nm, or from 1,000 to 1,100 nm, and a pulse width of femtoseconds to picoseconds and arranged such that the laser light can be focused on selected one of the signal lines.例文帳に追加

複数の信号線が形成されている第１基板を含む表示装置の修理装置は、前記信号線に焦点を合せて所定の波長及びフェムト秒乃至ピコ秒のパルス幅を有するレーザー光７５０を照射するレーザー装備７００を含み、前記所定の波長の範囲は、７５０ｎｍ乃至８５０ｎｍまたは１０００ｎｍ乃至１１００ｎｍである。 - 特許庁