「intermediate trench」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing a thin-film solar cell module 1 comprises a step of forming an intermediate contact layer dividing trench in which a conductive dividing trench 23 is formed in an intermediate contact layer 11 by a mechanical scribe method.例文帳に追加

薄膜太陽電池モジュール１の製造方法は、中間コンタクト層１１にメカニカルスクライブ法によって導電分離溝２３を形成する中間コンタクト層分離溝形成工程を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

The module has a structure in which an isolation trench is formed between the intermediate layer having conductivity, light transmissivity and light reflectivity and a connection groove, the isolation trench is filled with a crystalline silicon film and an isolation member of the intermediate layer does not exist between the isolation trench and the connection groove.例文帳に追加

導電性を有し、光透過性及び光反射性を有する中間層と、接続溝の間に分離溝を設け、該分離溝は結晶質シリコン膜で埋め込まれるとともに、該分離溝と該接続溝の間には前記中間層の分離部材が存在しないという構造を有することを特徴とする。 - 特許庁

A thermal oxide film 32 (first insulating layer) covers the wall surface of the shallow trench 30a and that of the intermediate one 30b.例文帳に追加

熱酸化膜３２（第１絶縁層）が、浅部トレンチ３０ａの壁面と中間トレンチ３０ｂの壁面を覆っている。 - 特許庁

The trench widths of the fitting trenches α and β are formed in the same size as the thickness size of the first surface of a tooth intermediate side insulator 22.例文帳に追加

嵌合溝α，βの溝幅は、ティース中間側インシュレータ２２の第１面部の厚さ寸法と同等の寸法となっている。 - 特許庁

In this vertical MOS transistor, a polycrystal silicon gate electrode is embedded into the middle part of a trench, and an intermediate insulating film is embedded on the polycrystal silicon gate electrode.例文帳に追加

トレンチの途中までを多結晶シリコンゲート電極で埋め込み、その上に中間絶縁膜を埋め込む。 - 特許庁

A plurality of trench electrodes 6 extending from a rear surface 2B up to an intermediate position in a thickness direction toward a surface 2A are provided on the end surface 2C of a board 2, and a plurality of rear surface electrodes 7 connected respectively to the respective trench electrodes 6 are provided on the rear surface 2B of the board 2.例文帳に追加

基板２の端面２Ｃには、裏面２Ｂから表面２Ａに向けて厚さ方向の途中位置まで伸長した複数の溝電極６を設け、基板２の裏面２Ｂには、各溝電極６とそれぞれ接続された複数の裏面電極７を設ける。 - 特許庁

The second conductive part 44b protrudes from the first conductive part 44a toward the center of the trench gate 40 when viewed from above, and an end part of the second conductive part 44b does not exceed an intermediate position 43 between a lateral face and the center 41 of the trench gate 40.例文帳に追加

第２導電部４４ｂは、平面視したときに、第１導電部４４ａからトレンチゲート４０の中央に向けて突出しており、その端部はトレンチゲート４０の側面と中央４１の間の中間位置４３を越えていない。 - 特許庁

Impurity concentrations in distal portions (front and back distal portions) 14a of the trench gate electrode 14 covering a wide range of the insulating film 12a adjacent to corners 10a of the trench 10 in a gate intermediately connecting portion 18 and in a partial gate pad 20 are lower than that of an intermediate portion 14c of the trench gate electrode14 or the like.例文帳に追加

トレンチ１０のコーナー部１０ａに隣接する絶縁膜１２ａを広い範囲で覆うトレンチゲート電極１４の端部（前端部、後端部）１４ａ、ゲート中継部１８、一部のゲートパッド２０の不純物濃度は、トレンチゲート電極１４の中間部１４ｃ等の不純物濃度に比べて低い。 - 特許庁

An intermediate level dielectric 102 and an intrametal dielectric 104 are formed sequentially on a semiconductor substrate 100 and then a via 106 and a trench 108 are made.例文帳に追加

半導体基板１００上に中間レベル誘電体１０２及び更にその上にイントラメタル誘電体１０４が形成された後、ビア１０６とトレンチ１０８が形成される。 - 特許庁

Within the trench 14, a third silicon oxide film 16 is formed and embedded, and this silicon oxide film 16 is etched only for the predetermined amount so that the end of the silicon oxide film 16 is located at the intermediate portion of the polycrystal silicon film 13.例文帳に追加

トレンチ１４内部には第３のシリコン酸化膜１６が埋め込み形成され、所定量だけエッチングすることで多結晶シリコン膜１３の中間部位にシリコン酸化膜１６の端部が位置するように形成される。 - 特許庁

On the remaining part, except for the intermediate connecting part of the device isolation film forming area between the device region and the ground region, a deep trench for exposing an embedded oxide layer is formed by utilizing an etching-proof film pattern.例文帳に追加

素子領域と接地領域との間の素子分離膜形成領域中間連結部を除外した残余部にエッチング防止膜パターンを利用して埋没酸化層が露出される深いトレンチを形成する。 - 特許庁

This intermediate membrane for a clad glass is a thermoplastic resin sheet having embossed patterns comprising depression and projection on both surfaces, the depression part of which is formed of a sunken trench having a curvature R of 20 μm or larger at the bottom of the trench formed by the cross-section of the deepest end.例文帳に追加

熱可塑性樹脂シートの両面に凹部及び凸部からなるエンボス模様が設けられた合わせガラス用中間膜であって、前記エンボス模様は、凹部が凹溝から形成されており、前記凹溝は、その最深部における断面が形成する凹型の底辺の端部における曲率半径Ｒが２０μｍ以上である合わせガラス用中間膜。 - 特許庁

The trench 107 is prescribed by surfaces including a bottom surface 107b, a flank 107s which connects with the bottom surface 107b and has a 1st inclination to the main surface 101f, and an intermediate surface 101c which is formed between the main surface 101f and bottom surface 107b and has a 2nd inclination less than the 1st inclination to the main surface 101f.例文帳に追加

トレンチ１０７は、底面１０７ｂと、その底面１０７ｂに連なり主表面１０１ｆに対して第１の傾きを有する側面１０７ｓと、主表面１０１ｆと底面１０７ｂとの間に形成され、主表面１０１ｆに対して第１の傾きよりも小さい第２の傾きを有する中間面１０１ｃとを含む面により規定されている。 - 特許庁