「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

It is preferable that the transition-metal complex layer 9 has a film thickness of 10 nm or less, and it is further preferable that the complex layer has a film thickness of 2 nm or less.例文帳に追加

遷移金属錯体層９は、膜厚１０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは膜厚２ｎｍ以下である。 - 特許庁

It is preferable that the first doubly refracting layer has a thickness of 0.5 to 5 μm and the second doubly refracting layer has a thickness of 0.3 to 3 μm.例文帳に追加

好ましくは、第１の複屈折層の厚みは０．５〜５μｍであり、第２の複屈折層の厚みは０．３〜３μｍである。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the metal shield layer is set in the range of 0.5-1.5 μm and the thickness of the protective layer is set in the range of 0.5-1.0 μm.例文帳に追加

好ましくは、金属シールド層の厚さは、０．５μｍ〜１．５μｍとし、保護層の厚さは、０．５μｍ〜１．０μｍとする。 - 特許庁

The anti-reflective layer has an average cross-sectional thickness that is less than an average cross-sectional thickness of the protective layer.例文帳に追加

反射防止の層は、保護の層の平均の断面の厚と比べてより少ないものである平均の断面の厚さを有する。 - 特許庁

The ratio (T3/T2) of the thickness of the inner catalyst layer 31 (T2) to the thickness of the outer catalyst layer 32 (T3) is in the range of 1.5 to 2.5.例文帳に追加

内触媒層３１の厚み（Ｔ２）に対する外触媒層３２の厚み（Ｔ３）の比率（Ｔ３／Ｔ２）は１．５〜２．５である。 - 特許庁

The electrolytic Ni plating layer 13a has a thickness of 20 μm, and the Ni-B plating layer 13b has a thickness of several μm.例文帳に追加

電解Ｎｉメッキ層13ａは厚さが２０μｍに、Ｎｉ−Ｂメッキ層13ｂは厚さが数μｍにそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The film thickness t2 of an anode side gas diffusion layer 13 is larger than the film thickness t1 of a cathode side gas diffusion layer 14.例文帳に追加

さらに、アノード側ガス拡散層１３の膜厚ｔ２は、カソード側ガス拡散層１４の膜厚ｔ１よりも大きくなっている。 - 特許庁

The layer thickness regulating member 110 is fixed to a developing machine 100 under the condition where an upper part of the layer thickness regulating member is clamped in.例文帳に追加

層厚規制部材１１０は、層厚規制部材の上部を挟み込ませた状態で現像機１００に固定する。 - 特許庁

It also has such a thickness that the ratio of the thickness of the dielectric layer to that of the phosphor layer is in the range of about 20:1 to 500:1.例文帳に追加

また、誘電層の厚さと燐光層の厚さの比が約２０：１〜５００：１の範囲内になるような厚さを有する。 - 特許庁

It is desirable that a thickness of the core material layer is within a range of 500 to 2500 μm and a thickness of the surface layer is within a range of 50 to 250 μm.例文帳に追加

芯材層の厚みが500〜2500μmの範囲内にあり、表面層の厚みが50〜250μmの範囲内にあることが好ましい。 - 特許庁

It is preferable that thickness of one A layer is in a range of 0.05-5 μm and that thickness of one B layer is in a range of 0.05-10 μm.例文帳に追加

Ａ層の一層の厚さは０．０５〜５μｍ、Ｂ層の一層の厚さは０．０５〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。 - 特許庁

By restricting the film thickness of a heater layer being a lower layer of the sacrificial layer with a two-layer constitution, the sacrificial layer applicable to an Si (100) substrate can be provided.例文帳に追加

この二層構成の犠牲層の、下層のヒーター層の膜厚を限定することによって、Ｓｉ（１００）基板に適用可能な犠牲層が提供できる。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING SLAG LAYER THICKNESS, AND METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SURFACE LEVEL POSITIONS OF SLAG LAYER AND MOLTEN METAL LAYER SURFACE例文帳に追加

スラグ層厚さ又はスラグ層厚さと溶融金属層表面レベル位置測定方法及びその測定装置 - 特許庁

To provide a member with a functional layer, capable of suppressing thickness irregularities of a second functional layer provided on a first functional layer.例文帳に追加

第１機能層上に設ける第２機能層の厚みムラが抑制される機能層付き部材を提供する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a single layer of a magnetic layer on a supporting body and the magnetic layer has ≤0.3 μm dry thickness.例文帳に追加

支持体上に単層の磁性層を有し、該磁性層の乾燥厚みが０．3μｍ以下の磁気記録媒体。 - 特許庁

Among them, the heat sink layer is interposed between the Au layer and Ti layer having a thickness of approximately 20 μm.例文帳に追加

この中で、ヒートシンク層は、Ａｕ層とＴｉ層との間に介挿されており、２０μｍ程度の厚みを有する。 - 特許庁

The catalyst for purifying an exhaust gas comprises a barrier layer 3 having a thickness of 25 μm or more and formed between a Pt-supporting coat layer and a Rh-supporting coat layer 4.例文帳に追加

Pt担持コート層２とRh担持コート層４との間に、厚さ25μｍ以上のバリア層３を形成した。 - 特許庁

The thickness of the Pt layer 11 is set so that the Pt layer 11 remains, when the AuSn layer 9 for bonding the semiconductor chip is melted, according to the thickness of an Au electrode layer not shown and provided on the lower surface of the semiconductor laser chip, the thickness of the Au layer 8, the thickness and a composition ratio of the AuSn layer 9.例文帳に追加

Ｐｔ層１１の厚さは、図示しない半導体レーザチップの下面に設けられたＡｕ電極層の厚さ、Ａｕ層８の厚さ、ＡｕＳｎ層９の厚さおよび組成比に応じて、その半導体レーザチップを接合するためのＡｕＳｎ層９の溶融時にＰｔ層１１が残存するように設定されている。 - 特許庁

Thickness of the Pt layer 11 is set such that the Pt layer 11 is left when the AuSn layer 9 is melted in order to bond that semiconductor laser chip depending on the thickness of an Au electrode layer formed on the lower surface of a semiconductor laser chip (not shown), the thickness of the Au layer 8, the thickness of the AuSn layer 9, and the composition.例文帳に追加

Ｐｔ層１１の厚さは、図示しない半導体レーザチップの下面に設けられたＡｕ電極層の厚さ、Ａｕ層８の厚さ、ＡｕＳｎ層９の厚さおよび組成比に応じて、その半導体レーザチップを接合するためのＡｕＳｎ層９の溶融時にＰｔ層１１が残存するように設定されている。 - 特許庁

The copper - titanium clad brazing material 1 includes a copper layer 2, a titanium layer 3 and a diffused layer 4 which has a thickness smaller than the aggregated thickness of the copper layer 2 and the titanium layer 3 and is formed by diffusion of copper and titanium between the copper layer 2 and the titanium layer 3.例文帳に追加

銅—チタンクラッドろう材１は、銅層２と、チタン層３と、銅層２とチタン層３との間に、厚さが銅層２とチタン層３との合計の厚さより薄い、銅とチタンとの拡散により形成された拡散層４と、を具備している。 - 特許庁

The total thickness of the laminated film is preferably 20-500 μm, the thickness of the substrate layer is preferably at least 0.5 times as thick as the total thickness, and the thickness of the surface layer is preferably 1-100 μm.例文帳に追加

積層フィルム全体の厚さは、２０〜５００μｍとするのがよく、前記基材層の厚さは、全体の厚さの０．５倍以上とするのがよく、前記表面層の厚さは、１〜１００μｍとするのがよい。 - 特許庁

The sum of a thickness of the first substrate 46 and a thickness of the first adhesive layer 48 is equal to the sum of a thickness of a part in the second adhesive layer 49 overlapping with the sensor core 41 and a thickness of the second substrate 47.例文帳に追加

第１基板４６の厚さと第１接着層４８の厚さの和と、第２接着層４９においてセンサコア４１と重なる部分の厚さと第２基板４７の厚さとの和とは、等しい。 - 特許庁

The infrared-transparent structure is characterized in that the first Y_2O_3 layer has a thickness of 10 to 200 nm, the YF_3 layer has a thickness of 400 to 800 nm, the second Y_2O_3 layer has a thickness of 10 to 200 nm and the diamond-like carbon layer has a thickness of 100 to 500 nm.例文帳に追加

前記各層は、第１のＹ_２Ｏ_３層が１０〜２００ｎｍ、ＹＦ_３層が４００〜８００ｎｍ、第２のＹ_２Ｏ_３層が１０〜２００ｎｍ、ダイヤモンド状炭素層が１００〜５００ｎｍの厚さであることを特徴とする赤外線透過構造体。 - 特許庁

The etching stop layer underlying the third cad layer has a thickness T1≤100 nm and the etching stop layer underlying the block layer has a thickness T2 satisfying following relations; T1-T2>1 nm and T2>1 nm.例文帳に追加

第３クラッド層下部のエッチング停止層の層厚Ｔ１はＴ１≦１００ｎｍであり、ブロック層下部のエッチング停止層の層厚Ｔ２は、Ｔ１−Ｔ２＞１ｎｍかつＴ２＞１ｎｍである。 - 特許庁

In such a case, the thickness of the primary coating layer 2 is set to 4μm to 11μm, the outer diameter of the secondary coating layer 3 is made to 235μm to 265μm and the thickness of the outer most layer coating layer 4 is set to 3μm to 30μm.例文帳に追加

この場合、１次被覆層２の厚さは４μｍ〜１１μｍ、２次被覆層３の外径が２３５μｍ〜２６５μｍ、最外層被覆層４の厚さは３μｍ〜３０μｍとする。 - 特許庁

Thereby, the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region 100b is much smaller than the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region 100c.例文帳に追加

このため、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄い。 - 特許庁

The saturation charge amount Q of the image holding body 22 is increased nearly in proportion to the decrease amount of the total layer thickness of the photosensitive layer 92 until the total layer thickness of the photosensitive layer 92 is decreased to a specified value.例文帳に追加

感光層９２の総層厚が所定値まで減少するまで、像保持体２２の飽和電荷量Ｑは、感光層９２の総層厚の減少量に略比例して増大する。 - 特許庁

Layer thickness T1 of the low density carbon layer 4 is 0.4 to 30 nm, layer thickness T2 of the high density carbon layer 5 is 0.4 to 10 nm and T1/T2 is made to be 5 to 0.2.例文帳に追加

前記低密度炭素層４の層厚Ｔ１は０．４〜３０ｎｍであり、前記高密度炭素層５の層厚Ｔ２は０．４〜１０ｎｍであり、Ｔ１／Ｔ２が５〜０．２とされる。 - 特許庁

Therein, the thickness of a quantum well layer of the multiple quantum well layer of the light deflection part 3 is set so as to become thinner than the thickness of a quantum well layer of a multiple quantum well layer of the laser part 2.例文帳に追加

そして光偏向部３の多重量子井戸層の量子井戸層の厚さは、レーザ部２の多重量子井戸層の量子井戸層の厚さより薄くなるように設定されている。 - 特許庁

For the reason stated above, layer thickness d of a liquid crystal layer 50 in the reflective display region 100b is considerably thinner than layer thickness d of a liquid crystal layer 50 in the transmissive display region 100c.例文帳に追加

このため、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄い。 - 特許庁

The thickness of the re-wiring 8 formed by a laminated body of the metal sputter layer or the metal vapor-deposition layer 23, and the thickness of the metal plating layer 29 is determined to be twice as much as that of the outermost layer of the film.例文帳に追加

金属スパッタ層又は金属蒸着層２３と金属めっき層２９との積層体をもって形成される再配線８の厚みを表皮の厚さの２倍以上とする。 - 特許庁

Further, the multiple interference can be effectively suppressed by providing the equal-thickness layer units in which the spacers of the same thickness dare to be successively arranged over the different-thickness layer units.例文帳に追加

また、異厚層ユニットの上方に敢えて同厚のスペーサを連続配列した同厚層ユニットを設けることによって、多重干渉を効果的に抑制できる。 - 特許庁

The film thickness of the vapor deposition film 53 is brought into the film thickness of the electron injection layer 52 to find indirectly and accurately the film thickness of the electron injection layer 52.例文帳に追加

蒸着膜５３の膜厚を電子注入層５２の膜厚とすることにより、間接的に、且つ正確に電子注入層５２の膜厚を求めることが可能である。 - 特許庁

A thickness of the paper or the like is about 110 to 170 μm, a thickness of the porous layer is 10 to 50 μm, and a thickness of the anchor layer is about 1 to 20 μm.例文帳に追加

前記紙類の厚みは１１０〜１７５μｍ程度、前記多孔質層の厚みは１０〜５０μｍ程度、前記アンカー層の厚みは１〜２０μｍ程度である。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the acid-modified fluorocarbon resin layer is 100 μm or below, the thickness of the polyamide resin layer is 100 μm or below, and the thickness of the polyamide/polyolefin elastomer composite resin layer is at least 50 μm.例文帳に追加

酸変性フッ素樹脂層の厚さは１００μｍ以下、ポリアミド樹脂層の厚さは１００μｍ以下、ポリアミド／ポリオレフィン系エラストマー複合樹脂層の厚さは５０μｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

A difference between "the insulation layer thickness D1" and "the electrode thickness D2" is larger than a film thickness of each of a hole transport layer 41 and a light-emitting layer 42 formed on the pixel electrodes 36.例文帳に追加

そして、「絶縁層厚さＤ１」から「電極厚さＤ２」を引いた差分が、画素電極３６上に形成する正孔輸送層４１及び発光層４２の各々の膜厚よりも大きくなるようにした。 - 特許庁

The thickness of the first kind of film layer is larger than the thickness of the second kind of film layer, and the thickness of the first kind of film layer is 10 nm or less and 1 nm or more.例文帳に追加

また、第１種類の薄膜層の厚みが第２種類の薄膜層の厚みよりも大きく、かつ、第１種類の薄膜層の厚みが１０ｎｍ以下であり、かつ、１ｎｍよりも大きくする。 - 特許庁

The thickness of the gap adjusting layer 22 is so set that the thickness of the liquid crystal layer 30 in the reflection area Ar1 is nearly a half as large as the thickness of the liquid crystal layer 30 in a transmission area Ar2.例文帳に追加

ギャップ調整層２２の厚さは、反射領域Ａｒ１における液晶層３０の厚さが透過領域Ａｒ２の液晶層３０の厚さの略半分となるように設定する。 - 特許庁

A first metal layer 3 of ≥0.5 mm in thickness, a second metal layer 5, and a third metal layer 7 of ≥1 mm in thickness are arranged in this order, and the first metal layer 3 and the second metal layer 5 are united together with a conductive adhesive layer.例文帳に追加

厚み０．５mm以上の第１金属層３と、第２金属層５と、厚み１mm以上の第３金属層７がこの順に配置され、第１金属層３と第２金属層５が導電性接着剤層で一体化されている。 - 特許庁

A lower layer structure layer 1 and an upper layer structure layer 2 are laminated on a substrate 11, and the sum of the thickness of the upper layer structure layer 2 and the lower layer structure layer 1 determines the depth of rugged patterns of the stamper.例文帳に追加

基体１１上に、下層構成層１と上層構成層２とが積層され、上層構成層２と下層構成層１との厚さの和によって、スタンパーの凹凸パターンの深さが規定された構成とする。 - 特許庁

The polyester fibers for the pile products is formed from a polyester resin composition comprising a layer compound and a thermoplastic polyester resin and has ≤500 Å average layer thickness, ≤2,000 Å maximum layer thickness or 10-1,000 average aspect ratio (layer length/layer thickness) of the layer compound.例文帳に追加

層状化合物と熱可塑性ポリエステル樹脂とを含有するポリエステル樹脂組成物より形成され、層状化合物の平均層厚が５００Å以下、最大層厚が２０００Å以下、あるいは、平均アスペクト比（層長さ／層厚み）が１０〜１０００であるパイル製品用ポリエステル系繊維。 - 特許庁

A light shield layer 2 has a thickness from 1 μm to 2.5 μm, a liquid repellant layer 3 having a thickness from 0.1 μm to 1/2 of the thickness of the light shield layer 2 is provided on the light shield layer 2, and the width of the top part of the liquid repellant layer 3 is smaller than that of the light shield layer 2.例文帳に追加

遮光層２の厚さを１μｍ以上、２．５μｍ以下に設定し、前記遮光層２の上部に０．１μｍ以上、前記遮光層２の厚さの１／２以下の厚さの撥液層３を設け、該撥液層３の頂部の幅を、前記遮光層２の幅より狭く設定した。 - 特許庁

The process (b) includes processes of: measuring the film thickness of the adjustment layer during formation of the adjustment layer, and adjusting the optical film thickness of the adjustment layer based on the measurement result of the film thickness of the adjustment layer.例文帳に追加

また、工程ｂ）は、前記調整層の成膜中に前記調整層の膜厚を測定する工程と、前記調整層の膜厚の測定結果に基づいて前記調整層の光学膜厚を調整する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method of calculating the thickness of a third light transmission layer of a three-layer structure, and a method of manufacturing an SOI wafer for thinning the film thickness of an active layer, while exactly computing the thickness of the active layer.例文帳に追加

３層構造体の第３の光透過層の厚さの算出方法および活性層の厚さを正確に算出しながら前記活性層の薄膜化を行うＳＯＩウェーハの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The thickness of the semiconductor layer 11 is set to 10 to 100 nm.例文帳に追加

そして、半導体層１１の厚さを、１０〜１００ｎｍとする。 - 特許庁