「interface block」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The interface block 15 includes a substrate exchange section 150.例文帳に追加

インターフェースブロック１５は、基板入替部１５０を含む。 - 特許庁

The substrate treating device 100 includes an indexer block 11, an application block 12, a development block 13 and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置１００は、インデクサブロック１１、塗布ブロック１２、現像ブロック１３およびインターフェイスブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate-treating apparatus 500 has an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

SYSTEM SOFTWARE INTERFACE FOR SPACE-OPTIMIZED BLOCK DEVICE例文帳に追加

空間最適化ブロックデバイスのためのシステムソフトウェアインタフェース - 特許庁

The interface block 15 includes a bevel section inspection unit EE.例文帳に追加

インターフェースブロック１５は、ベベル部検査ユニットＥＥを含む。 - 特許庁

The substrate treatment device 500 is equipped with an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The block is defined by using a visual interface.例文帳に追加

ブロックの定義は視覚的なインターフェースを用いて行われる。 - 特許庁

A semantically similar (but deprecated) interface for block devices is described in raw (8). 例文帳に追加

ブロックデバイスに対する似通った意味のインターフェースがraw (8) - JM

A substrate processing apparatus 100 includes: an indexer block 11; a first processing block 12; a second processing block 13; and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置１００は、インデクサブロック１１、第１の処理ブロック１２、第２の処理ブロック１３およびインターフェイスブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes an indexer block, a processing block for a reflection preventing film, a processing block for a resist film, a developing processing block, a processing block for a resist cover film, a resist cover film removing block, and an interface block.例文帳に追加

基板処理装置は、インデクサブロック、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロック、現像処理ブロック、レジストカバー膜用処理ブロック、レジストカバー膜除去ブロックおよびインターフェースブロックを含む。 - 特許庁

To prevent weeds growing on an interface between paving and a concrete block or the like.例文帳に追加

舗装とコンクリートブロックなどの界面に生える雑草を防ぐ。 - 特許庁

The interface block 16 includes substrate placement sections PASS1, DPASS2.例文帳に追加

インターフェースブロック１６は、基板載置部ＰＡＳＳ１，ＤＰＡＳＳ２を含む。 - 特許庁

The interface block 15 includes a placement/bake unit PASS-PEB.例文帳に追加

インターフェースブロック１５は、載置兼ベークユニットＰＡＳＳ−ＰＥＢを含む。 - 特許庁

A priority processing circuit 6 is made to proceed with the operation of each block, the input interface block 1, the FCS attachment block 2, the insertion block 3, the flag attachment block 4, and the output interface block 5, by raising the priority level to a block which is at farther back stage.例文帳に追加

そして、優先処理回路６により、入力インタフェースブロック１，ＦＣＳ付加ブロック２，インサーションブロック３，フラグ付加ブロック４及び出力インタフェースブロック５のそれぞれのブロックの動作を、より後段にあるブロック程優先して行わせるようにする。 - 特許庁

An interface block 14 is constituted of a washing and drying processing block 14A and a carry-in/carry-out block 14B.例文帳に追加

洗浄乾燥処理ブロック１４Ａおよび搬入搬出ブロック１４Ｂにより、インターフェイスブロック１４が構成される。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

WEED-PROOFING STRUCTURE OF INTERFACE SPACE BETWEEN PAVEMENT AND EDGE STONE BLOCK例文帳に追加

舗装と縁石ブロックなどが接する界面隙間の防草構造 - 特許庁

SHADOW FUNCTION BLOCK INTERFACE FOR BEING USED IN PROCESS CONTROL NETWORK例文帳に追加

プロセス制御ネットワ—クで使用するためのシャドウ機能ブロックインタ—フェイス - 特許庁

MULTILEVEL VOLTAGE SIGNAL BUS INTERFACE CIRCUIT, FUNCTIONAL BLOCK AND INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

多値電圧信号バスインタフェース回路、機能ブロック及び集積回路 - 特許庁

The interface block 15 includes a rear surface cleaning unit RSW.例文帳に追加

インターフェースブロック１５は、裏面洗浄処理ユニットＲＳＷを含む。 - 特許庁

Furthermore, the device reconstructs a CKG block accompanied by the insertion of the speed conversion circuit block between an interface block and the CKG block.例文帳に追加

さらに、ファイル情報作成装置は、インターフェースブロックとＣＫＧブロックの間に速度変換回路ブロックを挿入するのに伴い、ＣＫＧブロックを再構築する。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

A request sub interface 16 defines all functions of an application program 4, a client registration block 5, a service directory block 6, a broadcast source selection block 7, a service selection block 8, a service access block 9, a reception quality block 10, and a service scan block 11 in the interface of an application program (API) 12.例文帳に追加

要求サブインターフェース１６は、クライアント４によって要求されるＡＰＩ１２内のアプリケーションプログラム４、クライアント登録ブロック５、サービスディレクトリブロック６、放送ソース選択ブロック７、サービス選択ブロック８、サービスアクセスブロック９、受信品質ブロック１０、サービススキャンブロック１１の全ての機能を定義する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus, a stocker device, an indexer block, a processing block and an interface block are arranged in the order.例文帳に追加

基板処理装置においては、ストッカー装置、インデクサブロック、処理ブロックおよびインターフェースブロックがこの順で並ぶように配置される。 - 特許庁

An exposure device 16 is arranged adjacent to the interface block 15.例文帳に追加

インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。 - 特許庁

A photolithographic device 16 is provided adjacent to the interface block 15.例文帳に追加

インターフェースブロック１５に隣接するように露光装置１６が配置される。 - 特許庁

The exposure system 15 is arranged adjacent to the interface block 14.例文帳に追加

インターフェースブロック１４に隣接するように露光装置１５が配置される。 - 特許庁

The block devices above represent an abstract interface to the disk. 例文帳に追加

上記のブロックデバイスはディスクへの抽象的インターフェイスを表しています。 - Gentoo Linux

The substrate treating apparatus 500 includes an indexer block 9, a bevel treatment block 10, a treatment block 11 for an antireflection film, a treatment block 12 for a resist film, a development treatment block 13, a treatment block 14 for a resist cover film, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、ベベル処理ブロック１０、反射防止膜用処理ブロック１１、レジスト膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜用処理ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a drying/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、乾燥／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a cleaning/developing processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、洗浄／現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 is provided with an indexer block 9, a reflection preventing film processing block 10, a resist film processing block 11, a resist cover film processing block 12, an inspection block 13, a development processing block 14, a resist cover film removing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、検査ブロック１３、現像処理ブロック１４、レジストカバー膜除去ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、液浸露光用処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像／洗浄／乾燥処理ブロック１２、洗浄／乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を含む。 - 特許庁

The exposure system 17 is arranged adjacent to the interface block 16.例文帳に追加

インターフェースブロック１６に隣接するように露光装置１７が配置される。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for antireflection film, a processing block 11 for resist film, a developing block 12, a processing block 13 for resist cover film, a block 14 for removing resist cover film and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate treatment equipment 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a developing block 12, a treatment block 13 for a resist cover film, a block 14 for removing the resist cover film and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 300 comprises an indexer block 9, an antireflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and a first interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置３００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４および第１のインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate treating device 500 includes an indexer block 9, a treatment block 10 for reflection prevention films, a treatment block 11 for resist films, a development treatment block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises: an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a removal block 14 of resist cover films; and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁