「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

In each of the external layer ceramic green sheet 22, its sheet thickness t2 satisfies relation of t2/t1≤1.53 with respect to the sheet thickness t1 of each of the internal layer green sheets 21.例文帳に追加

外層用セラミックグリーンシート２２は、シート厚みｔ２が、内層用セラミックグリーンシート２１のシート厚みｔ１に対して、ｔ２/ｔ１≦１．５３の関係を満たす。 - 特許庁

A depth of each opening 28A, i.e. a thickness of the resin block layer 28 is larger than a thickness (for example, tens of nm) of the n-type contact layer 27.例文帳に追加

各開口２８Ａの深さ、すなわち、樹脂ブロック層２８の厚さは、ｎ型コンタクト層２７の厚さ（例えば、数十ｎｍ）よりも厚くなっている。 - 特許庁

The particle dispersion layer is contracted to a final thickness by drying.例文帳に追加

この乾燥により、粒子分散層は最終的な厚さまで収縮する。 - 特許庁

Further, the mixed doped GaN layer 6a is ≤25 nm in thickness.例文帳に追加

また、混合ドープＧａＮ層６ａの膜厚は２５ｎｍ以下に形成される。 - 特許庁

The thickness of the plated layer 5 is set to 1-10 μm.例文帳に追加

メッキ層５の厚さは、１μｍ以上、１０μｍ以下に設定されている。 - 特許庁

To planarize a surface by forming an insulation resin layer of a uniform thickness.例文帳に追加

絶縁樹脂層を均一な厚みに形成して表面の平坦化を図る。 - 特許庁

To obtain a stable image by suppressing deformation of developer layer thickness regulating members by use of parts of the housing of the developing device, thereby constantly keeping the layer thickness uniformly.例文帳に追加

現像装置のハウジングの一部により現像剤層厚規制部材の変形を抑制することで、層厚を常に均一にして、安定した画像を得る。 - 特許庁

DEVICE FOR CONTROLLING THICKNESS OF RAW MATERIAL LAYER IN BELL-LESS BLAST FURNACE, AND CONTROLLING METHOD THEREFOR例文帳に追加

ベルレス型高炉の原料層厚の制御装置および制御方法 - 特許庁

Next, a thickness of the silicone rubber layer comprises 11 μm or thicker.例文帳に追加

次にシリコーンゴム層の厚さが１１μｍ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The sound absorbing layer 21 is formed of a silica mat of about 5 mm in thickness.例文帳に追加

吸音層２１は厚さが５ｍｍ程度のシリカマットで形成されている。 - 特許庁

To enable to control the film thickness for obtaining a desired thickness for a lower electrode, while realizing smoothness of the surface of the lower electrode which becomes a ground layer of an organic layer.例文帳に追加

有機層の下地となる下部電極表面の平滑化を図りながら、下部電極に対して所望の厚さを得る膜厚制御を可能にする。 - 特許庁

LAYER THICKNESS REGULATING MEMBER, DEVELOPING DEVICE, IMAGE FORMING APPARATUS AND IMAGE FORMING SYSTEM例文帳に追加

層厚規制部材、現像装置、画像形成装置、及び、画像形成システム - 特許庁

The film thickness of the surface protective layer is preferably not more than 50 nm.例文帳に追加

ここで、表面保護層の膜厚は、５０ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The composite reflective sheet comprising a reflective layer having thickness of 10 to 100 μm and a pressure-sensitive adhesive layer having thermal conductivity of 1W/mK or above and thickness of 10 to 500 μm.例文帳に追加

厚さが１０〜１００μmである反射層と、熱伝導率１Ｗ／ｍＫ以上かつ厚さ１０〜５００μｍの粘着層を含む複合反射シート。 - 特許庁

A layer thickness regulating blade 110 and a pressing plate 120 intersect with each other, and one end of the layer thickness regulating blade 110 is pressed toward a developing roller 10.例文帳に追加

層厚規制ブレード１１０と押圧板１２０は互いに交差する位置関係にあり、層厚規制ブレード１１０の一端は現像ローラ１０に向けて押圧される。 - 特許庁

The thickness of the fine rough surface layer 14 is preferably 1-10 μm.例文帳に追加

微細粗面層１４の厚みは１〜１０μｍであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for controlling the layer thickness of sintering starting material for a sintering machine, which properly controls the layer thickness of the sintering starting material on the entry side of the sintering machine.例文帳に追加

焼結機入側の焼結原料の層厚を適正に制御することができる焼結機の焼結原料層厚制御方法を提供する。 - 特許庁

The ratio (Σd/ΣD) of the total thickness (Σd) of the SiC fiber layer to the total thickness (ΣD) of the diamond sintered compact layer is 0.5≤Σd/ΣD≤1.0.例文帳に追加

ダイヤモンド焼結体層の総厚み（ΣＤ）とＳｉＣ繊維層の総厚み（Σｄ）の比率（Σｄ／ΣＤ）が、０．５≦Σｄ／ΣＤ≦１．０である。 - 特許庁

In this coating method, the thickness of the coating layer is set to 10 μm or less.例文帳に追加

また、前記塗布層が、１０μｍ以下の厚さとする塗布方法である。 - 特許庁

The thickness of the intermediate layer 6 is not less than 0.5 mm and not more than 1.7 mm.例文帳に追加

中間層６の厚みは、０．５ｍｍ以上１．７ｍｍ以下である。 - 特許庁

The mid layer 8 has a thickness of 0.5 mm or greater and 1.6 mm or less.例文帳に追加

中間層８の厚みは０．５ｍｍ以上１．６ｍｍ以下である。 - 特許庁

The ratio A/B between the thickness A(Ad1+Ad2) of the positive electrode mix layer 21b and the thickness B(Bd1+ Bd2) of the negative mix layer 22b is made 0.92 or above.例文帳に追加

正極合剤層２１ｂの厚みＡ（Ａｄ_1 ＋Ａｄ_2 ）と負極合剤層２２ｂの厚みＢ（Ｂｄ_1 ＋Ｂｄ__2 ）との比（Ａ／Ｂ）は０．９２以上となっている。 - 特許庁

The thermal wettability function of the recording layer is not deteriorated even in the case of a thickness of 0.02 μm but the thickness of the recording layer is desirably 0.1 μm or more in consideration of the strength of a film.例文帳に追加

記録層の感熱濡れ性機能は厚みが０.０２μｍでも劣化しないが、被膜強度を考慮すると０.１μｍ以上が望ましい。 - 特許庁

In addition, thickness d1 of the base layer is within a range of 50 μm≤d1≤150 μm and thickness d2 of the surface layer is within a range of 0.1 μm≤d2≤5.0 μm.例文帳に追加

又、基層厚さｄ１は、５０μｍ≦ｄ１≦１５０μｍの範囲であり、且つ、表面層の厚さｄ２は、０．１μｍ≦ｄ２≦５．０μｍの範囲である。 - 特許庁

The Al2O3 layer has an average crystal particle diameter (s) of 0.01-4 μm, when the thickness d is 0.5-25 μm, and the Al2O3 layer further has an average crystal particle diameter (s) of 0. 01-10 μm, when the thickness d is 25-50 μm.例文帳に追加

また、Ａｌ_2Ｏ_3層は、厚さｄが0.5μm≦ｄ≦25μmの場合、平均結晶粒径（ｓ）は0.01μm≦ｓ≦4μm、25μm＜ｄ≦50μmの場合、0.01μm≦ｓ≦10μmとする。 - 特許庁

The thickness of the conductor layer is set, for example, to 0.2 nm to 60 nm.例文帳に追加

導電体層の厚さは例えば０．２ｎｍ以上６０ｎｍ以下とする。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING FILM THICKNESS OF SEMICONDUCTOR LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体層の膜厚測定方法及び半導体基板の製造方法 - 特許庁

The capacitance of the capacitor device is determinted by the dielectric constant and the thickness of the first dielectric layer 226, and the second dielectric constant and the thickness of the second dielectric layer 230.例文帳に追加

コンデンサ装置のキャパシタンスは、第１の誘電層２２６の誘電率及び厚み、第２の誘電層２３０の誘電率及び厚みによって決まる。 - 特許庁

The thickness of the energy ray curing viscoelastic layer is about 5-300 μm.例文帳に追加

エネルギー線硬化型粘弾性層の厚さは５〜３００μｍ程度である。 - 特許庁

An upper layer inductor is formed with the use of metal wiring 1 with a larger film thickness.例文帳に追加

膜厚の厚い金属配線１により上層インダクタ部を形成する。 - 特許庁

The thickness of this reinforcing layer 14 is set to 0.5 mm to 1.0 mm.例文帳に追加

この補強層１４の厚みは、０．５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下である。 - 特許庁

Thereby thickness of an air layer on a top surface of the disk is decreased.例文帳に追加

それによって、ディスク上面の上の空気層の厚さを減少させる。 - 特許庁

A thickness of the layer may be formed in a range from several μm to several tens of μm.例文帳に追加

層厚は、数μｍから数十μｍに形成されていればよい。 - 特許庁

The film thickness of the Y_2O_3 barrier layer is desirably 50 nm to 5 μm.例文帳に追加

前記Ｙ_２Ｏ_３バリア層の膜厚は、好ましくは、５０ｎｍ〜５μｍである。 - 特許庁

The thickness of a coating 2 coating the abrasive grain layer ranges from 0.005 to 0.5 mm.例文帳に追加

砥粒層に被覆する皮膜２の厚さは、０．００５〜０．５ｍｍとする。 - 特許庁

Here, the thickness of the SOI layer 37 in the source/drain region is 75 nm.例文帳に追加

尚、ソース・ドレイン領域におけるＳＯＩ層３７の厚みは７５nmである。 - 特許庁

The average thickness of the fluorine-based coating layer is preferably 15-250 μm.例文帳に追加

フッ素系樹脂被覆層の平均厚みは15〜250μmとすることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the layer 2 varies with position, and silicon is subjected to laser annealing.例文帳に追加

層２の厚さを位置により異なるものとして、シリコンをレーザーアニールする。 - 特許庁

To improve positioning accuracy of a regulating member for regulating layer thickness of toner.例文帳に追加

トナーの層厚を規制する規制部材の位置決め精度を向上させる。 - 特許庁

The raio (t1:t2) between the thickness of a coating layer of the fuel kernel, having a small diameter and the thickness of a coating layer of the fuel kernel having a large diameter, satisfies the relation t1:t2=1:2.5 or larger.例文帳に追加

小さな直径の燃料核と大きな直径の燃料核の被覆層の厚みの比(ｔ１：ｔ２)をｔ１：ｔ２＝１：２．５以上とする。 - 特許庁

If such a layer is present even only one, the step S3 is carried out to change the film thickness of the lower most layer of the aforementioned layers into a measurable film thickness.例文帳に追加

このような層が１層でもある場合は、ステップＳ３に移行し、このような層のうち最下層の膜厚を、膜厚測定が可能な膜厚に変更する。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the GaN layer 5 is 900 nm and more.例文帳に追加

また、ＧａＮ層５の厚さは、９００ｎｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the copper plated layer is 50-200 μm, the depth of the gravure cells is 1-150 μm, and the thickness of the iron-phosphor alloy plated layer is 0.1-15 μm.例文帳に追加

前記銅メッキ層の厚さが５０〜２００μｍ、前記グラビアセルの深度が１〜１５０μｍ、及び前記鉄—リン合金メッキ層の厚さが０．１〜１５μｍである。 - 特許庁

Film thickness of the p-type a-Si:H layer 5 is 50 to 200 Å.例文帳に追加

このｐ型ａ−Ｓｉ：Ｈ層５の膜厚は５０〜２００Åである。 - 特許庁

The thickness of the intermediate layer 6 is not less than 0.5 mm and not more than 1.6 mm.例文帳に追加

中間層６の厚みは、０．５ｍｍ以上１．６ｍｍ以下である。 - 特許庁