「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The recording medium has the interfacial layer 3 having the film thickness as ≥0.25 and ≤0.67 time as the total thickness of a first protective layer 2 and the interfacial layer and containing tantalum (Ta) and oxygen (O).例文帳に追加

界面層３の膜厚が、第１保護層２と界面層３の合計の０．２５以上０．６７以下であり、かつ界面層３はタンタル（Ｔａ）と酸素（Ｏ）を含有する記録媒体とする。 - 特許庁

The thickness of the second paste layer 32 and third paste layer 32 is of 1/10 of the thickness of the first paste layer 31 or smaller, and a viscosity of each paste layers is 10 to 100 Pa s.例文帳に追加

第２ペースト層３２及び第３ペースト層３３の厚さを、第１ペースト層３１の厚さの１／１０以下とし、各ペースト層の粘度の範囲は、１０〜１００Ｐａ・ｓとされる。 - 特許庁

The layer of the seal material is formed such that the layer thickness becomes smaller than the thickness of the liquid crystal layer in the portion corresponding to the display area when the first substrate and the second substrate are bonded together.例文帳に追加

シール材は、第１の基板と第２の基板とを貼り合わせたときの層の厚さが、表示領域に相当する部分の液晶の層の厚さより薄くなるように形成する。 - 特許庁

This resin film coated aluminum panel is obtained by controlling the melting point of the adhesive layer, a surface layer thickness ratio and an adhesive layer thickness ratio, and the temperature condition of two heating pressure bonding processes.例文帳に追加

このような樹脂被覆アルミニウム板は、接着層の融点、表層厚比と接着層厚比、加熱圧着の２工程の温度条件を制御する事によって得られる。 - 特許庁

Further, an insulating film 40 to adjust thickness of a liquid crystal layer (a liquid crystal layer thickness adjusting layer) and a protrusion 18 for controlling alignment (an alignment controlling means) are laminated on the color filter 22R.例文帳に追加

そして、このカラーフィルタ２２Ｒの上に液晶層厚調整用の絶縁膜（液晶層厚調整層）４０と配向規制用の突起（配向制御手段）１８を積層する。 - 特許庁

Further, the nitride semiconductor layer 20 formed on the n-type GaN substrate 10 has: a layer thickness-inclined region 5 decreasing in layer thickness inclinedly toward the dug region 5; and a light-emitting part formation region 6 having extremely small variation in layer thickness.例文帳に追加

また、ｎ型ＧａＮ基板１０上に形成された窒化物半導体層２０は、掘り込み領域３に近づくにしたがって層厚が傾斜的に減少する層厚傾斜領域５と、層厚変動の非常に小さい発光部形成領域６とを有している。 - 特許庁

The distance (in the layer thickness direction) between the edge face current block layer 7 and a window region becomes nearly equal to the thickness of the first upper clad layer 4, and as the thickness of the clad layer 4 is comparatively small, an ineffective current flowing from a current block part to a window region is restrained enough.例文帳に追加

端面電流阻止層７から窓領域までの距離（層厚方向）は第１上クラッド層４の層厚にほぼ等しくなり、その層厚が比較的薄いので、電流阻止部から窓領域に流れる無効電流が十分に抑制される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a covered roller or a belt which tends to generate little partial thickness in a rubber layer, capable of forming the rubber layer having a uniform thickness, even if the rubber layer is thin, capable of imparting the thickness distribution in the shaft direction to the rubber layer when necessary, and is superior in productivity.例文帳に追加

ゴム層に偏肉が生じ難く、薄くても均一な厚みのゴム層を形成することができ、必要に応じてゴム層に軸方向での厚み分布をもたせることができ、生産性に優れた被覆ローラまたはベルトの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The problem is solved by interposing an alloy layer of 0.01-10 μm in thickness between the base material and the Al layer, and setting the aluminum layer to have a thickness which is at least 1 μm and is equal to or less than the thickness of the metal base material.例文帳に追加

基材とＡｌ層との間に厚さが０．０１〜１０μｍの合金層が存在し、さらに、前記アルミニウム層の厚さが、１μｍ以上で、かつ、前記金属基材の厚さ以下であることにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

In such a case, the thickness A of the lower part Ti layer is ≥10 and ≤30 nm, the thickness B of the intermediate metal layer 4 is ≥35 and ≤65 nm, and the thickness C of the upper part Ti layer 5 is ≥10 and ≤30 nm.例文帳に追加

ここで、下部Ｔｉ層３の厚さＡは、１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下であり、中間金属層４の厚さＢは、３５ｎｍ以上、６５ｎｍ以下であり、上部Ｔｉ層５の厚さＣは、１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以下である。 - 特許庁

A liquid crystal layer of a liquid crystal display element is divided into two or more areas where the liquid crystal layer is different in thickness in one pixel, and has the relation that the minimum thickness of the liquid crystal layer is 0.2 to 0.8 time as large as the maximum thickness.例文帳に追加

液晶表示素子の液晶層を、１画素内で液晶層の厚さが異なる２つ以上の領域に分割し、さらに液晶層の最小厚さが最大厚さの０．２〜０．８倍の関係を満たすようにした。 - 特許庁

This packaging material is characterized in that a total thickness of the co-extrusion layer is 90 μm or more, a thickness of the sealant resin layer at the inner-most surface is 50 μm or more, the barrier layer is made of metallic foil and its thickness is 7-20 μm.例文帳に追加

共押出層の全厚が９０μｍ以上であり、最内面のシーラント樹脂層の厚さが５０μｍ以上であり、かつ、バリア層が金属箔からなり、厚さが７μｍ〜２０μｍであることを特徴とする包装材。 - 特許庁

A phosphor layer 1008 having a thickness of about 20 μm and an aluminium metal back layer 1009 having a thickness of about 1,000 Å for covering the phosphor layer 1008 are formed on the inner face of a face plate 1007 made of soda-lime glass, having a thickness of 3 mm.例文帳に追加

ソーダライムガラス製で３ｍｍ厚のフェイスプレート１００７の内面には約２０μｍ厚の蛍光体層１００８と、蛍光体層を覆うように約１０００Å厚のアルミメタルバック層１００９が形成されている。 - 特許庁

The inner layer thickness is 0.01 mm or more and the outer layer thickness is 5 to 200 times of the inner layer thickness, and the electric conduction material is added to the first resin material so that the face resistance value becomes 10^4 to 10^10 Ω.例文帳に追加

内層の肉厚は、０．０１ｍｍ以上であり、外層の肉厚は、内層の肉厚の５〜２００倍であり、記第１樹脂材料は、面抵抗値で１０^４〜１０^１０Ωとなるように導電材料が添加されている。 - 特許庁

The photosensor has a structure of three layers consisting of a first layer silicon oxide film (SiO2) 21 having a thickness of 1.12 μm, a second layer polysilicon oxide film (Poly-Si) 22 having a thickness of 0.5 μm, and a third layer silicon oxide film 23 having a thickness of 1.12 μm.例文帳に追加

厚さが１．１２μｍである第１層目のシリコン酸化膜(SiO2)２１と、厚さが０．５μｍである第２層目のポリシリコン膜(Poly-Si)２２と、厚さが１．１２μｍである第３層目のシリコン酸化膜２３とよりなる３層の構成である。 - 特許庁

Thereafter, the thickness profile of a substrate wafer is measured over its entire area, the measured thickness profile is added to each of the layer thickness profiles measured under the various different layer formation conditions and stored, and the flatness of manufactured wafers manufactured under the various different layer formation conditions are predicted.例文帳に追加

その後、素材ウェーハの全域での厚み形状を測定し、それに、記憶しておいた種々の成膜条件下での膜厚形状をそれぞれ加算して、種々の成膜条件下での製品ウェーハの平坦度を予測する。 - 特許庁

The IMC has good adhesion on the copper pillar structure, the thickness of the IMC is controllable by the thickness of the copper cap layer, and the diffusion barrier layer limits diffusion of copper from the copper pillar layer to the solder layer.例文帳に追加

ＩＭＣは銅柱構造上で良好な接合性を有し、ＩＭＣの厚さは銅キャップ層の厚さで制御することができ、拡散バリア層は銅柱層からはんだ層への銅の拡散を抑制する。 - 特許庁

An advertizing image of a first layer (an under layer) is formed with the ink 1a of thinner capsular wall thickness, and an advertizing image of a second layer (a top layer) is formed with the ink 1b of thicker capsular wall thickness on a wall or the like of an exterior wall.例文帳に追加

外壁の壁等にカプセル壁の厚さがより厚いインク１ａで第１層（下層）の広告画像を形成し、カプセル壁の厚さがより薄いインク１ｂで第２層（上層）の広告画像を形成する。 - 特許庁

When the sealing resin layer is pressed in the direction from the sealing resin layer to the lens resin layer to regulate the thickness of the sealing resin layer, the thickness of the sealing resin is controlled according to change in the form of the additional pattern.例文帳に追加

封止樹脂層側からレンズ樹脂層に向かう方向に封止樹脂層を押圧して封止樹脂層の厚さを規定する際、付加パターンの形状の変化に応じて封止樹脂の厚さを規定する。 - 特許庁

Furthermore, the first protective layer 8 and the second protective layer are formed to almost the same film thickness, and the first lubrication layer 9 and the second lubrication layer are formed to almost the same film thickness.例文帳に追加

さらには、第１の保護層８の膜厚と第２の保護層の膜厚とを互いにほぼ等しくするとともに、第１の潤滑層９の膜厚と第２の潤滑層の膜厚とを互いにほぼ等しくする。 - 特許庁

Owing to the allocation of the inner circumferential sound absorbing layer 15a and the outer circumferential sound absorbing layer 15b, the thickness of the sound absorbing layer 15 located to the connecting part 12b is smaller than the thickness of the sound absorbing layer 15 located to the bent pipe part 12a.例文帳に追加

こうした内周吸音層１５ａ及び外周吸音層１５ｂの配置により、連結部１２ｂに位置する吸音層１５の厚みは、曲管部１２ａに位置する吸音層１５よりも薄く構成されている。 - 特許庁

Thickness distribution of the Si layer 11 and the Mo layer 12 of the Mo/Si mutual layer 20 is determined by optimality treatment for expanding angle reflecting property of the Mo/Si mutual layer of fixed thickness of basic structure.例文帳に追加

基本構造である一定膜厚のＭｏ／Ｓｉ交互層の角度反射特性を拡大するための最適化処理によって、Ｍｏ／Ｓｉ交互層２０のＳｉ層１１とＭｏ層１２の膜厚分布を決定する。 - 特許庁

The liquid crystal layer 7 has a layer thickness d1 and a layer thickness d2 which are different from each other and intensity values of the electric field are different partially in the liquid crystal layer 7 by forming the surface of e.g. the second transparent electrode 4 in a rugged shape.例文帳に追加

例えば、第二透明電極４の表面を凹凸状とすることで、液晶層７の層厚がｄ１，ｄ２と部分的に相違され、液晶層７における電界強度が部分的に相違される。 - 特許庁

In concrete form, an elastic layer having a hardness of 15-40° and a thickness of 0.05-0.2 mm is disposed as a surface layer of a transfer roller, and an elastic layer having a hardness of 60-80° and a thickness of 0.5-5.0 mm is disposed as an inner layer.例文帳に追加

より具体的には、転写ローラの表面層として硬度が１５〜４０°で厚さが０．０５〜０．２ｍｍの弾性層を設け、内部層に硬度が６０〜８０°で厚さが０．５〜５．０ｍｍの弾性層を設ける。 - 特許庁

Then, on the basis of these time differences, a thickness from the optical disk surface to a 1st cover layer and a thickness of the cover layer from the optical disk surface including the 1st reflective layer to the 2nd reflective layer are respectively detected.例文帳に追加

そして、これら時間差に基づいて、光ディスク表面から第１のカバー層までの厚さ、及び同第１反射層を含む光ディスク表面から第２の反射層までのカバー層の厚さを各々検出する。 - 特許庁

The partially reflecting layer 13 of a VIPA 10 as an optical component includes a first reflecting layer 13a and a second reflecting layer 13b whose layer thickness is smaller than that of the first reflecting layer 13a.例文帳に追加

光部品としてのＶＩＰＡ１０の部分反射層１３は、第１の反射層１３ａと、第１の反射層１３ａよりも層厚の薄い第２の反射層１３ｂと、を含む。 - 特許庁

Then an amorphous silicon layer 5a, having a thickness of 1 μm, is formed on the Ni layer (step 203), and the silicon layer 5a is crystallized into a crystalline silicon layer 5b by heat-treating the layer 5a for six hours in a nitrogen atmosphere, maintained at 600°C (204).例文帳に追加

次に、６００℃の窒素雰囲気中で６時間熱処理を行い、非晶質シリコン層５ａを結晶化して結晶シリコン層５ｂに変換する（ステップ２０４）。 - 特許庁

The molar ratio (inner layer/outer layer) of the alkali metals in the adsorption removal inner layer and outer layer ranges from 1/1 to 1/5 and the adsorption removal inner layer has 10 to 200 μm thickness.例文帳に追加

吸着浄化内層及び外層に含まれるアルカリ金属等のモル比（内層／外層）が１／１〜１／５０であり、吸着浄化内層の厚さが１０〜２００μｍである。 - 特許庁

In the DLC coating film having a top layer whose hardness is almost fixed in a thickness direction, the surface of the top layer is provided with an overlay layer, and the hardness of the overlay layer is reduced compared with that of the top layer.例文帳に追加

硬度が厚み方向に略一定であるトップ層を有するＤＬＣコーティング膜において、トップ層上にオーバレイ層を備え、オーバレイ層の硬度がトップ層より低下している。 - 特許庁

This transparent conductive material is formed by laminating an intermediate refractive index layer (B) having a layer thickness in optical film thickness of 100-175 nm and a conductive layer (C) having a layer thickness in optical film thickness of 10-60 nm in order from a substrate side directly or through one or more layers on one surface or booth surfaces of a substrate (A).例文帳に追加

透明導電材料は、基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）、層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）が積層されたものである。 - 特許庁

Furthermore, an outermost layer 37 formed of Au having a thickness smaller than that of the intermediate layer 36 is formed on a surface of the intermediate layer 36.例文帳に追加

さらに、中間層３６の表面には、中間層３６よりも薄い膜厚のＡｕからなる最表面層３７が形成される。 - 特許庁

An inclination composition layer 104 of about 5 to 100 nm film thickness is formed between the base layer 103 and the active layer 105.例文帳に追加

ベース層１０３と活性層１０５との間には、膜厚が約５ｎｍ〜約１００ｎｍの傾斜組成層１０４が形成されている。 - 特許庁

On the buffer layer 11, an electron transit layer 12 and an electron supply layer 13 are formed, and a total film thickness thereof is ≥1 μm.例文帳に追加

バッファ層１１上には、電子走行層１２と電子供給層１３が形成されており、その総膜厚は１μｍ以上である。 - 特許庁

The field insulation layer 50 includes a step 51 to reduce the thickness on the gate insulation layer 60 side in a part where the field insulation layer 50 overlaps the gate electrode 40.例文帳に追加

フィールド絶縁層５０はゲート電極４０と重なる部分で、ゲート絶縁層６０側が薄くなるような段差５１を有する。 - 特許庁

Then the thickness of the 2nd substrate 1 is thinned so that a remaining layer area 5 including a silicon layer which becomes an SOI layer 10 is left.例文帳に追加

その後、ＳＯＩ層１０となるべきシリコン層領域を含む残留層領域５を残す形で、第二基板１を減厚する。 - 特許庁

In each optical fiber sensing unit, the cladding layer is located at the perimeter of the core layer, and the maximum depth of the conduits is larger than thickness of the cladding layer.例文帳に追加

各光ファイバーセンシングユニットにおいて、クラッド層はコア層の周囲に位置し、溝の最大深さはクラッド層の厚さより大きい。 - 特許庁

Specifically, the hologram is recordable in the dye layer 3 by properly choosing the layer thickness and the refractive index of the gap layer 4.例文帳に追加

すなわち、ギャップ層４の膜厚や屈折率を適当に選ぶことによって、ホログラムを色素層３に記録することが可能となる。 - 特許庁

The second conductor layer 29 has a second electroplated layer 37 on its upper side which is formed as the surface of the second conductor layer 29, and which has a nearly constant thickness.例文帳に追加

また、第２導体層２９のうち導体層表面をなす上方の第２電解メッキ層３７は、ほぼ均一な厚さである。 - 特許庁

To form an AlGaN layer having such a thickness that the layer can sufficiently function as a crystal growing base layer with a low defect density.例文帳に追加

結晶成長下地層として充分に機能する程度の厚みを有する低欠陥密度のＡｌＧａＮ層を形成すること。 - 特許庁

Moreover, the electromagnetic wave shielding filter is provided with a base layer and a metal layer of a mesh pattern of a uniform thickness arranged on the base layer.例文帳に追加

さらに、電磁波遮蔽フィルターはベース層と、ベース層上に均等の厚さを持って配置されたメッシュパターンの金属層とを含む。 - 特許庁

Thermal conductivity of the ion layer is enhanced by the thickness of the ion layer and through use of a heat absorption source (26) fixed to the ion layer.例文帳に追加

イオン層からの熱伝導性はイオン層の薄さにより及びイオン層に取り付けられた吸熱源（２６）の使用により向上される。 - 特許庁

The anodic oxidation alumina film includes a nano-hole layer and the barrier layer in the bottom, wherein the barrier layer in the bottom has a thickness of 200 nm or more.例文帳に追加

その陽極酸化アルミナ膜はナノホール層と底部バリア層とを含み、その底部バリア層の厚さが２００ｎｍ以上である。 - 特許庁

A spacer layer 4 formed around a display layer 3 has layer thickness equivalent to a diameter R1 of a microcapsule 7 or more.例文帳に追加

表示層３の周囲にあるスペーサ層４がマイクロカプセル７の直径Ｒ１と同等であるかそれ以上の層厚を有するものとした。 - 特許庁

The thickness of the silicon crystal layer is reduced by making at least a portion of the silicon crystal layer incorporated into the nitride semiconductor crystal layer.例文帳に追加

シリコン結晶層の少なくとも一部を窒化物半導体結晶層に取り込ませ、シリコン結晶層の厚さを減少させる。 - 特許庁

The pad 10 has a cellular polymeric layer 3 overlying a conductive substrate 5 and having a thickness less than 1.5 mm, the cellular polymeric layer having a thickness less than 0.5 mm, and the conductive substrate has a thickness of 0.07-0.38 mm.例文帳に追加

パッド１０は、導電性基材５の上に重なる厚さ１．５mm未満の多孔性ポリマー層３を有し、多孔性ポリマー層の厚さが０．５mm未満、導電性基材の厚さが０．０７mm〜０．３８mmである。 - 特許庁