「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The adhesive layer is preferably formed in 5-50 μm thickness.例文帳に追加

この接着層３の厚みは５〜５０μｍとすることが望ましい。 - 特許庁

The first layer comprises about 20% or less of the total thickness of the film.例文帳に追加

第１層は、フィルムの全膜厚の約２０％以下を占める。 - 特許庁

A film thickness T of the conductive layer 4 is 0.05 to 1.0 μm.例文帳に追加

導電層４の膜厚Ｔは０．０５μｍ〜１．０μｍである。 - 特許庁

Electrodes are reverse polarized for each layer in the thickness direction.例文帳に追加

電極間は厚み方向一層ごと逆向きに分極されている。 - 特許庁

The thickness of the nitriding reformed layer 12 is, e.g., 5 to 15 μm.例文帳に追加

窒化改質層１２の厚みは、例えば５μｍ〜１５μｍである。 - 特許庁

The thickness of the hydrogen high concentration layer 21 is ≤300 μm.例文帳に追加

この水素高濃度層２１は、厚さが３００μｍ以下とされる。 - 特許庁

A film thickness of the ultraviolet inhibiting layer 2 is to be 0.15 to 1.25 μm.例文帳に追加

紫外線抑止層２の膜厚は０．１５〜１．２５μｍとされる。 - 特許庁

The organic insulation layer 3 is made large in thickness so as to easily make the gate insulation layer 5 large in entire thickness.例文帳に追加

この有機物絶縁層３の厚みを大きくすることにより、ゲート絶縁層５全体の厚みを容易に大きくすることができる。 - 特許庁

The surface of the cleaning layer is flat and the thickness is constant.例文帳に追加

クリーニング層の表面は平坦であり、その厚さが一定である。 - 特許庁

A thickness of the zinc antioxidant layer 2 is 0.5 μm to 20 μm.例文帳に追加

亜鉛酸化防止層２の層厚は、０．５μｍ〜２０μｍとされる。 - 特許庁

The thickness of the outer layer 9 is 1 μm to 100 μm.例文帳に追加

外層９の厚みは、１μｍ以上１００μｍ以下である。 - 特許庁

The thickness t of the thermoplastic resin layer 3A is 0.4 to 1 mm.例文帳に追加

熱可塑性樹脂層３Ａの厚みｔは０．４〜１ｍｍとする。 - 特許庁

A layer thickness regulating blade 12A regulates the layer thickness of developer on the upstream side of the development area in the conveyance direction 91.例文帳に追加

層厚規制ブレード１２Ａは、搬送方向９１における現像領域の上流側において現像剤の層厚を規制する。 - 特許庁

The thickness t of the resin coat layer is 2 μm<t<100 μm.例文帳に追加

樹脂コート層の厚みｔは、２μｍ＜ｔ＜１００μｍである。 - 特許庁

To reduce local unevenness of the thickness of a coating layer in a piston.例文帳に追加

ピストンのコーティング層厚さの局部的な不均一を軽減する。 - 特許庁

The scratch prevention layer is formed in the thickness of 1 μm to 10 μm.例文帳に追加

スクラッチ防止層は、１μｍ〜１０μｍの厚みに形成される。 - 特許庁

It is preferable that the thickness of the nickel layer is from 1 to 8 μm.例文帳に追加

上記ニッケル層の厚みは１〜８μｍであることが好ましい。 - 特許庁

The layer thickness of the image peeling layer 20 is always maintained to be a specified thickness, so that the toner T is stably surely removed from the paper P.例文帳に追加

画像剥離層２０の層厚は常に一定厚に維持されるので、用紙ＰからトナーＴを安定して確実に除去できる。 - 特許庁

The well layer has a thickness of more than 2.5 nm and not more than 10 nm.例文帳に追加

井戸層の厚さは２．５ｎｍより大きく１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

Film thickness t2 of the positive-hole transport layer 32 is thicker than film thickness t1 of a wiring layer 34 located below the pixel electrode 25.例文帳に追加

正孔輸送層３２の膜厚ｔ２を画素電極２５より下方にある配線層３４の膜厚ｔ１よりも厚くしている。 - 特許庁

The thickness of the austenite layer 22 is preferably 5-500 μm.例文帳に追加

オーステナイト化層２２の厚さは、５〜５００μｍであるのが好ましい。 - 特許庁

The thickness ratio of one polyvinyl alcohol resin layer to the polyalkylene oxide resin layer is 1:1-50, and the total thickness is 3-100 μm.例文帳に追加

１つのポリビニルアルコール系樹脂層とポリアルキレンオキシド系樹脂層の厚さ比は１：１〜５０であり、総厚さは３〜１００μｍである。 - 特許庁

The thickness D_W of the well layer 19a is 10 nm or less.例文帳に追加

また、井戸層１９ａの厚さＤ_Ｗは１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

Thickness of the outer layer 32 is roughly constant along length.例文帳に追加

外層３２の厚さは、長手方向に沿ってほぼ一定になっている。 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASURING METHOD FOR SURFACE LAYER OF ELECTROPHOTOGRAHIC SENSITIVE BODY例文帳に追加

電子写真感光体における表面層の膜厚測定方法 - 特許庁

For example, the thickness of the glass substrate is 0.4 mm, the thickness of the plastic sheet is 0.08 mm, and the thickness of the adhesive layer is 0.02 mm.例文帳に追加

例えば、ガラス基材の厚さは０．４ｍｍ、プラスチックシートの厚さは０．０８ｍｍ、接着層の厚さは０．０２ｍｍである。 - 特許庁

The thickness of a tabular semiconductor region is formed in a thickness thinner than the double of the thickness of a maximum depletion layer determined by the impurity concentration.例文帳に追加

板状半導体領域の厚さは、その不純物濃度で決まる最大空乏層の厚さの二倍よりも薄く形成する。 - 特許庁

A thickness of each high-heat-conduction layer is preferably 5 to 40% of a thickness of the plate of the honeycomb structure.例文帳に追加

なお、高熱伝導層の厚みは、ハニカム構造の板の厚みの５〜４０％とするのが好ましい。 - 特許庁

The average thickness of the inner rubber layer 3a to the total thickness of the side wall rubber is 20 to 80%.例文帳に追加

サイドウォールゴムの総厚さに対する内側ゴム層３ａの平均厚さは、２０〜８０％である。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the wiring electrode 16 is not smaller than half of the thickness of the second insulation layer 14.例文帳に追加

好ましくは、配線電極１６の厚みが、第２の絶縁層１４の厚みの半分以上である。 - 特許庁

The desired coating thickness of each layer is 0.5-1.0 μm and the total coating thickness is 10 μm or less.例文帳に追加

望ましい各層の膜厚は、それぞれ０．５〜１．０μｍで、全体の膜厚は１０μｍ以下である。 - 特許庁

The thickness of a resist layer 30 is 1.2 times as thick as the thickness of the barrier width W1 of the fine barrier 24 or less.例文帳に追加

レジスト層３０の厚みは、微細隔壁２４の隔壁幅Ｗ１の１．２倍以下の厚みである。 - 特許庁

A ratio of thickness Ts of the surface layer 36 to thickness T of the tread 4 is 30% or less.例文帳に追加

トレッド４の厚みＴに対する表面層３６の厚みＴｓの比率は、３０％以下である。 - 特許庁

A thickness t_s of the reinforcing plate 17 is set to be equal to or greater than a half of a thickness t_r of the rubber layer 16.例文帳に追加

補強板１７の厚さｔ_ｓをゴム層１６の厚さｔ_ｒの半分以上に設定する。 - 特許庁

This film-thickness measuring apparatus which measures the film-thickness of each layer of a multilayered film, is provided with a radiation thickness gauge, an infrared thickness gauge, and an arithmetic means which computes the thickness of each layer based on the indicated value of each thickness gauge and the absorption sensitivity characteristic of each layer constituting the multilayered film found in advance.例文帳に追加

多層膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、放射線厚さ計および赤外線厚さ計を備え、各厚さ計の指示値と、予め求めた前記多層膜を構成するそれぞれの層の吸収感度特性をもとに各層の層厚を演算する演算手段を設けた。 - 特許庁

A thickness t_s of the reinforcing plate 17 is set to be equal to or greater than a half of thickness t_r of the rubber layer 16.例文帳に追加

補強板１７の厚さｔ_ｓをゴム層１６の厚さｔ_ｒの半分以上に設定する。 - 特許庁

However, a spacer layer 18 has first and second thicknesses, the second thickness being smaller than the first thickness.例文帳に追加

しかしスペーサ層１８は第１及び第２の厚さを持ち、第２の厚さは第１の厚さより薄い。 - 特許庁

To accurately find a film thickness of an electron injection layer having, for example, 10 nm or less of extremely thin film thickness.例文帳に追加

例えば、１０ｎｍ以下の極薄い膜厚を有する電子注入層の膜厚を正確に求める。 - 特許庁

As a result, an adhesive layer 50 of the thickness determined by the thickness of the spacer 60 is made to remain between both the substrates.例文帳に追加

これにより、両基板間に、スペーサ６０の厚さで決まる厚みの接着剤層５０を残す。 - 特許庁

The layer thickness regulating member is used for regulating the layer thickness of a developer carried on the developer carrier, by being abutted against a developer carrier at its contact face, wherein burrs of the layer thickness regulating member are placed on a non-abutting face side, opposite to an abutting face opposite, in the thickness direction of the layer thickness regulating member.例文帳に追加

現像剤担持体に当接面にて当接して、該現像剤担持体に担持された現像剤の層厚を規制するための層厚規制部材であって、該層厚規制部材のばりが、該層厚規制部材の厚み方向において前記当接面とは反対側の非当接面側に、位置することを特徴とする層厚規制部材。 - 特許庁

The EOE has a distribution of the hardness in the sheet thickness direction, and satisfies the relation: 0.10<(thickness of hard layer)/(remaining sheet thickness in opening guide line)<1.0 in the remaining thickness part of an opening guide line.例文帳に追加

ＥＯＥの板厚方向に硬度分布を有し、開口案内線の残厚部において、０．１０＜（硬質層の厚さ）／（開口案内線の残厚）＜１．０ とする。 - 特許庁

Prepared first is an SOI substrate which has a first silicon layer 2, a first silicon oxide layer 4, and a second silicon layer 6 laminated in order, wherein the thickness T1 of the first silicon layer 2 is equal to the thickness T3 of the second silicon layer 6.例文帳に追加

まず、第１シリコン層２と第１酸化シリコン層４と第２シリコン層６が順に積層されており、第１シリコン層２の厚みＴ１と第２シリコン層６の厚みＴ３が等しいＳＯＩ基板を用意する。 - 特許庁

An SiGe mixed crystal layer 14 is formed on a first Si layer 13 of an SOI substrate 10, and a second Si layer 16 which has a thickness of 55 to 550 nm thicker than the thickness of the first Si layer is formed on the SiGe mixed crystal layer.例文帳に追加

ＳＯＩ基板１０の第１Ｓｉ層１３上にＳｉＧｅ混晶層１４を形成し、ＳｉＧｅ混晶層上に第１Ｓｉ層の厚さより厚い５５〜５５０ｎｍの厚さの第２Ｓｉ層１６を形成する。 - 特許庁

Since an antislip layer is formed by dots, the thickness tolerance of the antislip layer can be reduced.例文帳に追加

滑り止め層をドットで形成することにより、滑り止め層の厚みの公差を低減できる。 - 特許庁

The part of the lower-layer wiring 3, underlying the upper-layer wiring 4 is formed thicker in thickness than the other part of the wiring 3.例文帳に追加

下層配線３の上記一部が、該下層配線３の他の部分よりも厚くされている。 - 特許庁