patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
LAYOUT PATTERN GENERATING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM, AND LAYOUT PATTERN GENERATING DEVICE例文帳に追加
レイアウトパターン生成方法、半導体装置の製造方法、プログラム、レイアウトパターン生成装置 - 特許庁
To increase the success rate of pattern recognition when recognizing a prescribed pattern from an image.例文帳に追加
画像から所定のパターンを認識する際、そのパターン認識の成功率を高める。 - 特許庁
To easily form a fine pattern having a predetermined pattern on a predetermined position on a substrate.例文帳に追加
基板上の所定位置に所定パターンを有する微細パターンを容易に形成すること。 - 特許庁
PATTERN FORMING APPARATUS, ALIGNMENT APPARATUS, SUBSTRATE HANDLING APPARATUS, PATTERN FORMATION METHOD, AND SUBSTRATE HANDLING METHOD例文帳に追加
パターン形成装置、アライメント装置、基板処理装置、パターン形成方法、基板処理方法 - 特許庁
METHOD OF VERIFYING PATTERN, METHOD OF FORMING PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROGRAM例文帳に追加
パターンの検証方法、パターンの形成方法、半導体装置の製造方法及びプログラム - 特許庁
The precursor pattern has a light transmittance distribution corresponding to a thickness distribution of the inspection target pattern 2.例文帳に追加
原版パターンは、被検査パターン2の厚み分布に応じた光透過率分布を有する。 - 特許庁
The hitting position inspection pattern and the ejection energy measurement pattern are photographed (S8 and S9).例文帳に追加
着弾位置検査パターン及び吐出エネルギー測定パターンを撮像する(S8,S9)。 - 特許庁
For example, as the margin pattern, "long R (red) light emission" is used from the cell in the data pattern.例文帳に追加
例えば、マージンパターンとして、データパタン中のセルより「長いR(赤色)発光」を用いる。 - 特許庁
An insulating layer 30 is formed covering the metal pattern 18 and the semiconductor pattern 16.例文帳に追加
金属パターン18及び半導体パターン16を覆う絶縁層30を形成する。 - 特許庁
To provide a mesa pattern shape of a mesa section, which does not deviate from a mask pattern shape greatly.例文帳に追加
マスクパターン形状から大きく乖離しないメサ部のメサパターン形状を得ること。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING CONCAVO-CONVEX PATTERN ON PHOTOSENSITIVE SUBSTRATE AND EXPOSURE APPARATUS FOR INTERFERENCE FRINGE PATTERN例文帳に追加
感光性基板に凹凸パターンを形成する方法及び干渉縞パターン露光装置 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN AND MANUFACTURING METHOD FOR MICRO-DEVICE例文帳に追加
レジストパターンの形成方法、薄膜パターンの形成方法及びマイクロデバイスの製造方法 - 特許庁
The inductor pattern 20 and capacitor pattern 21 extend to the same side of the sheet 15.例文帳に追加
インダクタパターン20とコンデンサパターン21は、シート15の同一辺に向かって延在している。 - 特許庁
The capacitor pattern 22 and inductor pattern 23 extend toward the same side of the sheet 14.例文帳に追加
コンデンサパターン22とインダクタパターン23は、シート14の同一辺に向かって延在している。 - 特許庁
A VFO pattern continuous detection counting part 14 counts the continuation of the VFO pattern.例文帳に追加
VFOパターン連続検出数計数部14は、VFOパターンの連続数をカウントする。 - 特許庁
CP pattern groups (32 to 34) having sizes varied with respect to the CP pattern (33) are created.例文帳に追加
CPパターン(33)に対し寸法を変更したCPパターン群(32〜34)を作成する。 - 特許庁
LAMINATED FILM WITH PATTERN FORMING MATERIAL ND PATTERN TRANSFER METHOD USING SAME例文帳に追加
パターン形成材料付き積層フィルムおよびその積層フィルムを用いるパターン転写方法 - 特許庁
A servo pattern group having the best transfer quality of a servo pattern is selected as SPopt.例文帳に追加
サーボパターンの転写品質が最も良いサーボパターン群をSPoptとして選択する。 - 特許庁
PATTERN INSPECTION DEVICE, PATTERN INSPECTION METHOD, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
パターン検査装置、パターン検査方法および露光装置ならびに電子装置の製造方法 - 特許庁
Thus, the replaced display of the pattern column of "-, 7, -" and the pattern column of "6, -, 7" is performed.例文帳に追加
これにより、「−,7,−」の図柄列と、「6,−,7」の図柄列との入替表示が行われる。 - 特許庁
PATTERN-PLATING METHOD FOR GLASS SUBSTRATE SURFACE AND GLASS SUBSTRATE PATTERN-PLATED BY USING THE SAME例文帳に追加
ガラス基板表面のパターンメッキ方法及びこれを用いてパターンメッキを施したガラス基板 - 特許庁
FINE PATTERN DRAWING MATERIAL, DRAWING METHOD USING THE SAME AND FINE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
微細パターン描画材料、それを用いた描画方法及び微細パターン形成方法 - 特許庁
(Step S3) The density of the dummy pattern and the design pattern is calculated for every division region.例文帳に追加
ダミーパターンと設計パターンとの密度を分割領域毎に算出する(ステップS3)。 - 特許庁
To decrease a film thinning of an upper layer resist pattern, when transferring the pattern to a lower layer resist film.例文帳に追加
下層レジスト膜へのパターン転写時に、上層レジストパターンの膜減りを低減する。 - 特許庁
To provide a resist pattern forming method, in which the overlaying accuracy of pattern is improved.例文帳に追加
パターンの重ね合わせ精度を向上させたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING APPARATUS OF ELECTROLYTE FILM FOR PATTERN FORMATION USED IN THE METHOD例文帳に追加
パターン形成方法及びそれに用いるパターン形成用電解質膜の製造装置 - 特許庁
FILM PATTERN, ITS FILM PATTERN FORMING METHOD, CONDUCTIVE FILM WIRING AND ELECTRO-OPTIC APPARATUS例文帳に追加
膜パターンとその膜パターン形成方法、及び導電膜配線、並びに電気光学装置 - 特許庁
A shift between the evaluation pattern 2a and the evaluation pattern 2b upon the overlapping thereof is measured.例文帳に追加
評価パターン2aと評価パターン2bとの重ね合わせ時のズレ量を測定する。 - 特許庁
To provide a method for creating an evaluation pattern for easily creating many pattern variations.例文帳に追加
豊富なパタンバリエーションを容易に作成できる評価パタンの作成方法を提供すること。 - 特許庁
METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN, DEVICE FOR DESIGNING MASK PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターン設計方法、マスクパターン設計装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
CURED FILM FORMING METHOD, PATTERN FORMING METHOD, PATTERN USAGE, ELECTRONIC COMPONENT, AND OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加
硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路 - 特許庁
COATING FORMING AGENT FOR RESIST PATTERN MICROFABRICATION AND MICRO RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
レジストパターン微細化用被覆形成剤及びそれを用いた微細レジストパターン形成方法 - 特許庁
Next, the silicon substrate 11 is etched using the lower resist pattern 22A and the upper resist pattern as a mask.例文帳に追加
下部レジストパターン22Aと上部レジストパターンをマスクとしてシリコン基板11をエッチングする。 - 特許庁
RESIST PATTERN THICKENING MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの製造方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
RESIST PATTERN THICKENING MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターン厚肉化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR PATTERN EVALUATION SYSTEM, PATTERN FORMING PROCESS CONTROL METHOD, AND PROCESS MONITORING METHOD例文帳に追加
半導体パターン評価システム及びパターン形成プロセス制御方法並びにプロセス監視方法 - 特許庁
The circuit pattern and the evaluation pattern are transferred in a lump on the first layer on a wafer W.例文帳に追加
ウェハW上の第1層目に回路パターンと評価パターンとを一括で転写する。 - 特許庁
BASE MATERIAL FOR PATTERN FORMATION, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
パターン形成用基材、ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、および半導体装置 - 特許庁
To provide a pattern forming apparatus for forming a pattern of high shape precision on a substrate.例文帳に追加
基板上に形状精度の高いパターンを形成するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁
RESIST PATTERN IMPROVING MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
レジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
A rhythm pattern extraction part 231 extracts a prescribed rhythm pattern from MID data.例文帳に追加
リズムパターン抽出部231は、MIDIデータから所定のリズムパターンを抽出する。 - 特許庁
FINE PATTERN FORMING MATERIAL, FINE PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
微細パターン形成材料、微細パターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
Then a base insulating layer 2 is bonded on the conductor pattern through the adhesive pattern.例文帳に追加
その後、接着剤パターンを介して導体パターン上にベース絶縁層2を接合する。 - 特許庁
SERVO PATTERN INFORMATION WRITING DEVICE FOR MAGNETIC DISK UNIT, AND REFERENCE CLOCK PATTERN WRITING METHOD例文帳に追加
磁気ディスク装置のサーボパターン情報書き込み装置、および基準クロックパターン書き込み方法 - 特許庁
RESIST PATTERN DEVELOPER, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND PHOTOMASK PRODUCED USING THOSE例文帳に追加
レジストパターン現像液及び形成方法、並びにそれらを使用して製造されたフォトマスク - 特許庁
ORGANISM PATTERN CERTIFICATION DEVICE, ORGANISM PATTERN CERTIFICATION METHOD AND PROGRAM DESCRIBING METHOD例文帳に追加
生体パターン認証装置、生体パターン認証方法及びこの方法を記述したプログラム - 特許庁
METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, METHOD OF FORMING ELECTRODE PATTERN, AND SURFACE ACOUSTIC WAVE APPARATUS例文帳に追加
レジストパターンの形成方法、電極パターンの形成方法及び弾性表面波装置 - 特許庁
MASK PATTERN DATA PREPARATION METHOD, MASK PATTERN DATA PREPARATION PROGRAM, MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクパターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成プログラム、マスク、半導体装置の製造方法 - 特許庁
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