「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

In the reflective portion, a liquid crystal layer thickness adjusting layer 33 to adjust layer thickness of the liquid crystal 4 of the reflective portion and the transmissive portion is formed between the second substrate 30 and the common electrode 34.例文帳に追加

反射部における第２の基板３０と共通電極３４との間には、反射部と透過部の液晶４の層厚を調整する液晶層厚調整層３３が形成されている。 - 特許庁

The prescribed layer thickness is set to a layer thickness with an allowance surplus to an upper limit value capable of detecting the change of the electrostatic capacitance (dielectric constant) of the deposition layer 60 through the electrodes 31, 32.例文帳に追加

こうした所定の層厚は、堆積層６０の静電容量（誘電率）の変化を電極３１及び３２を通じて検知することのできる上限値に余裕を含めた層厚に設定されている。 - 特許庁

The light-screening double-layered injection-molded product is obtained by a double-layer injection molding method, has a light-screening core layer and a skin layer in its thickness direction and is characterized in that the total light transmissivity in the thickness direction thereof is 1% or below.例文帳に追加

複層射出成形法で得られてなり、厚み方向に遮光性コア層と表皮層を具備するとともに、厚み方向の全光線透過率が１％以下であることを特徴としている。 - 特許庁

The method may be employed to measure the thickness of any layer which attenuates a characteristic of a layer which lies thereunder provided the attenuation of the characteristic varies with the thickness of the overlying layer.例文帳に追加

本方法は、特性の減衰が上側の層の厚みと共に変化するものであれば、下側に位置する層の特性を減衰させるどのような層の厚みをも測定するために使用することができる。 - 特許庁

In this configuration, when assuming that saturation magnetization of the storage layer is Ms (emu/cc) and a film thickness of the storage layer is t (nm), the film thickness t of the storage layer satisfies (1489/Ms)-0.593<t<(6820/Ms)-1.55.例文帳に追加

この構成において、記憶層の飽和磁化をＭｓ（ｅｍｕ／ｃｃ）、上記記憶層の膜厚をｔ（ｎｍ）としたときに、記憶層の膜厚ｔは、（１４８９／Ｍｓ）−０．５９３＜ｔ＜（６８２０／Ｍｓ）−１．５５を満たすようにする。 - 特許庁

In the adhesive sheet for protective films, a hard coat layer, a transparent base film 25-70 μm in thickness, an adhesive layer, a polyester film 5-25 μm in thickness, an adhesive layer, and a release sheet are laminated in turn.例文帳に追加

ハードコート層、厚み２５〜７０μｍの透明基材フィルム、接着剤層、厚み５〜２５μｍのポリエステル系フィルム、粘着剤層及び剥離シートが順に積層されてなる保護フィルム用粘着シートである。 - 特許庁

A cushioning layer, a release layer with a film thickness of 0.02-1 μm and a transfer layer with a film thickness of 2-20 μm are provided on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、クッション層、膜厚０．０２〜１μｍの剥離層、及び膜厚２〜２０μｍの転写層を有するインクジェット記録用転写媒体、及びこの転写媒体を用いた画像形成方法。 - 特許庁

The difference in the thicknesses between the thick part 22b and the thin part 22d substantially corresponds to the difference between the total thickness of the magneto-resistance element layer 24 and the total thickness of the hard magnetic material layer 26 and a terminal layer 28.例文帳に追加

厚肉部分２２ｂと薄肉部分２２ｄとの厚みの差は、磁気抵抗素子層２４の全体厚みと硬質磁性体層２６及び端子層２８の合計厚みとの差に実質的に相当する。 - 特許庁

The image processor registers a layer thickness distribution showing the thickness of a nerve fiber layer in the retinal layer of an eye to be examined from an OCT tomogram on the fundus camera image (S440).例文帳に追加

ＯＣＴ断層像から被検眼の網膜層における神経線維層の厚みを表す層厚の分布を、視野計測結果が対応付けられた眼底カメラ画像上にレジストレーションする（Ｓ４４０）。 - 特許庁

To provide a developing apparatus for re-uniformizing the irregular layer thickness occurring in a toner layer formed on the surface of a development roller by a layer thickness regulating member.例文帳に追加

本発明は、本発明は、層厚規制部材により現像ローラの表面に形成されるトナー層に生じる層厚の異常を再び均一化することができる現像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thickness of an electron injection layer between the light emitting layer and the opposed electrode can be decreased by forming the electron injection layer of NaF with optimal thickness.例文帳に追加

本発明によれば、発光層と対向電極との間に設けられる電子注入層を、最適厚みのＮａＦで形成することによって、電子注入層の厚みを減少させることができる。 - 特許庁

The fuel cell gas diffusion layer comprises a hydrophilic surface layer having a thickness of 1 micron or less, and, thereunder, a hydrophobic second layer comprising a fluoropolymer having a thickness of at least 5 microns.例文帳に追加

１ミクロン以下の厚さを有する親水性表面層、および、その下に、少なくとも５ミクロンの厚さを有するフルオロポリマーを含んでなる疎水性の第２の層を含んでなる燃料電池ガス拡散層。 - 特許庁

To provide a bonded structural body wherein the thickness of an adhesives layer is specified by installing a layer thickness specifying means, and shearing stress generated in an adhered surface can be absorbed by the adhesives layer.例文帳に追加

層厚規定手段を設けることにより、接着剤層の層厚が規定され、その接着剤層にて接着面に発生するせん断応力が吸収できる接着構造体を提供する。 - 特許庁

A primer layer 16 having a thickness of 0.5-20 μm and an adsorbent supporting layer 18 having a thickness of 10-100 μm are built up in sequence on the metal oxide layer of each of the fins 13 and the heat transfer pipe.例文帳に追加

フィン（１３）及び伝熱管の金属酸化物層上には厚さ０．５〜２０μｍのプライマー層（１６）、及び厚さ１０〜１００μｍの吸着剤担持層（１８）が順に積層されている。 - 特許庁

The thickness T3 of a first insulating layer which is formed on a side end face 22a of a laminate 22 is formed thinner than a film thickness T4 of a second insulating layer 26 formed on a lower shield layer 20.例文帳に追加

積層体２２の側端面２２ａ上に形成される第１の絶縁層の厚みＴ３を、下部シールド層２０上に形成される第２の絶縁層２６の膜厚Ｔ４より薄く形成する。 - 特許庁

The inkjet recording head manufacturing method decreases stress on a membrane by mitigating the concentration of the stress on the shoulder portion of a sacrifice layer of the thickness of an etching stopping layer 103 accumulated on the sacrifice layer by limiting the thickness of the sacrifice layer 102 to 200 to 2,500 Å.例文帳に追加

犠牲層１０２の膜厚を２００〜２５００Åに限定することによって、その上に堆積されるエッチングストップ層１０３の膜厚の、犠牲層の肩部での応力集中を緩和し、メンブレンへの応力を低下させる。 - 特許庁

A thickness and impurity density of an I layer 32I (channel region, semiconductor layer) of a photo detector 3 and a thickness and impurity density of an I layer 22I (channel region, semiconductor layer) of a TFT element 2 are nearly identical to each other.例文帳に追加

光検出素子３におけるＩ層３２Ｉ（チャネル領域，半導体層）と、ＴＦＴ素子２におけるＩ層２２Ｉ（チャネル領域，半導体層）とにおいて、それらの厚みおよび不純物濃度がそれぞれ互いに略等しくなっている。 - 特許庁

The formation of the nitride semiconductor crystal layer includes making at least a portion of the silicon crystal layer incorporated into the nitride semiconductor crystal layer to reduce the thickness of the silicon crystal layer from the second thickness.例文帳に追加

前記窒化物半導体結晶層の形成は、前記シリコン結晶層の少なくとも一部を前記窒化物半導体結晶層に取り込ませ、前記シリコン結晶層の厚さを前記第２の厚さから減少せることを含む。 - 特許庁

A first layer formed of an alumina quality sintered body and a second layer formed of cemented carbide or cermet are integrally joined, and the ratio of a thickness of the first layer to a thickness of this second layer is set to 0.03-0.50.例文帳に追加

アルミナ質焼結体で形成された第１の層と、超硬合金あるいはサーメットで形成された第２の層とを一体に接合し、この第２の層の厚みに対する第１の層の厚みの比を、０．０３から０．５０とした。 - 特許庁

Thickness unevenness of the transparent layer can be converted from the detected aberration quantity.例文帳に追加

検出された収差量から、透明層の厚みムラを換算することもできる。 - 特許庁

The trench 10 for burying plugs passes through the source region 9 in a layer thickness direction.例文帳に追加

プラグ埋設用トレンチ１０は、ソース領域９を層厚方向に貫通している。 - 特許庁

Depth of the compressed grooves 6 is 50-100% of thickness of the absorptive layer 11.例文帳に追加

圧縮溝６の深さは、吸収層１１の厚みの５０〜１００％である。 - 特許庁

The via resistance is controlled by adjusting only the thickness of the second barrier layer 12.例文帳に追加

第２のバリア層１２の膜厚のみを調節することでビア抵抗を制御する。 - 特許庁

The second reflection layer 23 contains silver (Ag) and has 10 to 30 nm film thickness.例文帳に追加

第２反射層２３は、銀（Ａｇ）を含有し、且つ、膜厚が１０〜３０ｎｍである。 - 特許庁

The coating layer thickness of the carbonation porous material is adequately 3 to 10mm.例文帳に追加

炭酸化気孔性材料の被覆層厚は、３ｍｍ〜１０ｍｍが適当である。 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING DISTRIBUTION OF LAYER THICKNESS OF CHARGED MATERIAL IN BLAST FURNACE AND INSTRUMENT USING THE METHOD例文帳に追加

高炉装入物の層厚分布推定方法及びこの方法を用いた装置 - 特許庁

A conductor layer 34P on a core substrate 30 is formed with a thickness of 30 μm and a conductor circuit 58 on an interlayer resin insulating layer 50 is formed to have a thickness of 15 μm.例文帳に追加

コア基板３０上の導体層３４Ｐを厚さ３０μｍに形成し、層間樹脂絶縁層５０上の導体回路５８を１５μｍに形成する。 - 特許庁

The thickness T1 of the interface layer 15 and the thickness T2 of the high-k layer 16 should satisfy T1/(T1+T2)≤0.3, or more preferably, T1/(T1+T2)≤0.2.例文帳に追加

界面層１５の厚さＴ１及びhigh-k層１６の厚さＴ２は、Ｔ１／（Ｔ１＋Ｔ２）≦０．３の関係、より好ましくはＴ１／（Ｔ１＋Ｔ２）≦０．２の関係を満たす。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING THICKNESS OF MATERIAL LAYER AND END POINT OF CHEMICAL/MECHANICAL POLISHING例文帳に追加

材料層の厚さおよびケミカル−メカニカルポリッシングの終点を決めるための方法 - 特許庁

The silicon oxide containing layer 22C contains silicon oxide and has the thickness of 50nm or larger.例文帳に追加

酸化ケイ素含有層２２Ｃは、酸化ケイ素を含み、厚みが５０ｎｍ以上である。 - 特許庁

The heat generating resister layer of this heater substrate is the active metal nitride layer of the thickness of 10 μm or less, and superior in flatness with variance of thickness of 20% or less.例文帳に追加

これらヒーター基板は発熱抵抗体層は厚さ１０μｍ以下の活性金属窒化物層であり、厚さのバラツキが２０％以下と平坦性が優れている。 - 特許庁

The total thickness of the transparent elastic pressure-sensitive adhesive layer 3, 3, 3 and 3 is 1-5 mm.例文帳に追加

透明弾性粘着層３、３、３、３の合計厚みは１〜５ｍｍである。 - 特許庁

To enhance insulation reliability by ensuring the thickness of an insulation layer between the jumper wires.例文帳に追加

ジャンパ線間の絶縁層の厚さを確保して絶縁信頼性を向上させる。 - 特許庁

Film thickness of the metal layer 6 is preferably 1 nm or more and 2 nm or less.例文帳に追加

金属層６の膜厚は、１ｎｍ以上２ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The thickness of the adhesive layer is preferably 30 μm to 300 μm.例文帳に追加

また、前記粘着剤層の厚みは、３０μｍ〜３００μｍであることが好ましい。 - 特許庁

When the thickness of the clad layer is defined as t [μm], (x2-x1)≤√ (36-4t2) is fulfilled.例文帳に追加

クラッド層の厚さをｔ［μｍ］として、（ｘ_2 −ｘ_1 ）≦√（３６−４ｔ^2 ）が成り立つ。 - 特許庁

The two-component developing device 1 includes the developing roller 4 and a layer thickness control member 7.例文帳に追加

２成分現像装置１は、現像ローラ４と層厚規制部材７とを有する。 - 特許庁

The Co thin-film layer 13 has a thickness of approximately 10 to 800 nm, and the Co thin-film layer 13 of this thickness can be formed by a vapor deposition method or a sputtering method.例文帳に追加

Ｃｏ薄膜層１３は、１０ｎｍ〜８００ｎｍ程度の厚さであり、この厚さのＣｏ薄膜層１３は、蒸着法、スパッタリング法によって形成することができる。 - 特許庁

To enable a toner held by a developing roller to be hardly attached to a layer thickness regulating roller.例文帳に追加

現像ローラに保持されたトナーが層厚規制ローラに付着されにくくする。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which is free of wire thinning of wires of a conductor circuit and a dummy pattern and thickness variance of an inter-layer insulating resin layer and variance in plated thickness.例文帳に追加

導体回路、ダミーパターンの配線の線細り、断線がなく、かつ、層間絶縁樹脂層及びめっき厚の厚みのバラツキがないプリント配線板を提供する。 - 特許庁

The substrate layer 3 has a thickness that can accommodate a fastening frame therein.例文帳に追加

基材層３はファスニング用フレームを層内に納めうる厚さで形成されている。 - 特許庁

The thickness of the polylactic acid resin in the outermost layer is preferably ≥10 μm.例文帳に追加

好ましくは、最外層のポリ乳酸系樹脂の厚みが１０μｍ以上である。 - 特許庁

Thickness of the plate crystal layer is 20 nm or more and 1,000 nm or less.例文帳に追加

前記板状結晶層の厚さが、２０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。 - 特許庁

It is desirable that the film thickness of the first ferromagnetic layer is 2 nm-10 nm and the film thickness of the anti-ferromagnetic layer is not less than 8 nm.例文帳に追加

その際、前記第一の強磁性体層の膜厚は２ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、前記反強磁性体層の膜厚は８ｎｍ以上が望ましい。 - 特許庁

To improve controllability of the remaining film thickness of an inter- layer insulation film on a fuse element.例文帳に追加

ヒューズ素子上の層間絶縁膜の残膜厚の制御性を向上させる。 - 特許庁