| 意味 | 例文 |
layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 13314件
Thickness of the aluminum hydroxide layer 18 is 50 nm or less.例文帳に追加
水酸化アルミニウム層18の厚みは50nm以下である。 - 特許庁
The thickness of the IC tag 3 is made the same as the thickness of each adhesive layer 4 in the lower layer of the margin label 7.例文帳に追加
ICタグ3と余白ラベル7の下層にある各粘着剤層4もそれぞれ同一の厚さとなっている。 - 特許庁
InAs dot formed by using strain relaxation on a GaAs layer is buried in a GaAs film 4 to a thickness not more than a thickness of dot thickness.例文帳に追加
GaAs層上に歪み緩和を利用して形成したInAsドットをGaAs膜でドットの厚さ以下の厚さまで埋め込む。 - 特許庁
The second metal layer 120 has a thickness greater than the first metal layer 110.例文帳に追加
第2金属層120が第1金属層110より大きな厚さを有する。 - 特許庁
The thickness of an insulating layer covering the periphery of a gate electrode layer is made to be partly thick.例文帳に追加
ゲート電極層の周縁を覆う絶縁層の厚さを部分的に厚くする。 - 特許庁
The sum of the optical layer thickness of one n-type InP layer 12a and the optical layer thickness of one n-type InGaAsP layer 12b is roughly a half of the wavelength of the incident light.例文帳に追加
1層のn型InP層12aの光学層厚と1層のn型InGaAsP層12bの光学層厚の和は、入射光の波長の概ね半分である。 - 特許庁
To control layer thickness of an adhesive layer with high accuracy and to increase optical characteristics.例文帳に追加
接着層の層厚を高精度に制御でき、光学特性の向上を図る。 - 特許庁
The ratio of the thickness of the substrate layer to that of the layer C is 5:1 to 200:1, and the ratio of the thickness of the substrate layer to that of the layer D is 2:1 to 200:1.例文帳に追加
前記基材層の厚みと前記C層の厚みの比は5:1〜200:1であり、前記基材層の厚みと前記D層の厚みの比は2:1〜200:1である。 - 特許庁
A color filter layer is formed on the passivation layer and a first thickness of the color filter layer in the reflection region is smaller than a second thickness of the color filter layer in the transmission region.例文帳に追加
カラーフィルター層は、パッシベーション層上に形成され、反射領域のカラーフィルター層の第一厚さは、透過領域のカラーフィルター層の第二厚さより小さい。 - 特許庁
Capacitance index X=(dielectric constant of cover layer ε_r)/(thickness of cover layer d[μm]).例文帳に追加
キャパシタンス指標X=(カバー層の比誘電率ε_r)/(カバー層の厚みd[μm]) - 特許庁
A thickness of the third metal layer in a direction from the first semiconductor layer toward the second semiconductor layer is equal to or larger than a thickness of the second metal layer in the direction.例文帳に追加
第3金属層の第1半導体層から第2半導体層に向かう方向に沿った厚さは、第2金属層の前記方向に沿った厚さ以上である。 - 特許庁
Surface roughness Ra of the spacer layer 5b is lower than the film thickness of the spacer layer 5b.例文帳に追加
前記スペーサー層5bの表面粗さRaは、該スペーサー層5bの膜厚以下である。 - 特許庁
Thickness of the alumina deposition layer or the silica deposition layer is preferably 0.1 to 1 μm.例文帳に追加
アルミナ蒸着層又はシリカ蒸着層の厚さは、0.1〜1μmが好ましい。 - 特許庁
The second metal layer has a thickness dimension larger than that of the first metal layer.例文帳に追加
第2の金属層は第1の金属層より大きい厚さ寸法を有している。 - 特許庁
To improve the controllability of the film thickness of a silicide layer when forming the silicide layer.例文帳に追加
シリサイド層を形成する場合に、そのシリサイド層の膜厚の制御性を高める。 - 特許庁
The layer thickness of the metal layer is preferable to be in the range of 5-30 μm, due to a tradeoff between the depth of dynamic pressure grooves and the uniformity of the layer thickness of the formed metal layer.例文帳に追加
また、動圧溝の深さと形成する金属層の層厚の均一性との兼ね合いから、金属層の層厚は5〜30μmの範囲であることが望ましい。 - 特許庁
The self-adhesive film includes an adhesive layer having thickness corresponding to 5 to 50% of the total thickness of the adhesive film on the surface layer of a substrate film, and a releasing agent layer on the rear layer.例文帳に追加
基材フィルムの表層に、粘着フィルム全体の厚みの5から50%の厚みの粘着剤層を備え、裏層に離型剤層を備える自己粘着性フィルム。 - 特許庁
The thickness A of the outermost layer 24 is max. 10% of the thickness B of the whole tread 28, where A is the thickness of the outermost layer 24 of the tread 28, and B is the thickness of the whole tread 28.例文帳に追加
また、トレッド28の最外層24の厚さをA、全トレッド28の厚さをBとしたときに、最外層24の厚さAが全トレッド28の厚さBの10%以下となっている。 - 特許庁
The total thickness of the laminated film is 20-500 μm, the thickness of the substrate layer is at least 0.5 times as thick as the total thickness, and the thickness of the surface layer is 1-75 μm.例文帳に追加
積層フィルム全体の厚さは、20〜500μmとし、前記基材層の厚さは、全体の厚さの0.5倍以上とし、かつ前記表面層の厚さは、1〜75μmとする。 - 特許庁
The thickness of the whole laminated film is 20-500 μm, the thickness of the substrate layer is at least 0.5 times of the thickness of the whole, and the thickness of the surface layer is at least 1 μm.例文帳に追加
積層フィルム全体の厚さは、20〜500μmとし、前記基材層の厚さは、全体の厚さの0.5倍以上とし、かつ前記表面層の厚さは、1μm以上とする。 - 特許庁
In this multilayer film, the whole thickness is 20-200 μm, and the thickness of the layer A is 10-80% of the whole thickness, and the thickness of the layer B is preferably 10 μm or more.例文帳に追加
この多層フィルムは、全体の厚さが20〜200μmであり、層(A)の厚さが全体の厚さの10〜80%であり、かつ層(B)の厚さが10μm以上であるのがよい。 - 特許庁
Further, the overcoat layer is in multi-gap structure which has a 1st layer thickness on the color filter layer for transmission and a 2nd film thickness less than the 1st layer thickness on the color filter layer for transmission.例文帳に追加
また、オーバーコート層は、前記透過用カラーフィルタ層上において第1の層厚を有するとともに、前記反射用カラーフィルタ層上においては前記第1の層厚よりも厚い第2の膜厚を有するマルチギャップ構造となっている。 - 特許庁
The semi-hard urethane molded product is provided with a first layer 1 having an air-permeation property in a thickness direction, a second layer 3 having an air-permeation property in a thickness direction, and at least one connection layer 2 formed between the first layer 1 and the second layer 3 in a thickness direction.例文帳に追加
厚さ方向に通気性を有する第1層1と、厚さ方向に通気性を有する第2層3と、第1層1と第2層3との間に形成された連結層2を厚さ方向に少なくとも一層備える。 - 特許庁
A part whose layer thickness is thickened by being integrated with the toner T removed from the paper P out of the image peeling layer 20 is scraped off by the edge part 38 of a layer thickness maintaining blade 30, so that the layer thickness of the image peeling layer 20 is made constant.例文帳に追加
画像剥離層20のうち用紙Pから除去されたトナーTと一体となって層厚が厚くなった部分は、層厚維持ブレード30のエッジ部38で掻き取られ、画像剥離層20の層厚が一定になる。 - 特許庁
The electrode of the semiconductor optical device is formed of three layers including an adhesive layer, a diffusion prevention layer, and an Au layer, and the stepped shape or the taper shape is formed by a difference of the thickness of the Au layer or the thickness of the adhesive layer/diffusion prevention layer/Au layer.例文帳に追加
半導体光装置の電極は、接着層/拡散防止層/Auの3層で形成され、ステップ形状またはテーパ形状は、Au層の膜厚差または接着層/拡散防止層/Auの膜厚さにより、形成される。 - 特許庁
The painting comprises a clear layer, formed on the topmost surface and an underlying layer formed on a lower layer of the clear layer, and the heights of the columnar projections may be larger than the thickness of the clear layer and smaller than the thickness of the sum with the thicknesses of the clear layer and underlying layer combined.例文帳に追加
塗装は、最表面に形成されたクリア層とクリア層の下層に形成された下地層とを含み、柱状突起の高さは、クリア層の厚みよりも大きく、クリア層と下地層を合わせた厚みよりも小さくてもよい。 - 特許庁
The total thickness of the electrode layer (the negative electrode layer 40), the SE layer 30, and the insulator 60 is equal to or lower than the total thickness of the electrode layer (the positive electrode layer 20, the negative electrode layer 40) and the SE layer 30 in the part other than the electrode dividing part.例文帳に追加
当該電極分断部における電極層(負極層40)とSE層30と絶縁体60との合計厚さは、電極分断部以外における電極層(正極層20、負極層40)とSE層30との合計厚さ以下である。 - 特許庁
Preferably, the proportion of an electroless plating thickness in a total copper plating thickness (electroless copper plating thickness ratio) is 0.1-0.2, the thickness of the electroless copper plating layer is 0.5-2 μm, and the thickness of the copper electroplating layer is 2-4 μm.例文帳に追加
総銅めっき厚さに占める無電解銅めっき厚の割合(無電解銅めっき層比)は0.1〜0.2、無電解銅めっき層の厚さは0.5〜2μm、電気銅めっき層の厚さは2〜4μmとするのが好ましい。 - 特許庁
The first layer has a thickness of about 1% to about 10% of the total thickness of the multilayered film, has a maximum thickness of about 0.25 mil, and has a thickness uniformity deviation of less than about 20% of an average thickness of the first layer.例文帳に追加
第1層は、多層フィルム構造体の総厚の約1%〜約10%であり、約0.25ミルの最大厚さを有し、また、第1層の平均厚さの約20%未満の厚み均一性偏差を有する。 - 特許庁
Furthermore, a third ceramic coating layer 53 is formed with a thickness t3 equivalent to the difference between the thickness t1 of the first coating layer 51 and the thickness t2 of the second ceramic coating layer 52.例文帳に追加
次に、厚みt3が、第1のセラミック塗料層51の厚みt1と第2のセラミック塗料層52の厚みt2との差に等しい第3のセラミック塗料層53を形成する。 - 特許庁
The Ni covering layer has an average thickness of 0.1-1.0 μm, the Cu-Sn alloy covering layer has an average thickness of 0.1-1.0 μm and the Sn covering layer has an average thickness of 0.1-2.5 μm.例文帳に追加
Ni被覆層の平均厚さは0.1〜1.0μm、Cu−Sn合金被覆層の平均厚さは0.1〜1.0μm、Sn被覆層の平均厚さは0.1〜2.5μmとされている。 - 特許庁
Preferably, the film thickness of the ITO layer 31 is 50 to 100 nm, the film thickness of the TiO_2 layer 32 is 20 to 50 nm, and the film thickness of the SiO_2 layer 33 is 50 to 150 nm.例文帳に追加
ITO層31の膜厚は50〜100nmであり、TiO_2層32の膜厚は20〜50nmであり、SiO_2層33の膜厚は50〜150nmであることが好ましい。 - 特許庁
The front end face film 31 has a layer 32 having a high refractive index in a prescribed thickness, and a layer 33 having a low refractive index in a thickness according to the thickness of the layer 32 having a high refractive index, on the front end face.例文帳に追加
前端面膜31は、前端面上に所定の厚さの高屈折率層32と、高屈折率層32の厚さに応じた厚さの低屈折率層33とを有する。 - 特許庁
The thickness of the cell thickness adjustment layer is determined so that thickness of the whole of the second light shielding area does not become less than thickness of the whole of the first light shielding area.例文帳に追加
セル厚調整層は、第2の遮光領域全体の厚さが、第1の遮光領域全体の厚さより小さくならないように決定される。 - 特許庁
Instead of changing the thickness of the thickness adjusting plate 16, a coating layer with the thickness varied may be provided, or the thickness of the shim plate 17 is varied.例文帳に追加
厚さ調整板16の厚さを変化させる代わりに、厚さを変化させたコーティング層を設けてもよく、或いはシムプレート17の厚さを変化させてもよい。 - 特許庁
The method further comprises the steps of then removing the layer 108 and a cap layer 106 on the flat surface of the upper part of the ridge [(b)], and then forming a metal layer 111 having a thinner layer thickness than the layer thickness of the layer 106 [(c)].例文帳に追加
次に、リッジ上部の平坦面上の絶縁体層108とキャップ層106とを除去した〔(b)〕後、キャップ層106の層厚よりも薄い層厚の金属層111を全面に形成する〔(c)〕。 - 特許庁
In addition, on the surface layer, a protective coating layer having the layer thickness of more than 2 mm of fiber reinforced resin 4 is applied to the surface layer.例文帳に追加
さらに、その表層に繊維強化樹脂4による2mm以上の厚みを有する保護被覆層を積層する。 - 特許庁
Thus, by placing the layer thickness-regulating member 66 so that the center in the longitudinal direction approaches the development roll 50 rather than both the ends, the difference between the layer thickness of the developer G at the center where the layer thickness is suppressed by abutting against the layer thickness-regulating member 66 and the layer thickness of the developer G at both ends is reduced.例文帳に追加
このように、長手方向中央部が両端部より現像ロール50に近づくように層厚規制部材66を配置することで、層厚規制部材66に当って層厚が規制された中央部での現像剤Gの層厚と両端部での現像剤Gの層厚との差が抑制される。 - 特許庁
The developing device is equipped with the 1st layer thickness restricting member 13 which restricts the layer thickness of toner held on the surface of a developing roller 12 and a 2nd layer thickness restricting member 14 which is provided downstream from the 1st layer thickness restricting member 13 in the rotating direction of the developing roller and electrifies a toner image on the surface of the developing roller 12 whose layer thickness is restricted.例文帳に追加
現像ローラ12の表面上に保持されたトナーの層厚を規制する第1層厚規制部材13と、この第1層厚規制部材よりも現像ローラの回転方向下流側に設けられ、層厚が規制された現像ローラの表面上のトナー像を帯電する第2層厚規制部材14とを備える。 - 特許庁
The thickness of the cushion layer exceeds 10 μm, and the thickness ratio between the base material film and the cushion layer may be the base material film/the cushion layer=20/1 to 5/1.例文帳に追加
クッション層の厚みは10μmを超えており、基材フィルムとクッション層との厚み比が、基材フィルム/クッション層=20/1〜5/1であってもよい。 - 特許庁
The thickness X2 of at least one inner layer lamina 12 selected among the inner layer laminas 12... is made thinner than the thickness X1 of the outermost layer lamina 11.例文帳に追加
内層ラミナ12…のうちの少なくとも一つの内層ラミナ12の厚さX2は、最外層ラミナ11の厚さX1よりも薄くされている。 - 特許庁
A thickness of the irregular strand constituting the outermost layer is thinner than a thickness of the irregular strand constituting the layer in a just under side of the outermost layer, in the conductor 10.例文帳に追加
導体10において、最外層を構成する異形素線の厚さが、最外層の直下の層を構成する異形素線の厚さよりも薄い。 - 特許庁
The thickness ratio of the base material sheet and the skin layer is about base material sheet/skin layer=30/1-1/1 and the thickness of the skin layer is about 5-500 μm.例文帳に追加
基材シートと各スキン層との厚みの割合は、基材シート/スキン層=30/1〜1/1程度であり、スキン層の厚みは5〜500μm程度である。 - 特許庁
To provide technology for determining a direction of layer-thickness measurement based on tilting and bending of the layer, and measuring layer-thickness along the direction.例文帳に追加
層の傾き及び湾曲度に基づいて層の厚みを計測する方向を決定し、その方向に沿って層厚を計測するようにした技術を提供する。 - 特許庁
Further, the absorber has a third transparent resin layer 5 having a different thickness T_3 from a thickness T_1 of the first transparent resin layer 1 on the rear-surface side of the conductive film layer 4.例文帳に追加
さらに、導電膜層4の裏面側に、第一透明樹脂層1の厚さT_1 と異なる厚さT_3 の第三透明樹脂層5を、備える。 - 特許庁
The dielectric layer is formed by depositing a dielectric layer to a middle thickness and applying a nitriding treatment on the middle thickness dielectric layer.例文帳に追加
誘電層は、中間の厚さまで誘電層を沈着することによって、かつ中間の厚さの誘電層に窒化処理を適用することによって形成されてよい。 - 特許庁
To provide a measurement method of an ion concentration change layer capable of measuring the thickness of the ion concentration change layer even if the ion concentration change layer is thin in thickness.例文帳に追加
イオン濃度変化層の厚さが薄くても、イオン濃度変化層の厚みを測定することができるイオン濃度変化層の測定方法を提供する。 - 特許庁
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