「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

A product of stress applied by the second semiconductor layer 15 to the first semiconductor layer 14 and the thickness of the second semiconductor layer 14 is 0.1 N/cm or less.例文帳に追加

第２の半導体層１５が第１の半導体層１４に加える応力と第２の半導体層１４の厚さとの積は、０．１Ｎ／ｃｍ以下である。 - 特許庁

On a multilayer substrate 1, a resist layer 2 and a fourth conductor layer 3d of a thickness of about 70-100 μm formed on the resist layer 2 are provided.例文帳に追加

多層基板１には、レジスト層２及びこのレジスト層２上に形成された厚さが約７０〜１００μｍの第４導体層３ｄが設けられている。 - 特許庁

To provide a method of forming a second gate dielectric layer different in thickness from a first gate dielectric layer without causing damage to the first gate dielectric layer on a semiconductor device substrate.例文帳に追加

半導体デバイス基板の第１ゲート誘電層に害を与えずに、異なる厚さの第２ゲート誘電層を製造する方法を提供する。 - 特許庁

By altering thickness of a passivation layer, dielectric layer or organic layer in the two sub-pixels, the total capacitances of the two sub-pixels are different.例文帳に追加

二つのサブ画素における保護層の厚さ、誘電層の厚さおよび有機層の厚さを変えて、二つのサブ画素の合計容量値を相違させる。 - 特許庁

A thickness of each silicon monocrystalline layer on the first insulating layer 111 and the second insulating layer 112 is decided in accordance with characteristics of a formed element.例文帳に追加

第１の絶縁層１１１上、第２の絶縁層１１２上における各シリコン単結晶層の厚さは、形成される素子の特性に応じて決められる。 - 特許庁

A nickel layer is formed on a wiring layer, and the thickness of the nickel layer should is set to a range of 0.8 to 5.0 μm.例文帳に追加

本発明は、上記目的を達成するために、配線層の上にニッケル層を形成し、そのニッケル層の厚さを０．８〜５．０マイクロメートルとするものである。 - 特許庁

Thickness of the metal layer can be increased quickly by forming an extra metal layer through electroplating on the metal layer formed by electroless plating.例文帳に追加

無電解メッキにより形成した金属層の上に、電気メッキにより追加の金属層を形成すれば、迅速に金属層の厚さを増加させることができる。 - 特許庁

When the relative permittivity and thickness of the first insulation layer 51a and the second insulation layer 51b are adjusted, the relative permittivity of the insulation layer 51 is changed.例文帳に追加

第１絶縁層５１ａおよび第２絶縁層５１ｂの比誘電率や厚みが調整されれば、絶縁層５１の比誘電率は変化する。 - 特許庁

It is preferable to adjust the thickness of the nickel layer or nickel alloy layer used as the second conductive layer 4 to 10-100μm.例文帳に追加

そして、当該第２導電層4としてのニッケル層又はニッケル合金層の厚みが１０μｍ〜１００μｍであるものを用いることが好ましい。 - 特許庁

To form a cover layer which has a uniform thickness as a light transmission layer adhering onto an information layer and wherein influence of a swelling part on an outer peripheral part thereof is suppressed.例文帳に追加

情報層の上に被着される光透過層として厚みが均一で、外周部の盛り上がり部の影響が抑えられたカバー層を形成する。 - 特許庁

To provide a chemical-mechanical polishing method, using a double layer polish preventing layer capable of improving dishing phenomenon and changes in the thickness of a polish preventing layer.例文帳に追加

ディッシング現象と研磨阻止層の厚さ変化を改善できる二重層研磨阻止層を用いた化学機械的研磨方法を提供すること。 - 特許庁

Further, the contact layer 19 is hard to operate as the absorption layer for light, thus a second conductivity type clad layer 17 is reducible in thickness.例文帳に追加

また、コンタクト層１９が光の吸収層として働きにくいことから、第２導電型クラッド層１７の厚みを薄くすることが可能となる。 - 特許庁

The thickness of one of the aluminum oxynitride layers is 0.5-10 μm, and is used as the first layer for tightly fitting the aluminum oxynitride layer to the cBN-containing sintered body even for a multi-layer film.例文帳に追加

酸素化アルミニウム層１層の厚さは０．５〜１０μｍであり、多層膜でも、酸窒化アルミニウム層をcBN含有焼結体に密着する第１層とする。 - 特許庁

The thickness of the compound layer essentially consisting of S, N and Fe and present on the outermost surface layer of the sulfurized-nitrided layer is preferably controlled to 0.5 to 10 μm.例文帳に追加

上記浸硫窒化層の最表層に存在する、Ｓ、ＮおよびＦｅを主体に構成される化合物層は、０．５〜１０μｍの厚みであることが好ましい。 - 特許庁

To provide a silicon wafer which is a low-oxygen silicon wafer, has a DZ layer of an uniform thickness on a surface layer, and has an IG layer inside the wafer.例文帳に追加

低酸素シリコンウェーハで、表層に厚さが均一なＤＺ層を有し、ウェーハ内部にＩＧ層を有するシリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The average heat conductivity of the thickness direction of the part where the heat insulation layer 2A is arranged becomes lower than the case in which the heat insulation layer 2A is not arranged (the case of only the rubber layer).例文帳に追加

断熱層２Ａを配置した部位の厚み方向の平均熱伝導率は、断熱層２Ａを配置しない場合（ゴム層のみの場合）よりも低下する。 - 特許庁

To measure the layer thickness of a substrate in the process of chemical mechanical polishing.例文帳に追加

基板上の層の厚さを、ケミカルメカニカルポリシング中の処理状態のままで測定する。 - 特許庁

On the other hand, the thickness of the needless gold plating layer formed on the rear surface of the tape 12 is drastically decreased.例文帳に追加

一方、テープ１２の裏面に形成される不要な金メッキ層の厚さは激減する。 - 特許庁

Thickness of a hole transport layer 52 is above 150 nm, preferably above 170 nm.例文帳に追加

正孔輸送層５２の厚みを１５０ｎｍを超える値、好ましくは１７０ｎｍ以上とした。 - 特許庁

In the insulation film 12, a contact hole 13 is formed while passing through in the layer thickness direction.例文帳に追加

絶縁膜１２には、コンタクトホール１３が層厚方向に貫通して形成されている。 - 特許庁

In the mid layer 8, the cover 10 has a thickness of 0.3 mm or greater and 1.6 mm or less.例文帳に追加

中間層８は、カバー１０の厚みは０．３ｍｍ以上１．６ｍｍ以下である。 - 特許庁

The surface layer part can be heated at a higher heating rate by ≥0.5°C/s than the center part in the plate thickness.例文帳に追加

表層部を板厚中央部より0.5℃/s以上高い加熱速度としてもよい。 - 特許庁

Further, the depth 12 of each groove is set to ≥10 μm to the thickness 11 of the intermediate layer or shorter.例文帳に追加

さらに、溝深さ１２を１０μｍ以上中間層厚さ１１以下とする。 - 特許庁

The method is carried out for sufficient time to form a layer having a desired thickness.例文帳に追加

この方法は、所望の厚さの層を形成するのに十分な時間の間実施される。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of removing irregularity of color due to unevenness of thickness of an IPS type liquid crystal layer.例文帳に追加

ＩＰＳ方式の液晶層の厚さむらによる色のばらつきをなくす。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for detecting the thickness of copper oxide formed on an underlying copper layer.例文帳に追加

下側の銅層上に形成された酸化銅の厚みを測定する方法及び装置。 - 特許庁

The thickness of the tin plating layer 2b is set to not less than 0.07 μm and not more than 0.25 μm.例文帳に追加

錫めっき層２ｂの厚みは０．０７μｍ以上０．２５μｍ以下に設定される。 - 特許庁

To reattach a layer thickness regulating member to a developing device by an easy method.例文帳に追加

現像装置に対し層厚規制部材を簡易な方法で再取り付けすることにある。 - 特許庁

A thickness of the charge transport organic material layer 3c is in a range between 0.5 to 30 nm.例文帳に追加

また電荷輸送性材料の層３ｃの厚みは０．５〜３０ｎｍの範囲である。 - 特許庁

That process is repeated to form a metal silicide layer having a specified film thickness.例文帳に追加

この工程を繰り返して行い、所定の膜厚を有する金属シリサイド層を形成する。 - 特許庁

The first dielectric layer 12 has 25 to 70 nm film thickness T1.例文帳に追加

この際、第１の誘電体層１２の膜厚Ｔ１は、２５ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The thickness of the Pd film 106 is larger than one atom layer, being 10 nm or less.例文帳に追加

Ｐｄ膜１０６の膜厚は、１原子層よりも大きく１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

To accurately measure a thickness of a thin layer in a very short measuring time.例文帳に追加

薄い層の厚さを非常に短い計測時間で正確に計測できるようにする。 - 特許庁

To measure the thickness of a thin film of each layer of a multilayer thin film in a short time.例文帳に追加

多層薄膜における各層の薄膜の膜厚を短時間にて測定可能とする。 - 特許庁

The uniform thickness gate spacer may include a conductor layer for enhanced capacitance.例文帳に追加

容量の増大のために、均一な厚さのゲート・スペーサは、導体層を含むことができる。 - 特許庁

The other ends of the layer thickness regulating blade 110 and pressing plate 120 are supported by a blade holder 130.例文帳に追加

層厚規制ブレード１１０と押圧板１２０の他端は、ブレードホルダ１３０に支持される。 - 特許庁

Further, the formed Ni plating layer 5 can be formed uniformly to a predetermined thickness.例文帳に追加

また、形成されるＮｉめっき層５は、所定の厚さに均一に形成することができる。 - 特許庁

A DC voltage measuring circuit 104 electrically detects the film thickness of the photosensitive layer.例文帳に追加

直流電圧測定回路１０４が感光層の膜厚を電気的に検出する。 - 特許庁

A height of the teeth 71 is less than a thickness of an outer peripheral resin layer 97 of the multilayer pipe 90.例文帳に追加

歯７１の高さは、多層管９０の外周樹脂層９７の肉厚未満である。 - 特許庁

To prevent a toner excessive area from being formed between a developing roller and a layer thickness regulating roller.例文帳に追加

現像ローラと層厚規制ローラとの間にトナー過多領域が形成されにくくする。 - 特許庁

The circumferential part 130 of the cathode layer is reduced in its thickness so that the sheet resistance is increased.例文帳に追加

カソード層の周辺部１３０は、膜厚が小さいのでシート抵抗値が大きくなる。 - 特許庁

To provide a film formation method capable of equalizing film thickness of an organic compound layer.例文帳に追加

有機化合物層の膜厚を均一にすることができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

The layer 32 is stacked to a thickness adapted to the desired composition of the first combination.例文帳に追加

層３２は、第１の結合の所望の組成に対応する厚さに堆積されている。 - 特許庁

The thickness of one layer is reduced by this method to prevent the mat M from falling.例文帳に追加

このようにすることによって一層の厚みを薄くしてマットＭの崩落を防止する。 - 特許庁

METHOD OF SETTING POSITION OF OBJECT TO BE MEASURED IN MEASUREMENT OF LAYER THICKNESS BY X RAY FLUORESCENCE例文帳に追加

Ｘ線蛍光による層厚測定において測定対象の位置を設定する方法 - 特許庁