「mix and match」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Thus, when conducting the mix-and-match, the shot region which can be exposed all at once in the scan aligner 1 can be exposed all at once.例文帳に追加

このため、ミックス・アンド・マッチを行う際に、スキャン露光装置で１度に露光が可能なショット領域を一度に露光することができる。 - 特許庁

To improve overlay accuracy during mix-and-match processing among a plurality of aligners with different references of section area arrangement.例文帳に追加

区画領域の配列の基準が異なる複数の露光装置相互間でミックス・アンド・マッチを行なうに際して重ね合わせ精度の向上を図る。 - 特許庁

Eleven resin parts including the hood, trunk lid and bumpers can be exchanged and owners can mix and match different colors and designs.例文帳に追加

ボンネットフードやトランクフード，バンパーを含む11の樹脂パーツが取り換え可能で，所有者は異なる色やデザインを混ぜたり，合わせたりすることができる。 - 浜島書店 Catch a Wave

To provide a method by which a group of lithography devices effectively operating can be exploited without device idleness due to the throughput difference in a factory manufacturing semiconductor devices by a mix-and-match method using light and electron beams.例文帳に追加

光と電子ビームのミックスアンドマッチで半導体デバイスを製造する工場において、スループットの違いによる装置の遊びがなく有効に動作するリソグラフィー装置群を活用できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a static type aligner for demonstrating the maximum ability of a scan aligner when conducting of mix-and-match with the scan aligner and effectively suppressing residual errors at overlapping.例文帳に追加

スキャン露光装置とのミックス・アンド・マッチを行う際に、そのスキャン露光装置の能力を最大限に発揮させ、かつ重ね合せの際の残留誤差を効果的に抑制する静止型露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method which disposes of electron beam transfer exposure with one transfer without using a complementary mask, in exposure of a mix and match system of light and electron beam.例文帳に追加

光と電子線のミックス・アンド・マッチ方式の露光において、電子線転写露光をコンプリメンタリーマスクを使わないで１回の転写で済ませる方法を提供する。 - 特許庁

Thus, when mix-and-match is performed between devices for step-and-scan exposure, stacking at higher precision is allowed.例文帳に追加

これにより、ステップ・アンド・スキャン露光を行う装置間でミックス・アンド・マッチを行う場合に、より高精度な重ね合わせを行うことが可能となる。 - 特許庁

To provide a system architecture of nonlinearity correction in which "the mix and match" is given to an ROS and a pixel board adopted at random in manufacturing a printing system.例文帳に追加

プリンティングシステムの製造中にランダムに採用されたＲＯＳとピクセルボードとの「ミックスアンドマッチ」を可能にする非線形性補正システムアーキテクチャを提供する。 - 特許庁

This would be tremendously useful in bioinformatics, allowing researchers to easily mix and match objects without writing data munging scripts. 例文帳に追加

このことは、研究者がデータマンジング・スクリプトを書くことなく容易にオブジェクトを混合し照合できるので、バイオインフォマティクスでは途方も無く有用であろう。 - コンピューター用語辞典

Therefore, the overlay accuracy can be improved when performing mix-and-match processing by using a plurality of aligners with different references of section area arrangement.例文帳に追加

従って、区画領域の配列基準の異なる複数の露光装置を用いてミックス・アンド・マッチを行なうに際して、重ね合わせ精度を向上させることが可能になる。 - 特許庁

To provide a stationary exposure system, capable of improving a throughput while maintaining exposure accuracy by performing capability of a scanning exposure system, when mix-and-match operation is conducted with the scanning exposure system.例文帳に追加

スキャン露光装置とのミックス・アンド・マッチを行う際に、その装置の能力を最大限発揮させ、かつ露光精度を維持しつつ、スループットを向上させ得る静止型の露光装置を提供する。 - 特許庁

Related to an exposure method using mix-and-match method while a plurality of step-and-scan type exposure devices are used, a second exposure is performed scanning in the direction orthogonal to the scan direction at first exposure.例文帳に追加

複数のステップ・アンド・スキャン型の露光装置を用いて、ミックス・アンド・マッチ方式を用いて行う露光方法において、第１の露光の際のスキャン方向と直交する方向にスキャンを行いながら第２の露光を行う。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match step of exposure using at least two exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having sensitivity to a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam and usable in a mix and match process where exposure is performed using at least two kinds of exposure light sources selected from a g-line, an i-line, a KrF excimer laser and an electron beam, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線に対する感度を有し、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光するミックスアンドマッチ工程に使用できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁