「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The thickness of the resin material 31 of the bottom layer is thicker than that of the resin material 33 of the top layer.例文帳に追加

最下層の樹脂材３１の厚みは、最上層の樹脂材３３の厚みよりも大きい。 - 特許庁

The radius or the thickness of each layer are made to more than doubles at least the outer layer adjacent thereto.例文帳に追加

各層の半径または厚さは、少なくとも隣接する外側層の２倍以上である。 - 特許庁

Further, a thickness of the outer layer insulator 15 is formed thinner than that of the inner layer insulator 14.例文帳に追加

また、外層絶縁体１５の厚さは、内層絶縁体１４の厚さより薄く形成する。 - 特許庁

To prevent an i-layer (1) from expanding up to a ring-shaped shoulder (5a) even if thickness of the i-layer (1) is increased.例文帳に追加

ｉ層（１）を厚くしても、リング状肩部（５ａ）にまでｉ層（１）が広がらないようにする。 - 特許庁

The thickness of the inner electrode layer 3 is made thicker than that of the surface electrode layer 2.例文帳に追加

また、内部電極層３の厚さは、表面電極層２の厚さよりも厚くされている。 - 特許庁

A crystal grain size of the nickel oxide layer is preferably larger than the thickness of the nickel oxide layer.例文帳に追加

ニッケル酸化物層の結晶粒径が、ニッケル酸化物層の膜厚よりも大きいことが望ましい。 - 特許庁

Further, the ratio of the thickness of the surface layer 2 to that of the intermediate layer 3 is 1:300 to 1:1.例文帳に追加

更に、前記表層２と前記中間層３との厚さの比は、１：３００〜１：１である。 - 特許庁

The ratio of the film thickness of the red color layer to that of the blue color layer ranges 1.0:(1.25 to 0.5).例文帳に追加

赤色積層層の膜厚と青色積層層の膜厚の比が〔１．０〕：〔１．２５〜０．５〕であること。 - 特許庁

Preferably, the elastic layer 102 is formed of silicone rubber and the thickness of the layer is controlled to be ≥0.2mm.例文帳に追加

弾性層１０２はシリコーンゴムで形成し、厚みを０．２ｍｍ以上にするのが好ましい。 - 特許庁

The cover layer is softer than the mantle layer and provided with an optimal thickness for spin and durability.例文帳に追加

カバー層は、マントル層よりも軟らかく、スピン及び耐久性に関して最適厚を与えられる。 - 特許庁

Accordingly, an ice layer 9 is formed on the internal surface of the ice-making can, and a thickness of the layer is gradually increased.例文帳に追加

こうして、製氷缶の内面に氷の層９でき、その厚みは次第に増大していく。 - 特許庁

Furthmore, the layer thickness of the undoped GaAs buffer layer 4 is formed 10 nm to 100 nm.例文帳に追加

また、アンドープＧａＡｓバッファ層４の層厚は１０ｎｍ〜１００ｎｍに形成されている。 - 特許庁

The film thickness is calculated from the period, which gives extremum dots to each layer and the refractive index of the layer.例文帳に追加

各層毎に極小点を与える周期とその層の屈折率から膜厚を算出する。 - 特許庁

A crack preventing coating layer with a thickness of 50 μm or less is formed on the outermost surface of a catalyst coating layer.例文帳に追加

触媒コート層の最表面に、厚さが５０μｍ以下の亀裂防止コート層を成形する。 - 特許庁

Total thickness of the inner layer 31 and the intermediate layer 33 is roughly constant along length.例文帳に追加

内層３１と中間層３３との合計厚さは、長手方向に沿ってほぼ一定になっている。 - 特許庁

The thickness of the first metal coating layer 30 is smaller than that of the second metal coating layer 40.例文帳に追加

第１金属被覆層３０の厚みは第２金属被覆層４０の厚みよりも小さい。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a layer having a locally-adapted or predetermined layer thickness characteristics.例文帳に追加

局部的に適合された、又は所定の層厚特性を有する層の製造方法の提供。 - 特許庁

The polishing stopper layer 54 indicates the level at which polishing for controlling the thickness of the magnetic pole layer 16 is stopped.例文帳に追加

研磨停止層５４は、磁極層１６の厚みを制御する研磨の停止位置を示す。 - 特許庁

The polishing stopper layer 13 indicates the level at which polishing for controlling the thickness of the magnetic pole layer 16 is stopped.例文帳に追加

研磨停止層１３は、磁極層１６の厚みを制御する研磨の停止位置を示す。 - 特許庁

The film thickness of the insulating layer 3 is 0.64 nm, and that of the conductive layer 4 is 50 nm.例文帳に追加

絶縁層３の膜厚が０．６４ｎｍであり、導体層４の膜厚が５０ｎｍである。 - 特許庁

The thickness of the inorganic dielectric layer 30 is greater than that of the fluorinated polymer layer 38.例文帳に追加

そして、無機誘電体層３０の厚みは、フッ化高分子層３８の厚みよりも大きい。 - 特許庁

The attachment of the first layer (10) to the second layer (20) defines the overall thickness of a collimator assembly (100).例文帳に追加

第一（１０）及び第二の層（２０）の付着は、コリメータ・アセンブリ（１００）の全厚を画定する。 - 特許庁

This ceramic substrate 1 is provided with an internal electrode area layer 10 and a protecting layer 11 in the thickness direction.例文帳に追加

セラミック基体１は、厚み方向に、内部電極領域層１０と、保護層１１とを有する。 - 特許庁

A thickness of the first semiconductor layer 12n is smaller than that of the second semiconductor layer 13p.例文帳に追加

第１の半導体層１２ｎの厚みは、第２の半導体層１３ｐの厚みよりも薄い。 - 特許庁

Consequently, film thickness uniformity of the transferred red color light-emitting layer and the transferred green color light-emitting layer is improved.例文帳に追加

転写された赤色発光層および緑色発光層の膜厚均一性が向上する。 - 特許庁

Thus, the protective layer 132 having the excellent dispersion characteristic of the additive and the protective layer 132 of a constant thickness Tc is formed.例文帳に追加

添加剤の分散性に優れ厚みＴｃが均一な保護層１３２が形成される。 - 特許庁

Layer thickness of at least one among the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer is within the range of 3 nm to 12 nm.例文帳に追加

フリー強磁性層及びピンド強磁性層の少なくとも一方の層厚は、３ｎｍ〜１２ｎｍの範囲内である。 - 特許庁

In the pattern forming plate, the total layer in the thickness direction or any layer is preferably made a radiation shielding layer by metal, etc.例文帳に追加

パターン形成版は厚み方向の全層又は何れかの層を、金属等で電離放射線遮蔽層とするのも良い。 - 特許庁

An Si layer of the I/O region 15 is an Si epitaxial layer 18 whose thickness is larger than that of the Si layer 13 of the core region 14.例文帳に追加

Ｉ／Ｏ領域１５のＳｉ層は、コア領域１４のＳｉ層１３より厚いＳｉエピタキシャル層１８である。 - 特許庁

Recessed parts or projecting parts are formed in an optical waveguide having a core layer and a clad layer by modulating the thickness of the core layer.例文帳に追加

コア層及びクラッド層を有する光導波路に、コア層の厚みを変調させて凹部又は凸部を形成する。 - 特許庁

It is also preferable that the outermost layer A is formed from the low hardness hard carbon layer in a layer thickness of 2 to 200 nm.例文帳に追加

また、最外層Ａを低硬度硬質炭素層で形成し、その層厚を２ｎｍ〜２００ｎｍとすることが好ましい。 - 特許庁

Since the guide layer having a thickness of about 0.1 μm is built into a superlattice structure, the layer has a low elastic constant, and therefore, can be used as a stress relaxation layer.例文帳に追加

約0.1μmのガイド層は、超格子構造のため弾性定数が低く応力緩和層とすることができる。 - 特許庁

The optical disk has at least a recording layer, a reflective layer, a protective layer, and a print layer on a transparent substrate in this order, wherein total film thickness of the protective layer and the print layer is 20 to 40 μm.例文帳に追加

１．透明基板上に少なくとも記録層、反射層、保護層、印刷層をこの順に有し、保護層と印刷層の合計膜厚が２０〜４０μｍである光ディスク。 - 特許庁

In the stamper, the sensitivity of a resist layer 2 to be formed in an under layer is made smaller than that of a resist layer 3 to be formed in an upper layer and the thickness of the resist layer 3 is made thicker than that of the resist layer 2.例文帳に追加

上層に形成されるレジスト層３の感度より、下層に形成されるレジスト層２の感度を小さくし、レジスト層３の厚さを、レジスト層２の厚さより厚くしている。 - 特許庁

The method for laser marking comprises the steps of forming a thickness of an outer layer 21 of the coating layer thinner than a thickness of an inner layer 22, laser irradiating a marking pattern with the laser irradiating energy corresponding to an energy to be removed in the thickness of the layer 22, and removing the coating layer in the sequence of the layers.例文帳に追加

コーティング層の外層２１の厚みを内層２２の厚みより薄く形成し、内層２２の厚みを除去するエネルギーに相当するレーザー照射エネルギーで、マーキングパターンのレーザー照射をおこない、層順にコーティング層を除去するようにした。 - 特許庁

In the optical article 10, the layer thickness of the primer layer 2 is at least 700 nm, the refractive index of the binder layer 3 is smaller than that of the primer layer 2 and that of the hard coat layer 4, and the layer thickness of the binder layer 3 is at least 35 nm.例文帳に追加

この光学物品１０では、プライマー層２の層厚は少なくとも７００ｎｍであり、バインダー層３の屈折率はプライマー層２の屈折率およびハードコート層４の屈折率よりも低く、さらに、その層厚は少なくとも３５ｎｍである。 - 特許庁

On the other hand, when the frequency 2f is in use, the thickness of the matching layer 2 is λ_2/4 and the thickness of the matching layer 3 is λ_2/4, and the matching layer 3 satisfies the impedance matching condition.例文帳に追加

一方、２ｆを用いるときは、整合層２の厚みはλ_2／２、整合層３の厚みはλ_2／４となり、整合層３がインピーダンス整合条件を満たす。 - 特許庁

The thickness of the 1st layer is desirably controlled to 5 to 500 nm, and the total thickness of the 1st layer and the 2nd layer is desirably controlled to 0.8 to 20 μm.例文帳に追加

前記第１層の厚さは、５〜５００ｎｍであることが望ましく、また前記第１層及び第２層の合計の厚さは、０．８〜２０μｍとすることが望ましい。 - 特許庁

A thickness t2 of the reinforcing layer 7 is within the range of 10 to 80% of the thickness t1 of the back face rubber layer 8 from the back face side of the core wire layer 6 to the belt back face.例文帳に追加

そして、補強層７の厚さｔ２は、心線層６の背面側からベルト背面の間の背面ゴム層８の厚さｔ１の１０％〜８０％とされる。 - 特許庁

The pseudo-lattice matching layer 13 formed between the substrate and the active layer 15 is composed of GaN with film thickness of 1ML (molecular layer) or more and critical film thickness or less to the ZnO substrate 12.例文帳に追加

この基板と活性層１５の間に形成された擬似格子整合層１３は、膜厚が1ML（分子層）以上、ZnO基板１２に対して臨界膜厚以下のGaNからなる。 - 特許庁

In the adhesive rubber layer 11, rubber thickness d1 at the inside rib rubber layer 12 side of the core line 18 is thinner than rubber thickness d2 at the outside rib rubber layer of the core line 18.例文帳に追加

接着ゴム層１１は、心線１８よりも内側リブゴム層１２側のゴム厚さｄ１が心線１８よりも外側リブゴム層１３側のゴム厚さｄ２よりも薄い。 - 特許庁

The conductive layer 35 before the heat treatment is formed as 4-20μm thickness, and the conductive layer 35 of the electromagnetic wave shielding layer after heat treatment is formed as 4-18μm thickness.例文帳に追加

そして、熱処理前における導電層３５を厚さ４〜２０μｍに形成し、熱処理後における電磁波シールド層の導電層３５を４〜１８μｍの厚さとする。 - 特許庁

A Tf/Th design value being the ratio of the whole thickness Tf of the hoop winding layer in the design fiber reinforced resin layer group to the whole thickness Th of the helical winding layer is determined.例文帳に追加

設計繊維強化樹脂層群におけるフープ巻き層の全体厚さＴｆとヘリカル巻き層の全体厚さＴｈとの比であるＴｆ／Ｔｈ設計値を求める。 - 特許庁

The device is provided with a layer thickness regulating blade 6 regulating the layer thickness of the image peeling layer at a position where the belt 1 is opposed to the 2nd heating roll 3, and a ceramic heater 11 heating the blade 6.例文帳に追加

第２の加熱ロールとの対向位置に、画像剥離層の層厚を規制する層厚維持ブレード６と、この層厚維持ブレードを加熱するセラミックヒータ１１とを設ける。 - 特許庁

Meanwhile, most of the thickness d in the liquid crystal layer 19 in a display area S is equal to the thickness between a first electrode layer 14 and a second electrode layer 16.例文帳に追加

一方、表示領域Ｓにおいては、液晶層１９の厚みｄの大部分は第１電極層１４と第２電極層１６との間の厚みとなる。 - 特許庁