「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

In the light emitting element, the thickness of the layer (B) may be 1 nm or greater and 5 nm or smaller.例文帳に追加

層（Ｂ）の膜厚が１ｎｍ以上５ｎｍ以下である上記の発光素子。 - 特許庁

Then, in this insulating wire, the thickness of enamel-baked layer is made 50 μm or less.例文帳に追加

また、この絶縁ワイヤにおいて、エナメル焼き付け層の厚さを５０μｍ以下とする。 - 特許庁

Thickness Y1 of a rubber material layer covering the vehicle-outside surface of the insert member 18 is formed smaller than thickness Y2 of a rubber material layer for covering the vehicle-inside surface thereof.例文帳に追加

また、インサート部材１８の車外側面を覆うゴム材料層の厚みＹ１が、車内側面を覆うゴム材料層の厚みＹ２より薄肉となっている。 - 特許庁

The film thickness of the SOI layer is set to a value at which the fluctuation of the threshold becomes smaller.例文帳に追加

ＳＯＩ層の膜厚を、しきい値変動が小さくなる膜厚に設定する。 - 特許庁

This protective layer 4 is formed so that its film thickness is 1 nm to 5 nm.例文帳に追加

この保護層４は、膜厚を１ｎｍ乃至５ｎｍとして成膜することができる。 - 特許庁

In this bipolar transistor, a Si-doped intermediate emitter layer 8 interposed between the lower emitter layer 7 and the upper emitter layer 9 is formed and a prescribed relationship is satisfied between the Si concentration and the thickness of the lower emitter layer 7 and the Si concentration and the thickness of the intermediate emitter layer 8.例文帳に追加

このバイポーラトランジスタでは、下部エミッタ層７と上部エミッタ層９とに挟まれた、Siドープの中間エミッタ層８を形成し、下部エミッタ層７のSi濃度および層厚と、中間エミッタ層８のSi濃度および層厚とが所定の関係を満たしている。 - 特許庁

A nickel layer 4 with a thickness of approximately 100 nm is formed on a main surface of a silicon layer 3 by the sputtering method, and a titanium nitride layer 5 with a thickness of 300-500 nm is formed on a main surface of the nickel layer 4 as an oxidation protective layer by the sputtering method.例文帳に追加

シリコン層３の一方主面上に厚さ約１００ｎｍのニッケル層４を、スパッタリング法によって形成し、さらに、ニッケル層４の一方主面上に酸化保護層として厚さ３００〜５００ｎｍの窒化チタン層５を、スパッタリング法によって形成する。 - 特許庁

It is respectively preferable that the film thickness of the phase change material layer is 10 nm or less, the total film thickness of the phase change recording layer and the phase change material layer is 30 nm or less and 80% or more of the constituting elements of the phase change recording layer and the phase change material layer are Sb and Te.例文帳に追加

相変化材料層の膜厚は10nm以下であること、相変化記録層と相変化材料層との合計膜厚は30nm以下であること、相変化記録層と相変化材料層の構成元素の80％以上がSbとTeであることがそれぞれ好ましい。 - 特許庁

The photosensitive resin transfer material has at least an alkali-soluble thermoplastic resin layer and a photosensitive resin layer on a temporary support, wherein a standard deviation of the layer thickness distribution of the photosensitive resin layer is ≤1.5% of an average value of the layer thickness.例文帳に追加

仮支持体上に、少なくとも、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂層とを有し、前記感光性樹脂層の層厚分布の標準偏差が層厚の平均値の１．５％以下であることを特徴とする感光性樹脂転写材料である。 - 特許庁

In the information recording medium, the thickness of the semiconductor layer is thinner than the maximum thickness of a depletion layer which transiently happens in the semiconductor layer when the ferromagnetic layer polarizes inversely and the semiconductor layer is sufficiently thick.例文帳に追加

前記情報記録媒体において、前記半導体層の厚みが、強誘電体の分極反転時に、半導体層が十分厚い場合に、過渡的に半導体層中に生じる空乏層の最大厚みに対して、薄い事を特徴とする情報記録媒体を用いる。 - 特許庁

An object to be plated is first plates with a tin/indium layer of a first layer at a thickness of about 0.1 to 5 μm and thereafter the surface of the tin/indium layer is plate with a bright tin/bismuth layer of a second layer at a thickness of about 0.1 to 1 μm, following which the first and second plating layers are subjected to reflow.例文帳に追加

被めっき物に、まず第１層の錫／インジウム層を０．１〜５μｍ程度の厚さでめっきし、次にこの錫／インジウム層の上に第２層の光沢錫／ビスマス層を０．１〜１μｍ程度の厚さでめっきし、続いて第１及び第２めっき層をリフローする。 - 特許庁

The film thickness of each layer is adjusted by a film thickness correction plate 11 interposed between the substrate 9 and the affixed target 20.例文帳に追加

各層の膜厚は、基板９と貼り合わせターゲット２０との間に介在する膜厚補正板１１によって調整される。 - 特許庁

The film thickness of the cured layer on the organic antireflective film formed as a result is measured by an optical reflecting spectrographic film thickness meter.例文帳に追加

その結果生じた有機反射防止膜上の硬化層の膜厚を光学式反射分光膜厚計で測定する。 - 特許庁

The thickness of the intermediate layer 14 is set to 0.5-1.0 mm and the thickness of the cover 16 is set within 1.0-3.0 mm.例文帳に追加

また、中間層１４は、厚みが０．５〜１．０ｍｍに設定され、かつカバー１６の厚みは、１．０〜３．０ｍｍの範囲内である。 - 特許庁

A red organic layer 16R is formed based on a theoretical thickness L satisfying (2L)/λ+ϕ/(2π)=(m), and its thickness Ld is measured.例文帳に追加

赤色有機層１６Ｒを、（２Ｌ）／λ＋Φ／（２π）＝ｍを満たす理論値Ｌの厚みで形成し、その厚みＬｄを計測する。 - 特許庁

To provide a conductive roller and a method for manufacturing the same, in which the film thickness of an elastic layer can be maintained to an appropriate thickness.例文帳に追加

弾性層の膜厚を容易に適切な厚みに確保できる導電性ローラおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

(R3): In the second honeycomb filter, the surface layer has a thickness L1 of 0.5% or more and less than 30% of thickness L2 of the partition wall.例文帳に追加

（Ｒ３）第２のハニカムフィルタは、表層の厚さＬ１が、隔壁の厚さＬ２の、０．５％以上３０％未満である。 - 特許庁

FILM THICKNESS DEFECTIVE INSPECTION DEVICE FOR CONDUCTIVE POLYMER LAYER OF ORGANIC EL PANEL SUBSTRATE, AND METHOD FOR INSPECTING FILM THICKNESS DEFECTIVE USING THE SAME例文帳に追加

有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置及びそれを用いた膜厚不良検査方法 - 特許庁

The sum (Tm+Tc) of the thickness Tm of the intermediate layer 12 and the thickness Tc of the cover 8 is ≥0.4 and ≤2.1 mm.例文帳に追加

中間層１２の厚みＴｍとカバー８の厚みＴｃとの和（Ｔｍ＋Ｔｃ）は、０．４ｍｍ以上２．１ｍｍ以下である。 - 特許庁

To provide a conductive roller capable of easily securing the film thickness of an elastic layer to an appropriate thickness, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

弾性層の膜厚を容易に適切な厚みに確保できる導電性ローラおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The center 5 in the thickness direction of a base material 4 is offset toward the metal foil 3 from the center 6 in the thickness direction of the insulating layer 2.例文帳に追加

基材４の厚み方向の中心５が絶縁層２の厚み方向の中心６より金属箔３側に偏在する。 - 特許庁

The number of turns of a coil pattern 6 is made plural, and the thickness dc of a coil layer 4 is made 30-60% of the overall thickness D.例文帳に追加

コイルパターン６の巻数を複数回にし、コイル層４の厚みｄｃを全体の厚みＤの３０〜６０％にする。 - 特許庁

Furthermore, the thickness of the embedded oxide layer can be reduced to a level suitable for the practical application by setting the thickness of the SOI at 30 μm or larger.例文帳に追加

さらに、ＳＯＩの厚さを３０μｍ以上とすることで埋め込み酸化膜の厚さを実用化レベルまで薄くできる。 - 特許庁

To make the thickness of an SOI film uniform by reducing variations in the film thickness, without causing damages to the SOI layer.例文帳に追加

ＳＯＩ層にダメージを与えることなく、ＳＯＩ層における膜厚のばらつきを低減してＳＯＩ層の膜厚を均一化する。 - 特許庁

At this time, the thickness of the formed compound semiconductor layer 106 is made much heavier than the thickness of the surface part 105.例文帳に追加

この時、成膜する化合物半導体層１０６の厚さは、表面部１０５の厚さに比較して十分厚く形成する。 - 特許庁

The sealing material 10 is 3-10 mm in total thickness, and the thickness of each modified asphalt layer 14 is 0.2-5 mm.例文帳に追加

シーリング材１０は、総厚さが３〜１０ｍｍであり、それぞれの改質アスファルト層１４の厚さは０．２〜５ｍｍである。 - 特許庁

The second oxide portion 32 may have a thickness in a range of about 25 to 50% of a total thickness of the graded oxide layer.例文帳に追加

第２の酸化物部分は、グレーデッド酸化物層（３０）の全厚さの約２５ないし５０％の範囲にある厚さを有しうる。 - 特許庁

Preferably, the thickness of the whole laminated film is 20-500 μm, and preferably, a thickness of the layer B is 1 μm or above.例文帳に追加

積層フィルム全体の厚さは、２０〜５００μｍとするのがよく、前記層（Ｂ）の厚さは、１μｍ以上とするのがよい。 - 特許庁

The ratio (Tr/Tc) of the thickness Tr of the reinforcing layer to the nominal thickness Tc of the cover is ≥0.005 and ≤3.0.例文帳に追加

カバーの公称厚みＴｃに対する補強層の厚みＴｒの比（Ｔｒ／Ｔｃ）は、０．００５以上３．０以下である。 - 特許庁

The thickness of the adhesive layer is preferably 2-30 μm and the thickness of the substrate is preferably 20-200 μm.例文帳に追加

粘着剤層の厚さは、２〜３０μｍであることが好ましく、基材の厚さは２０〜２００μｍであることが好ましい。 - 特許庁

A thickness of the auxiliary pad 2 is 5 mm or more 15 mm or less, a thickness of the soft layer is set to 20% or more 50% or less the thickness of the auxiliary pad 2.例文帳に追加

補助パッド２の厚さは５ｍｍ以上１５ｍｍ以下であり、軟質層の厚さは補助パッド２の厚さの２０％以上５０％以下にしてある。 - 特許庁

The total thickness ratio obtained by dividing total thickness (μm) of an electrode substrate by the total thickness (μm) of an electrode active material layer is not less than 0.045 and not more than 0.31.例文帳に追加

電極基板の総厚（μｍ）を電極活物質層の総厚（μｍ）で除した比を総厚比とし、この総厚比を０．０４５以上０．３１以下とした。 - 特許庁

The thickness of each hard carbon film 4 is equal to or greater than the thickness of each silicon film 5 and the overall thickness of the cover layer is not less than 0.5 μm nor more than 50 μm.例文帳に追加

硬質炭素膜４の膜厚はシリコン膜５の膜厚と等しいか、より大きく、被覆層全体の層厚は０．５μｍ以上５０μｍ以下となっている。 - 特許庁

To provide a light emitting element that is improved in light emission output according to an increase in the thickness of a reflecting layer even when the thickness of a reflection part is equal to or larger than a certain thickness.例文帳に追加

反射部の厚さが一定以上の厚さであっても、反射層の厚さの増加に応じて発光出力が向上する発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a jointing body having a uniform thickness which can form an adhesive layer having a uniform thickness with a simplified method and a good precision, as well as to provide a method for jointing uniformly in thickness.例文帳に追加

簡単な方法で精度よく均一な厚みをもつ接着層を形成することが可能な均一厚接合体及び均一厚接合方法を提供する。 - 特許庁

The gradation capping layer includes one region with a thickness of 90-120 nm, and other region with a thickness smaller than the thickness of the one region.例文帳に追加

そして、前記差等キャッピングレイヤは、９０ｎｍ〜１２０ｎｍ範囲内の厚さを有する一領域と、前記一領域より小さい厚さを有する他領域とを含む。 - 特許庁

By monitoring the film thickness of the alkali metal with the film thickness monitor 12, the film thickness of the alkali metal vapor-deposited on the organic compound layer can be correctly detected.例文帳に追加

膜厚モニター１２によってアルカリ金属の膜厚をモニターすることによって、有機化合物層に蒸着されたアルカリ金属の膜厚を正確に検知することができる。 - 特許庁

In a forming process, a coating of an excess thickness is formed at least on a part of one thin layer, and then the excess thickness is reduced to the desired thickness.例文帳に追加

形成工程は、一つの薄層の少なくとも一部の上に過剰の厚さのコーティングを形成し、その後その過剰の厚さを所望の厚さに減少させる。 - 特許庁

The length in the thickness direction of a predetermined layer which composes the hinge part is longer than the length in the plane direction which is orthogonal to the thickness direction, thus a strong resistance is given against an impulsive force in the thickness direction.例文帳に追加

ヒンジ部を構成する所定層の厚さ方向の長さがこれと直交する面方向の長さよりも長いので、厚さ方向の衝撃に強い。 - 特許庁

Although the phosphor layer may have an uniform thickness, preferably a thickness of a part above the clearance between the LED chips is thinner than a thickness of a part on the upper surface of the LED chips.例文帳に追加

蛍光体層は、厚みが均一であってもよいが、好ましくは、ＬＥＤチップ間の間隙の上側の部分の厚みがＬＥＤチップ上面の厚みよりも薄い。 - 特許庁

Thus, the signal recording layer 12 is provided with a part having a first thickness d1 and a part having a second thickness d2 larger than the first thickness d1.例文帳に追加

これにより、信号記録層１２は第１の厚さｄ１を有する部分とこの第１の厚さｄ１よりも厚い第２の厚さｄ２を有する部分とを有する。 - 特許庁

The film thickness of the alkali metal measured with the film thickness monitor 12 is made equal to the film thickness of the alkali metal vapor-deposited on the organic compound layer in the stacked body S1.例文帳に追加

膜厚モニター１２で計測されたアルカリ金属の膜厚は、積層体Ｓ１の有機化合物層に蒸着されたアルカリ金属の膜厚と等しくなる。 - 特許庁

For the phosphor layer, while the thickness can be uniform, the thickness of the part on the upper side of the gap between the LED chips is thinner than the thickness on the upper surface of the LED chip preferably.例文帳に追加

蛍光体層は、厚みが均一であってもよいが、好ましくは、ＬＥＤチップ間の間隙の上側の部分の厚みがＬＥＤチップ上面の厚みよりも薄い。 - 特許庁

It has a lower core layer 21 and an upper core layer 34 facing each other leaving a space in the layer thickness direction and the upper core layer 34 is connected to the upper magnetic pole layer 26 regulating the track width.例文帳に追加

膜厚方向にて間隔を空けて対向する下部コア層２１と上部コア層３４とを有し、前記上部コア層３４はトラック幅を規制する上部磁極層２６に接続されている。 - 特許庁

In the fixing roll provided with a surface layer composed of a fluorine type resin and an elastic layer serving as an undercoat layer for the surface layer, thickness of the surface layer Δt satisfies an inequality 100<Δt<300 [μm].例文帳に追加

フッ素系樹脂で構成される表面層と当該表面層の下地となる弾性層とを備える定着ロールにおいて、当該表面層の厚さΔｔが、１００＜Δｔ＜３００〔μｍ〕である。 - 特許庁