「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The second layer 34 has larger thickness than depth of the recessed part 30.例文帳に追加

第二層３４は、前記凹部３０の深さより大きい厚さを有する。 - 特許庁

The initial layer 53 is formed at a thickness of 5 nm with low oxygen partial pressure.例文帳に追加

初期層５３は、低酸素分圧にて５ｎｍの厚さで形成する。 - 特許庁

The thickness of the epitaxial thin layer is preferably 0.5 to 5 μm.例文帳に追加

薄膜のエピタキシャル層の厚さが０．５〜５μｍであることが好ましい。 - 特許庁

In the electroless plating layer, the total thickness t is 20 to 100 nm.例文帳に追加

無電解めっき層はその総厚みｔが２０〜１００ｎｍである。 - 特許庁

The liquid crystal layer 4 differs in cell thickness by sub-pixels SG of respective colors.例文帳に追加

液晶層４は、各色のサブ画素ＳＧごとにセル厚が異なる。 - 特許庁

The density of the stainless wool layer 4 is changed in its thickness direction.例文帳に追加

ステンレスウール層４の密度を、その厚み方向において変化させる。 - 特許庁

To put it concretely, the difference of the thickness between the ceramic single layer region and the electrode forming region is within 10% of the thickness of the ceramic single layer region.例文帳に追加

具体的には、セラミック単層領域と電極形成領域の厚さの差はセラミック単層領域の厚さの１０％以内である。 - 特許庁

A film thickness of the hydrophilic resin layer 5 is 0.5-3 μm.例文帳に追加

親水性樹脂層５は膜厚が０．５μｍ超え３μｍ以下である。 - 特許庁

To uniformalize the layer thickness of a catalyst applied on a solid electrolyte membrane.例文帳に追加

固体電解質膜に塗布された触媒の層厚を均一にする。 - 特許庁

The silicon crystal layer has a second thickness, thinner than the first thickness, before the formation of the nitride semiconductor crystal layer.例文帳に追加

前記シリコン結晶層は、前記窒化物半導体結晶層の形成の前には、前記第１の厚さよりも薄い第２の厚さを有している。 - 特許庁

The thickness of the interposition layer 18 is ≥0.5 mm and ≤2.5 mm.例文帳に追加

この介在層１８の厚みは、０．５ｍｍ以上２．５ｍｍ以下である。 - 特許庁

To correctly detect the thickness of a deposited material layer at the film deposition.例文帳に追加

形成した材料層の厚さを成膜時に正確に検出する。 - 特許庁

A thickness T2 of a nitride layer WN is calculated based on the changing rate of the sonic velocity, making reference to a correlation among the preliminarily found oxide layer thickness T1, the preliminarily found nitride layer thickness T2 and the changing rate of the sonic velocity.例文帳に追加

そして、予め求めてある酸化層厚さＴ_1 及び窒化層Ｗ_N の厚さＴ_2 と音速変化率の相関関係を参照し、音速変化率に基づいて窒化層厚さＴ_2 を算出するのである。 - 特許庁

LAYER THICKNESS REGULATING MEMBER, DEVELOPMENT APPARATUS, IMAGE FORMING DEVICE, AND IMAGE FORMING SYSTEM例文帳に追加

層厚規制部材、現像装置、画像形成装置、画像形成システム - 特許庁

The height of the counter rib 23 is equal to the thickness of the liquid crystal layer 3.例文帳に追加

対向リブ２３の高さが液晶層３の厚みに一致している。 - 特許庁

In the topcoat layer 14, an average thickness Dave is 2-50 nm and a variation ΔD in thickness is 40% or smaller of the average thickness Dave.例文帳に追加

トップコート層１４は、平均厚みＤaveが２ｎｍ〜５０ｎｍであり、かつ厚みのバラツキΔＤが上記平均厚みＤaveの４０％以下である。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the segregation layer is, against the foil thickness t, about the same at the portion from the foil thickness center to both surface sides and is 1/4 or less of t, respectively.例文帳に追加

偏析層の厚さは、箔厚ｔに対して、箔厚中心から両面側に略等しくそれぞれｔ／４以下であるのが望ましい。 - 特許庁

In addition, when the thickness of the whole sound insulating material is denoted as T, it is desirable that the thickness of the sound insulating layer is 0.1T to 0.45T and the thickness of the sound absorption layer is 0.9T to 0.55T.例文帳に追加

また、上記防音材の全体の厚みをＴとすると、上記遮音層の厚みは０．１Ｔ〜０．４５Ｔ、上記吸音層の厚みは０．９Ｔ〜０．５５Ｔであることが好ましい。 - 特許庁

A total film thickness T5 available by adding an average film thickness of the enhance layer 12 and the average film thickness of the first soft magnetic layer 13 together comes to be 19-28 Å.例文帳に追加

前記エンハンス層１２の平均膜厚と前記第１軟磁性層１３の平均膜厚を足した総合膜厚Ｔ５は１９Å以上２８Å以下で形成される。 - 特許庁

When the thickness of the substrate portion 17 is larger than that of the adhesive layer 14, the thickness of the substrate portion 17 is set equal to 65-90% of the thickness of the insulation layer 18.例文帳に追加

基板部１７の厚さが接着剤による接着剤層１４の厚さよりも厚い場合は、絶縁層１８の厚さに対して、基板部１７の厚さが６５％〜９０％とする。 - 特許庁

A thickness of the decorative layer is 0.3-5 mm, a thickness of the base material is 2.5-8 mm, and a total thickness of the decorative layer and the base material is 10 mm or less.例文帳に追加

なお、化粧層の厚みが０．３〜５ｍｍであり、前記基材の厚みが２．５〜８ｍｍであり、かつ化粧層と基材を合わせた厚みが１０ｍｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The thickness D_13 of the semiconductor region 13 is larger than a thickness D_InGaN of the InGaN layer 15, and the thickness D_InGaN of the InGaN layer 15 is 150 nm or more.例文帳に追加

半導体領域１３の厚さＤ_１３はＩｎＧａＮ層１７の厚さＤ_ＩｎＧａＮより大きく、ＩｎＧａＮ層１５の厚さＤ_ＩｎＧａＮは１５０ｎｍ以上を有する。 - 特許庁

A total thickness T3 for which the average thickness of the enhancement layer 12 and the average thickness of the first soft magnetic layer 13 is formed to be ≥25 Å and ≤80 Å.例文帳に追加

前記エンハンス層１２の平均膜厚と前記第１軟磁性層１３の平均膜厚を足した総合膜厚Ｔ３は２５Å以上８０Å以下で形成される。 - 特許庁

Furthermore, when film thickness of a metal layer is defined as t1, film thickness of the resist pattern is defined as t2, and film thickness of an adhesive layer is defined as t3; a condition of t3>t1>t2 is appropriate.例文帳に追加

さらに前記金属層の膜厚をｔ１とし、前記レジストパターンの膜厚をｔ２とし、前記接着層の膜厚をｔ３とした際にｔ３＞ｔ１＞ｔ２とすると好適である。 - 特許庁

The underlying layer formed before the rerecording layer is temporarily formed a predetermined thickness thicker than a desired thickness and then it is removed by dry etching and formed in the desired thickness.例文帳に追加

このとき記録層よりも前に形成される下地保護層を、一旦所望の膜厚よりも所定膜厚だけ厚く形成し、その後、ドライエッチングで除去して所望の膜厚に形成する。 - 特許庁

The polyamide adhesive sheet having a three-layer structure comprises each epoxy-based adhesive layer having ≤25 μm thickness on both sides of an aromatic polyamide film having ≤10 μm thickness and has ≤50 μm total thickness.例文帳に追加

厚み１０μｍ以下の芳香族ポリアミドフィルムの両側にそれぞれ厚み２５μｍ以下のエポキシ系接着層を有し、合計厚みが５０μｍ以下の３層構造のポリアミド接着シート。 - 特許庁

Based on the spectral characteristic measured by either of the monitors 4 and 5, the film thickness of each deposited layer is determined, and the film thickness set value of a layer of a non-deposited film is adjusted based on the film thickness.例文帳に追加

モニタ４，５のいずれかで測定された分光特性に基づいて、成膜された各層の膜厚を決定し、その膜厚に基づいて未成膜の層の膜厚設定値を調整する。 - 特許庁

The method includes a process for forming a transfer sheet 10 by controlling the coating conditions based on the continuous measurement of the film thickness of a coating layer to make the film thickness of the layer constant and to form the release layer 2 and the color layer 7 having a film thickness as designed.例文帳に追加

塗布層の連続した膜厚測定に基づき塗布条件を制御して塗布層の膜厚を一定なものとし、設計値どうりの膜厚の剥離層２、着色層７を形成する転写シート１０形成工程を具備すること。 - 特許庁

The film thickness measuring method includes a process of calculating the film thickness of the second cell layer on the basis of transmissivity at an optional position within the substrate surface where a transparent electrode layer and a photoelectric conversion layer are formed and a transparent electrode layer haze ratio and a first cell layer film thickness measured beforehand.例文帳に追加

透明電極層及び光電変換層が形成された基板面内の任意の位置における透過率と、予め測定された透明電極層ヘイズ率及び第１セル層膜厚とに基づき、第２セル層の膜厚を算出する工程とを含む膜厚計測方法。 - 特許庁

Provided is a support for the plasters, characterized by having a substrate film layer stretchable at ordinary temperature and having a thickness of 5 to 300 μm, a vapor-deposited layer having a thickness of 0.5 to 500 nm and disposed on the substrate film layer, and a protecting layer having a thickness of ≤5 μm and disposed on the vapor-deposited layer.例文帳に追加

常温において伸縮自在な厚さ5〜300μｍの基体フィルム層と、該基体フィルム層上に配置された厚さ0.5〜500ｎｍの蒸着層と、該蒸着層上に配置された厚さ5μｍ以下の保護層を有することを特徴とする貼付剤用支持体である。 - 特許庁

Then, on the liner cylindrical portion 42, 90 (%) or more of the sum of the thickness of the inner hoop layer 54 and the thickness of the outer hoop layer in the mixed layer 56 is arranged within the range of 75 (%) of the fiber reinforced plastics layer adjacent to the liner 40 in a thickness direction of the fiber reinforced plastics layer.例文帳に追加

その際、ライナー円筒部４２上において、繊維強化プラスチック層の厚さ方向についてのライナー４０側の７５（％）以内の範囲内に内層側フープ層５４の厚さと混合層５６における外層側フープ層の厚さとの和の９０（％）以上を配置する。 - 特許庁

Film thickness of the first insulating layer is formed to be 1/3 or less of total film thickness of laminated insulating films.例文帳に追加

前記第１の絶縁層の膜厚は、前記積層の絶縁膜の合計膜厚の１／３以下に形成する。 - 特許庁

Film thickness of the first insulating layer is formed to be 1/3 or less of the total film thickness of a laminated insulating films.例文帳に追加

前記第１の絶縁層の膜厚は、前記積層の絶縁膜の合計膜厚の１／３以下に形成する。 - 特許庁

The wall thickness of the first metal cylinder is preferably about 3-15 mm and the thickness of the ceramic layer is preferably 1 mm or below.例文帳に追加

第1金属円筒の肉厚は好ましくは約3-15mm,セラミックス層の層厚は好ましくは1mm以下である。 - 特許庁

The nitriding treatment is executed so that the thickness of a nitrided layer 14 is controlled to 20 to 40% of the thickness of the whole of the rings 4.例文帳に追加

窒化処理は、窒化層１４の厚さがリング４全体の厚さの２０〜４０％になるように行う。 - 特許庁

The organic EL layer that has been formed has less variation of film thickness among pixels and has high uniformity in film thickness within a pixel.例文帳に追加

形成された有機ＥＬ層は画素間の膜厚むらが小さく、画素内の膜厚均一性が高い。 - 特許庁

A working layer 70 of a material is formed to have a thickness 74 greater than the desired final thickness 78.例文帳に追加

材料の加工層７０は、所望の最終厚さ７８よりも厚い厚さ７４を有するように形成される。 - 特許庁

The ratio of the cumulated thickness of titanium oxide to the cumulated thickness of aluminum oxide in this insulating layer lies below 0.75.例文帳に追加

この絶縁層においては、酸化チタンの累積厚さと酸化アルミニウムの累積厚さの比は０．７５より小さい。 - 特許庁

Further, the thickness of the maximum thickness part outside the effective diameter of the second resin layer is preferably ≥20 μm.例文帳に追加

又、第２の樹脂層の有効径外における最大肉厚部の厚さが２０μｍ以上とすることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the area facing the bridge part of the dielectric layer is smaller than the thickness of the other area.例文帳に追加

誘電体層のブリッジ部に対面する領域の厚さは、その他の領域の厚さよりも薄くなっている。 - 特許庁

The thickness rate of the nitride layer to the board thickness of 0.5% or more is preferable in view of the life, that is, the strength.例文帳に追加

寿命、即ち強度面からは、板厚に対する窒化層厚さ率は０．５％以上が望ましい。 - 特許庁

The thickness of the surface layer 44a is not less than 2% to not more than 10% of the whole thickness of the cast film 44.例文帳に追加

また、表層４４ａの厚みが流延膜４４の総厚みの２％以上１０％以下とする。 - 特許庁

The element protective layer 4 is configured such that its thickness in the diffusion side corner parts 221 is larger than its thickness in the side parts 21.例文帳に追加

素子保護層４は、拡散側角部２２１における厚みが辺部２１における厚みよりも大きい。 - 特許庁

The thickness rate of the nitride layer to the board thickness of 1% or less is preferable in view of the shock absorbing function.例文帳に追加

また、衝撃吸収機能面からは、板厚に対する窒化層厚さ率は１％以下が望ましい。 - 特許庁

The ratio of thickness of the inner layer 40 to thickness of the side wall 6 is set to 30%-80%.例文帳に追加

この内層５０の厚みの、このサイドウォール６の厚みに対する比率は、２０％以上８０％以下である。 - 特許庁