「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce film thickness dispersion of an organic functional layer.例文帳に追加

有機機能層の膜厚ばらつきを低減する。 - 特許庁

Thickness t1 of the cap tread rubber layer 6 is 35 to 55% of total thickness t0 of the tread rubber layer 4, and thickness t2 of the intermediate tread rubber layer 8 is 5 to 35% of the total thickness t0 of the tread rubber layer 4.例文帳に追加

キャップトレッドゴム層６の厚さｔ１はトレッドゴム層４の全厚さｔ０の３５〜５５％、中間トレッドゴム層８の厚ｔ２はトレッドゴム層４の全厚さｔ０の５〜３５％である。 - 特許庁

Thus, the layer thickness of the toner is made appropriate.例文帳に追加

これにより、トナーの層厚を適宜なものとする。 - 特許庁

The thickness of the flattened second film is made to be equal to the sum of the thickness H1 of the first layer and the thickness H2 of the second layer.例文帳に追加

平坦化された第２の膜の厚みを、第１の層の厚みＨ１と第２の層の厚みＨ２の和に等しくする。 - 特許庁

A film thickness t1 of an underlying layer 120a, a film thickness t2 of a support surface layer 122a, and a film thickness t3 of an air surface layer 121a are made to be t2≤t3≤t1.例文帳に追加

基層１２０ａの膜厚ｔ１、支持体面層１２２ａの膜厚ｔ２、エア面層１２１ａの膜厚ｔ３をｔ２≦ｔ３≦ｔ１とする。 - 特許庁

Then, the average thickness of the positive electrode layer 13 is made 0.2-20 μm, and the average thickness of the buffer layer 16 is made 2-40 nm, and the average thickness of the negative electrode layer 14 is made 0.3-8 μm.例文帳に追加

そして、正極層13の平均厚さを0.2〜20μｍ、緩衝層16の平均厚さを2〜40ｎｍ、負極層14の平均厚さを0.3〜8μｍとする。 - 特許庁

Preferably, the average thickness of the positive electrode layer 13 is 0.8-1.5 μm, the average thickness of the buffer layer 16 is 4-8 nm, and the average thickness of the negative electrode layer 14 is 0.6-1.0 μm.例文帳に追加

好ましくは、正極層13の平均厚さを0.8〜1.5μｍ、緩衝層16の平均厚さを4〜8ｎｍ、負極層14の平均厚さを0.6〜1.0μｍとする。 - 特許庁

To provide a method for controlling the layer thickness of a semiconductor layer capable of allowing the layer thickness of a group III-V compound semiconductor layer to coincide with a desired value.例文帳に追加

III−Ｖ族化合物半導体層の層厚を目標値に一致させることができる半導体層の層厚制御方法を提供する。 - 特許庁

The layer thickness of each thermal insulation layer (3) is preferably ≤1 mm, and the layer thickness of the metallic layer (2_1) on the innermost side is, e.g. 3 to 15 mm.例文帳に追加

熱絶縁層（３）の層厚は好ましくは１ｍｍ以下、最内側の金属層（２_１）の層厚は例えば３−１５ｍｍである。 - 特許庁

The piezoelectric layer is preferably made of ZnO, AIN, or LiNbO_3, wherein the thickness of the piezoelectric layer is between 0.5 to 5 μm.例文帳に追加

圧電層の厚さは０．５μｍ〜５μｍであることができる。 - 特許庁

A supply layer 5 is an n-type InAlAs layer with a thickness of 4 nm.例文帳に追加

供給層５は、厚さが４ｎｍのｎ型ＩｎＡｌＡｓ層である。 - 特許庁

Also, the layer 52 has the same thickness as that of the layer 53.例文帳に追加

また、第１コア層５２および第２コア層５３の厚さは同一である。 - 特許庁

Furthermore, the thickness of the outer layer 4 is formed thinner than that of the inner layer 3.例文帳に追加

また、外層４の厚さが内層３の厚さより薄く形成する。 - 特許庁

The recessed and projecting part 20 can also serve as a liquid crystal layer thickness adjusting layer.例文帳に追加

凹凸２０は、液晶層厚調整層を兼ねることができる。 - 特許庁

A spacer layer 4 is an intrinsic InAlAs layer with a thickness of 3 nm.例文帳に追加

スペーサ層４は、厚さが３ｎｍの真性ＩｎＡｌＡｓ層である。 - 特許庁

The thickness of the main material layer is set larger than that of the decorative layer.例文帳に追加

主材層の厚みは、化粧層の厚みよりも大きく設定する。 - 特許庁

The thickness of the embedded layer 38 on the dummy layer 54 is measured with a non-contact optical film-thickness measuring device, and based on the thickness, the thickness of the upper part shield layer 32 is measured.例文帳に追加

非接触光学式膜厚測定装置でダミー層５４上の埋め込み層３８の膜厚を計測し、当該膜厚に基づいて上部シールド層３２の膜厚を測定する。 - 特許庁

It is preferable that the multi-layer film has a whole thickness of 20-200 μm, a thickness of the layer (A) is 10-80% of the whole thickness and a thickness of the layer (B) is at least 10 μm.例文帳に追加

この多層フィルムは、全体の厚さが２０〜２００μｍであり、層（Ａ）の厚さが全体の厚さの１０〜８０％であり、かつ層（Ｂ）の厚さが１０μｍ以上であるのがよい。 - 特許庁

The thickness of the adhesive layer sufficiently is 1-30 μm.例文帳に追加

接着剤層の厚さは１〜３０μｍが良い。 - 特許庁

The layer thickness of the surface-smoothing layer 3 is at least equal to the thickness of the protective coatings 2 and 12.例文帳に追加

前記表面円滑化層（３）の層厚は、前記保護コーティング（２、１２）の厚みに少なくとも等しい。 - 特許庁

And also, the ratio of the thickness (t2) of the core material layer (S2) to the thickness (t1) of the surface layer (S1), (t2/t1), is 1 or more.例文帳に追加

表面層(S1)の厚み(ｔ1)に対する芯材層(S2)の厚み(ｔ2)の比（ｔ2／ｔ1）が１以上である - 特許庁

The thickness of the protection layer 12 is 3-5 μm.例文帳に追加

保護層１２の膜厚ｄは、３〜５μｍである。 - 特許庁

The thickness of the surface layer 2 is 10-500 μm, and the thickness of the internal layer 2 is 20-2,000 μm.例文帳に追加

表面層２の厚さは１０〜５００μｍであり、内部層２の厚さは２０〜２０００μｍである。 - 特許庁

The thickness of the insulating layer 6A is 0.15-0.45 mm.例文帳に追加

絶縁層６Ａの厚さは、０．１５mm〜０．４５mmとする。 - 特許庁

Further the first layer has thickness of 10 μm or more and the second layer has thickness of 2 to 10 μm.例文帳に追加

なお、第１の層の厚みが１０μｍ以上であり、第２の層の厚みが２〜１０μｍである。 - 特許庁

The thickness of the adhesive layer is 8 to 20 mm.例文帳に追加

接着剤層の厚さは８〜２０ｍｍである。 - 特許庁

The thickness of the silver-plated layer is adjusted to 0.5 to 10 μm.例文帳に追加

銀めっきの厚さは０．５〜１０μｍとする。 - 特許庁

GLASS LAYER THICKNESS MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE例文帳に追加

ガラス層の層厚測定方法および測定装置 - 特許庁

THICKNESS MEASURING METHOD FOR CYLINDRICAL INNER SURFACE DEPOSITION LAYER例文帳に追加

筒状体内面付着層の厚さ測定方法 - 特許庁

The film thickness of the AlInP layer 4 and the GaInP layer 5 adjacent to each other is set irregularly in the direction of a film thickness.例文帳に追加

隣接するＡｌＩｎＰ層４とＧａＩｎＰ層５の膜厚は膜厚方向に不規則にする。 - 特許庁

To easily and accurately calculate the magnetic layer film thickness and the magnetic layer film thickness fluctuation of a magnetic recording medium.例文帳に追加

磁気記録媒体の磁性層膜厚及び磁性層膜厚変動を、簡便かつ正確に算出する。 - 特許庁

The thickness H13 of the first insulating layer 13 is larger than the thickness H14 of the second insulating layer 14.例文帳に追加

第１の絶縁層１３の厚みＨ１３は、第２の絶縁層１４の厚みＨ１４よりも大きい。 - 特許庁

Preferably, the ratio (M/K) of the thickness (M) of the plating layer to the thickness (K) of the hardened layer is controlled to 0.005 to 0.2.例文帳に追加

好ましくは、めっき層の厚さ（Ｍ）が硬化層の厚さ（Ｋ）との比（Ｍ／Ｋ）で０．００５〜０．２とする。 - 特許庁

Then, the thickness of the second multilayer wiring layer 23a is made greater than the thickness of the first multilayer wiring layer 21a.例文帳に追加

そして、第２多層配線層２３ａの厚さを第１多層配線層２１ａの厚さより厚くする。 - 特許庁

Magnetic film thickness of the ferromagnetic layer 13 is set up smaller than the magnetic film thickness of the free layer 27.例文帳に追加

強磁性層１３の磁気膜厚はフリー層２７の磁気膜厚よりも小さく設定されている。 - 特許庁

POWDER LAYER THICKNESS MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

粉末層厚さ測定方法および測定装置 - 特許庁

Then, when the thickness of the negative electrode layer 14 is set to Tn, the thickness of the interface layer will be Tb, and the relation 0.005<Tb/Tn<0.5 is satisfied.例文帳に追加

そして、負極層の厚さをＴｎ、界面層の厚さをＴｂとした場合、０．００５＜Ｔｂ／Ｔｎ＜０．５を満たす。 - 特許庁

THICKNESS MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE OF TRANSPARENT LAYER例文帳に追加

透明層の厚さ測定方法及び測定装置 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING FILM THICKNESS OF CONDUCTIVE ADHESIVE LAYER例文帳に追加

導電性接着剤層の膜厚制御方法 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING LAYER THICKNESS DISTRIBUTION OF CHARGED MATERIAL IN BLAST FURNACE, AND APPARATUS FOR MEASURING LAYER THICKNESS DISTRIBUTION USING THE SAME例文帳に追加

高炉装入物の層厚分布測定方法及びこの方法を用いた層厚分布測定装置 - 特許庁

To provide a measuring system for the magnetic layer thickness which can measure the thickness of a magnetic layer with high accuracy.例文帳に追加

磁性層の厚みを精度よく測定することができる磁性層の厚み測定システムを提供する。 - 特許庁

The ratio of the thickness of the layer 6 to the thickness of the layer 5 is set in 0.25 or more.例文帳に追加

アルミニウム層５の厚みに対するアルミニウムシリコン合金層６の厚みの比率は０．２５以上である。 - 特許庁

The thickness D17 of the positive hole block layer 17 is less than thickness D13 of a GaN semiconductor layer 13.例文帳に追加

正孔ブロック層１７の厚さＤ１７がＧａＮ系半導体層１３の厚さＤ１３よりも薄い。 - 特許庁

The thickness of the outer layer 2 of the container 1 is 0.33 mm, and the thickness of the inner layer 3 is 0.78 mm.例文帳に追加

このマスカラ容器１の外層２の厚みは０．３３ｍｍ、内層３の厚みは０．７８ｍｍである。 - 特許庁

Here, the formula (1) is: a distance between the anodes=a thickness of the cathode+a thickness of the separator+a thickness of the anode+a thickness of the anode active material layer×0.5 to 3.0.例文帳に追加

負極間の距離＝正極厚み＋セパレータ厚み＋負極厚み＋負極活物質層厚み×０．５〜３．０ （１） - 特許庁