| 例文 |
load lockの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 714件
LOAD LOCK EQUIPMENT AND PROCESSING METHOD例文帳に追加
ロードロック装置及び処理方法 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER FOR VACUUM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
真空処理装置用ロードロック室 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
ロードロックチャンバ及び成膜方法 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER AND EVACUATION METHOD THEREFOR例文帳に追加
ロードロック室及びその排気方法 - 特許庁
LOAD LOCK WITH TEMPERATURE REGULATION, LITHOGRAPHY SYSTEM EQUIPPED WITH LOAD LOCK, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE USING LOAD LOCK例文帳に追加
温度調節付きロード・ロック、ロード・ロックを備えたリソグラフィ装置、およびロード・ロックを用いて基板を製造する方法 - 特許庁
GAS INTRODUCTION MECHANISM AND LOAD LOCK CHAMBER例文帳に追加
ガス導入機構及びロード・ロック室 - 特許庁
DEVICE FOR INTRODUCING GAS INTO LOAD LOCK CHAMBER例文帳に追加
ロードロックチャンバーへのガス導入装置 - 特許庁
METHOD OF OPENING LOAD-LOCK CHAMBER TO ATMOSPHERE, LOAD LOCK DEVICE, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
ロードロック室の大気開放方法、ロードロック装置及び半導体製造装置 - 特許庁
LOAD LOCK DEVICE AND VACUUM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加
ロードロック装置および真空処理システム - 特許庁
LOAD LOCK APPARATUS AND VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
ロードロック装置および真空処理装置 - 特許庁
LOAD-LOCK DEVICE AND PROCESSING SYSTEM FOR SUBSTRATE例文帳に追加
ロードロック装置および基板の処理システム - 特許庁
LOAD LOCK APPARATUS AND SUBSTRATE COOLING METHOD例文帳に追加
ロードロック装置および基板冷却方法 - 特許庁
VACUUM CHAMBER DEVICE HAVING LOAD LOCK CHAMBER例文帳に追加
ロードロック室を有する真空チャンバー装置 - 特許庁
LOAD LOCK WITH EXTERNAL STAGING AREA例文帳に追加
外部のステージング領域を有するロードロック - 特許庁
An inner wall surface 11a of a load lock chamber 11 of a load lock device is made a mirror-finished surface.例文帳に追加
ロードロック装置のロードロックチャンバー11の内壁面11aを鏡面とする。 - 特許庁
The load-lock comprises a load-lock chamber, a means for exhausting the load-lock chamber, and a door means for closing the load-lock chamber during exhaust operation and opening the load-lock chamber in order to feed the article into the load-lock chamber or taking out the article therefrom.例文帳に追加
ロード・ロックは、ロード・ロック・チャンバと、このロード・ロック・チャンバを排気する排気手段と、排気時にロード・ロック・チャンバを閉鎖し、かつロード・ロック・チャンバの中へ物体を送り、またはそれから物体を取り出すためにロード・ロック・チャンバを開放するドア手段とを備える。 - 特許庁
LOAD LOCK CHAMBER, PROCESSING SYSTEM, AND PROCESSING METHOD例文帳に追加
ロードロック室、処理システム及び処理方法 - 特許庁
VACUUM CHAMBER, LOAD LOCK CHAMBER, AND PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
真空チャンバ、ロードロックチャンバ、及び処理装置 - 特許庁
A load lock apparatus has a load lock tank 11, a stage 12, and gas blowout part 13.例文帳に追加
ロードロック装置は、ロードロック槽11と、ステージ12と、ガス吹出し部13とを有する。 - 特許庁
DIFFERENTIAL PRESSURE/ABSOLUTE PRESSURE CONVERTER FOR LOAD LOCK CONTROL例文帳に追加
ロードロック制御用の差圧・絶対圧変換器 - 特許庁
To provide a load lock with temperature regulation, a lithography system equipped with a load lock, and a method for producing a substrate using the load lock.例文帳に追加
温度調節付きロード・ロック、ロード・ロックを備えたリソグラフィ装置、およびロード・ロックを用いて基板を製造する方法を提供すること。 - 特許庁
To reduce the access load to a lock means, to reduce load on the lock means and to improve the processing efficiency about the lock control of the lock means.例文帳に追加
ロック手段へのアクセスの負荷を軽減し、ロック手段の負荷の軽減やロック制御に関する処理の効率化を可能にする。 - 特許庁
LOAD LOCK DEVICE, PROCESSING SYSTEM, AND PROCESSING METHOD例文帳に追加
ロードロック装置,処理システム及び処理方法 - 特許庁
In the load lock chamber 11B, a heating device 90 for heating the inside of the load lock chamber 11B is provided, and a vacuum pump 15' for evacuating the inside of the load lock chamber 11B is connected to the load lock chamber 11B.例文帳に追加
ロードロック室11Bには、ロードロック室11Bの内部を加熱可能な加熱装置90が設けられ、ロードロック室11B内を排気可能な真空ポンプ15’が接続されている。 - 特許庁
To provide a method of opening a load lock chamber to the atmosphere and the load lock chamber, capable of opening the load lock chamber to the atmosphere in a short time without whirling up foreign matters in the interior of the load lock chamber, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加
ロードロック室内部に異物を巻上げずに短時間で大気開放を行うことができるロードロック室の大気開放方法、ロードロック装置及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
LOAD-LOCK CHAMBER, EXPOSURE DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加
ロードロックチャンバー、露光装置、デバイスの製造方法 - 特許庁
A load-lock mechanism is arranged in a vacuum container.例文帳に追加
真空容器にロードロック機構が設けられている。 - 特許庁
This operation method carries a wafer to a load lock chamber for evacuating the load lock chamber (step 101).例文帳に追加
この運転方法は、ウエハをロードロック室に搬入してロードロック室を真空排気する(ステップ101)。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright (C) 1994- Nichigai Associates, Inc., All rights reserved. |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
