「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The ratio (Tr/Tc) of the thickness Tr of the reinforcing layer to the thickness Tc of the cover is ≥0.005 and ≤3.0.例文帳に追加

カバーの厚みＴｃに対する補強層の厚みＴｒの比（Ｔｒ／Ｔｃ）は、０．００５以上３．０以下である。 - 特許庁

The ratio of the thickness Tm of the intermediate layer 5 to the thickness Tc of the cover 6 (Tm/Tc) is from 0.5 to 4.0.例文帳に追加

カバー６の厚みＴｃに対する中間層５の厚みＴｍの比（Ｔｍ／Ｔｃ）は、０．５以上４．０以下である。 - 特許庁

A ratio that thickness To of the outer layer 24 occupies in thickness Ts of the side wall 8 is 25 to 50%.例文帳に追加

外側層２４の厚みＴｏがサイドウォール８の厚みＴｓに占める比率は、２５％以上５０％以下である。 - 特許庁

Thickness TB of the inner layer part 13 is made 0.3 times to 0.8 times the total thickness T0 of the side wall rubber 10.例文帳に追加

又内層部１３の厚さＴＢは、サイドウォールゴム１０の総厚さＴ０の０．３倍以上かつ０．８倍以下とした。 - 特許庁

The ratio (Tr/Tc) of thickness Tr of the reinforcement layer to the nominal thickness Tc of the cover is 0.005-3.0.例文帳に追加

カバーの公称厚みＴｃに対する補強層の厚みＴｒの比（Ｔｒ／Ｔｃ）は、０．００５以上３．０以下である。 - 特許庁

A thickness t2 of the heat insulating air layer 7b is set to 28-44% of a total thickness t1 of the covering body 7.例文帳に追加

断熱空気層７ｂの厚さｔ２は、被覆体７の全厚さｔ１の２８％〜４４％に設定される。 - 特許庁

The ratio of the thickness of the inner layer 26 to the thickness of the apex 22 is 40% or more and 60% or less.例文帳に追加

このエイペックス２２の厚みに対するこの内層２６の厚みの比率は、４０％以上６０％以下である。 - 特許庁

Thickness of the bonding metal layer 120 is adjusted to 50 μm, and the thickness of the wiring metal plate 130 is adjusted to 0.4 mm.例文帳に追加

例えば、接合金属層120は厚さが50μmに調整されており、配線金属板130は厚さ0.4mmに調整されている。 - 特許庁

Next, an electron transport layer 5 is formed in film thickness of about 20 nm, and an negative electrode 6 is formed in film thickness of about 100 nm.例文帳に追加

次に、電子輸送層５を膜厚約２０ｎｍに形成し、陰極６を膜厚約１００ｎｍに形成する。 - 特許庁

The p-type window layer 8 has a thickness of several μm-several hundreds μm, preferably, a thickness of about 30 μm-300 μm.例文帳に追加

ｐ型ウインドウ層８は、数μｍ〜数百μｍ、好ましくは約３０μｍ〜約３００μｍの厚みを有する。 - 特許庁

The thickness of the oxide layers may be from about 0.5 to about 33 percent of the thickness of the oxide layers and the layer of dielectric material.例文帳に追加

酸化膜層の厚みは、酸化膜層と誘電体材料層の約０．５から約３３パーセントであってよい。 - 特許庁

Then, the SOI layer is thinned to a target thickness with a unit of a predetermined thickness not larger than that of the one lattice.例文帳に追加

その後、ＳＯＩ層を１格子分又はそれ未満の所定厚さを単位として目標膜厚になるまで薄化する。 - 特許庁

Only the mask is required as equipment, while a layer with uniform film thickness can be formed since film thickness can be controlled easily.例文帳に追加

必要な機材はそのマスクだけであり、膜厚の制御が容易で、均一な膜厚の層を形成することができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the photoelectric conversion device includes a process of calculating the film thickness of the second cell layer at the optional position within the substrate surface on the basis of the film thickness measuring method and a process of adjusting a second cell layer film forming condition when the film thickness of the second cell layer is out of an allowable film thickness range.例文帳に追加

該膜厚計測方法に基づき、基板面内の任意位置における第２セル層の膜厚を算出する工程と、第２セル層の膜厚が許容膜厚範囲から外れる場合に、第２セル層製膜条件を調整する工程とを含む光電変換装置の製造方法。 - 特許庁

Since a color layer (212) is disposed to the whole of the reflection display region and a transmission display region, the layer thickness of the color layer in the transmission display region is thicker than the layer thickness of the color layer in the reflection display region.例文帳に追加

そして、反射表示領域と透過表示領域の全体に対して着色層（２１２）が配置されるので、透過表示領域における着色層の層厚は、反射表示領域における着色層の層厚よりも大きくなる。 - 特許庁

An instantaneous subsidence amount and a consolidation subsidence amount of the first layer are calculated by using a thickness of the specified first layer, and the instantaneous and consolidation subsidence amounts of each layer are calculated by using thickness of each of the specified layers up to the specified n-th layer except the first layer are calculated.例文帳に追加

特定した第一層の層厚を用いて第一層の即時沈下量、圧密沈下量を計算し、第一層を除く特定した第ｎ層までの層について層厚を用いて層毎に即時沈下量、圧密沈下量を計算する。 - 特許庁

In the laminated polyolefin film in which an adhesive layer B, a uniaxially oriented layer C, and a heat seal layer D are laminated in turn at least on one side of a biaxially oriented layer A, the thickness of the uniaxially oriented layer C is 15-40% of the total thickness.例文帳に追加

二軸延伸層（Ａ）の少なくとも片面に接着層（Ｂ）、一軸延伸層（Ｃ）、ヒートシール層（Ｄ）の順に積層されたフィルムであって、（Ｃ）層の厚みが全体の１５〜４０％である事を特徴とするポリオレフィン系積層フィルム。 - 特許庁

In the magnetic recording medium having an under coating layer and a magnetic layer provided on one surface of a non-magnetic substrate and a back coating layer provided on the other surface, the magnetic layer and the under coating layer are specified to have ≤0.09 μm thickness and ≤0.9 μm thickness, respectively.例文帳に追加

非磁性支持体の一方の面に下塗層および磁性層を設け、他方の面にバックコート層を設けてなる磁気記録媒体において、磁性層の厚さを0.０９μｍ以下、下塗層の厚さを0.９μｍ以下にそれぞれ設定する。 - 特許庁

Besides, the resin-coated steel pipe for backfill and the joint thereof having the adhesive layer on the outer surface of the steel pipe, having a polyolefin layer of the film thickness of 1.5 mm or above outside the adhesive layer and further having a polypropylene layer of the film thickness of 2.0 mm or above outside the polyolefin layer, are provided.例文帳に追加

また、鋼管の外面に接着層を有し、その外側に膜厚１．５ｍｍ以上のポリオレフィン層を有し、更にその外側に膜厚２．０ｍｍ以上のポリプロピレン層を有した埋め戻し用樹脂被覆鋼管およびその継手。 - 特許庁

The average layer thickness of a surface layer 44 in an area A from a position of 3% to a position of 10% in terms of axial length of the surface layer 44 from the end part of the discharge area of the surface layer 44 is made larger than the average layer thickness of the center side thereof.例文帳に追加

表面層４４の放電領域の端部より表面層４４の軸方向の長さの３％の位置から１０％の位置までの領域Ａの表面層４４の平均層厚が中央側の平均層厚より厚くされている。 - 特許庁

The oscillation element is equipped with the resonant tunneling diode constituted by interposing a gain medium constituted by including a first barrier layer, a quantum well layer 11, and a second barrier layer between a first thickness adjustment layer 9 and a second thickness adjustment layer 13.例文帳に追加

発振素子は、第1の障壁層と量子井戸層11と第2の障壁層とを含み構成される利得媒質を、第1の厚さ調整層9と第2の厚さ調整層13との間に介在させて構成されている共鳴トンネルダイオードを備える。 - 特許庁

In the expression, n is a thickness of the organic layer.例文帳に追加

４００［Å］≦Ｌ≦ｎ×３［Å］（ただし、ｎは、有機層の厚さを示す。） - 特許庁

The thickness of the boron-containing graphite coated layer is preferably 10-500 nm.例文帳に追加

上記ホウ素含有黒鉛被覆層の厚みは１０〜５００ｎｍが好ましい。 - 特許庁

The intermediate layer (12) is made of a biaxially drawn polypropylene film preferably 20 to 40 μm in thickness.例文帳に追加

二軸延伸ポリプロピレンフィルムの厚さは２０〜４０μｍ程度が好ましい。 - 特許庁

To provide an organic EL display element having a functional layer of a uniform membrane thickness.例文帳に追加

膜厚が均一な機能層を有する有機ＥＬ素子を提供すること。 - 特許庁

Preferably the thickness of the upper heat sensitive layer is ≤0.4 g/m^2.例文帳に追加

ここで、上部感熱層の膜厚が０．４ｇ／ｍ^2以下であることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the group third-fifth compound semiconductor layer 14 is equal to or less than 0.2 μm.例文帳に追加

III−Ｖ族化合物半導体層１４の厚さは０．２μｍ以下である。 - 特許庁

The second depth is 0.4 when the thickness of the semiconductor layer 12 is defined as 1.0.例文帳に追加

第２深さは、半導体層１２の厚みを１．０としたときに０．４である。 - 特許庁

To enable a porous silicon layer to be easily controlled in thickness and distribution of porosity or the like.例文帳に追加

多孔質シリコン層の厚さや多孔度等の分布の制御を容易にする。 - 特許庁

In the condition (c), the thickness of the surface transparent layer 106 is 50-200 μm.例文帳に追加

（ｃ）前記表面透明層１０６の厚みが５０μｍ〜２００μｍである。 - 特許庁

(3) In this case, the thickness of the phase change layer B is 0.5-3.0 g/m2.例文帳に追加

上記 又は において、相変化層Ｂの膜厚が０．５〜３．０ｇ／ｍ^2である。 - 特許庁

To form an alignment layer having no irregular film thickness on an electrode substrate having a spacer.例文帳に追加

スペーサ付き電極基板上に膜厚ムラのない配向膜を形成する。 - 特許庁

To provide a golf ball manufacturing method restricted in the generation of partial thickness in an intermediate layer 5.例文帳に追加

中間層５の偏肉が生じにくいゴルフボール製造方法の提供。 - 特許庁

Namely, the thickness of the 3C polytype layer 12 determines the width of the passageway of the electrons.例文帳に追加

すなわち、３Ｃ構造層１２の厚みが電子の通路の幅を規定する。 - 特許庁

The thickness of the current constricting layer 16 is at least 20 nm and not more than 50 nm.例文帳に追加

電流狭窄層１６の厚さは、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The thickness of the Au layer 220 is preferably ≥10 nm and ≤1 μm.例文帳に追加

Ａｕ層２２０の厚さは、好ましくは１０ｎｍ以上１μｍ以下である。 - 特許庁

A crack passing through in the thickness direction is formed in the current collecting layer 133.例文帳に追加

集電層１３３には、厚さ方向に貫通するクラックが形成されている。 - 特許庁

A thickness of the gate insulation film 13 is smaller than that of the gate electrode layer 12.例文帳に追加

ゲート絶縁膜１３の厚みがゲート電極層１２の厚みよりも小さい。 - 特許庁

FILM THICKNESS MEASURING METHOD FOR LUBRICATION LAYER OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録媒体の潤滑層の膜厚測定方法及び磁気記録媒体 - 特許庁

The thickness D[mm] of the sintered layer formed by the heating is measured.例文帳に追加

この加熱により形成された焼結層の厚みＤ［ｍｍ］を測定する。 - 特許庁

It is preferable that the high hardness layer A has a thickness of 5-90 nm.例文帳に追加

前記硬度の高い層Ａの厚さは５〜９０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁

A thickness of the active material layer 200 is more than 0 μm and less than 10 μm.例文帳に追加

また、活物質層２００は、厚さが０μｍ超１０μｍ未満である。 - 特許庁

The n-type semiconductor layer 14 has a thickness of 10-40 nm.例文帳に追加

そして、ｎ形半導体層１４の厚さが１０ｎｍないし４０ｎｍである。 - 特許庁

It is desirable that the thickness of the first upper clad layer be lower than the core height.例文帳に追加

第一上部クラッド層の厚さはコア高さよりも低いことが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the layer where whiskers hold the carbide particles is 1-5 μm, for example.例文帳に追加

ウィスカが炭化物粒子を保持する層の厚さは、例えば１〜５μｍである。 - 特許庁