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titanium diffusionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 66件
To provide a porous titanium oxide coating film, which allows ions and electrons to travel efficiently while suppressing reverse electron transfer and facilitates light diffusion, thereby making possible to produce a dye-sensitized solar cell with a large conversion efficiency.例文帳に追加
逆電子移動を抑制するとともに、イオンと電子の効率的な移動を可能とし、且つ、光拡散を容易にすることで、変換効率の大きい色素増感太陽電池を製造できる多孔質酸化チタン塗膜を提供する。 - 特許庁
The capacitor comprises a diffusion stop film 20 that is formed on a substrate 10 and is comprised of the elements of ternary system including ruthenium (Ru), titanium (Ti), and oxygen (O), a lower electrode 30 formed on the diffusion stop film, a dielectric 40 formed on the lower electrode, and an upper electrode 50 formed on the dielectric 40.例文帳に追加
キャパシタは、基板10上に形成されたルテニウム(Ru)、チタニウム(Ti)及び酸素(0)の三元系元素から構成された拡散防止膜20と、前記拡散防止膜上に形成された下部電極30、前記下部電極上に形成された誘電体40及び前記誘電体上に形成された上部電極50とから構成される。 - 特許庁
In the gas diffusion electrode in which the catalyst is carried on a base material, the catalyst is composed of a metal oxide of Zr (zirconium), Ti (titanium), Nb (niobium), and Ta (tantalum), and the base material is made of Ti and a porous base material of a fiber shape or a sintered body.例文帳に追加
基材に触媒が担持されたガス拡散電極において、触媒は、Zr(ジルコニウム)、Ti(チタン)、Nb(ニオブ)、Ta(タンタル)の金属酸化物から構成され、基材は、Tiであり、繊維状または焼結体の多孔性基材である。 - 特許庁
The Schottky structure to be formed on the gallium arsenide semiconductor is formed of the gallium arsenide semiconductor substrate, a titanium metal layer to form distributed Schottky contacts on the gallium arsenide semiconductor substrate, a diffused barrier layer to prevent diffusion of metal layer through distribution on the titanium metal layer, and cuprous metal layer distributed on the diffused barrier layer to form the Schottky structure.例文帳に追加
ヒ化ガリウム半導体基板と、該ヒ化ガリウム半導体基板上に分布してショットキー・コンタクトを形成するチタン金属層と、該チタン金属層上に分布して金属層の拡散を防ぐ拡散バリア層と、該拡散バリア層上に分布してショットキー構造を形成する第1銅金属層とによりヒ化ガリウム半導体上に形成されるショットキー構造を構成する。 - 特許庁
A magnesium alloy preform with a foaming agent uniformly dispersed therein is formed by using a Mg-Al-Zn-based magnesium alloy sheet with the foaming agent (0.5 to 2.0mass% titanium hydride powder) held therein as a raw material, and repeating laminating, diffusion joining, rolling, and cutting of the magnesium alloy sheet.例文帳に追加
発泡剤(0.5〜2.0質量%の水素化チタン粉末)を間に挟んだMg-Al-Zn系マグネシウム合金板を原料とし、マグネシウム合金板の積層、拡散結合、圧延、切断を繰り返して、発泡剤が均一に分散したマグネシウム合金プリフォームを作成する。 - 特許庁
To obtain a cosmetic composition effective for preventing the stimulation of the skin with free radicals caused by the photocatalytic reaction of titanium oxide used in conventional cosmetic compositions and the accumulation of skin aging factors and suppressing the increase of melanin formation and the diffusion of melanin caused by free radicals.例文帳に追加
繁用化粧料組成物である酸化チタンの光触媒反応によるフリーラジカルの皮膚への用時刺激と皮膚老化因の蓄積を防ぎ、フリーラジカルに対するメラニン生成増とその拡散を抑えることができる化粧料組成物を提供することにある。 - 特許庁
The surface cloth as a diffusion reflection layer is woven in the thickness of 150-200μm, for instance, by the density of about 100 threads/inch by using a thread where titanium oxide, a white pigment or a fluorescent dye are mixed, and surface roughness (SMD) by a KES method is set, for instance, 0.4-0.5 micron.例文帳に追加
拡散反射層としての表地は、酸化チタン、白色顔料または蛍光染料を練り込んだ糸を用い、例えば、約100本/インチの密度で150〜200μmの厚みに製織したものであり、KES法による表面粗さ(SMD)が例えば0.4〜0.5micronである。 - 特許庁
The titanium material 1, which has the thermal spray film layer after the fusion diffusion treatment as a joining face, and the aluminum material 2 are butted, both are joined with using TIG welding using an aluminum filler material or brazing joing using brazing filler metal.例文帳に追加
溶融拡散処理後の溶射皮膜層3を接合面としてチタン系材料1とアルミニウム系材料2とを突き合わせて、アルミニウム系溶加材を用いたTIG溶接もしくはアルミニウム系ろう材を用いたろう付け接合法により両者を接合する。 - 特許庁
To produce high purity titanium used for a target or the like capable of suppressing contaminated materials caused by the mutual diffusion of materials composing a laminated thin film, and of limiting an abnormal discharging phenomenon and particles as much as possible in the case of film formation by sputtering and to provide a method for producing it.例文帳に追加
積層薄膜を構成する物質の相互拡散に起因する汚染物質の抑制、及びスパッタリングによる成膜に際しては、異常放電現象やパーテイクルを極力制限することができるターゲット等に使用できる高純度チタン及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
This dense ceramics material having the electrostatic diffusion is obtained by dispersing and including silicon carbide and a titanium oxide as an electroconductivity imparting agent in oxide-based ceramics such as alumina, zirconia or cordierite, is excellent in physicochemical properties and has 104 to 1012 Ω.cm volume resistivity.例文帳に追加
アルミナ、ジルコニア、コーディライトなどの酸化物系セラミックスに導電付与剤として炭化珪素とチタン酸化物を分散含有することにより、緻密で物理的・化学的性質に優れた、10^4〜10^12Ω・cmの体積抵抗率を有する静電気拡散性を有するセラミックス材料である。 - 特許庁
A photo-guide plate 10 consists of a transparent plate in which at least one end face is used as a light incident surface and other plane, at least one, is allowed to serve as a light emission surface, wherein the light emission surface has a light diffusion layer 12 containing 1-50 wt.% transparent spherical powder covered with titanium dioxide.例文帳に追加
少なくとも一つの端面を入光面とし、他の少なくとも一つの平面を出光面とする透明板からなる導光板において、該透明板の出光面に二酸化チタン被覆透明球状粉末を1〜50重量%含む光拡散層を有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a metal wiring forming method in which reliability of a metal wiring is secured by selectively forming a titanium or ruthenium metal, which is capable of preventing diffusion of a copper selectively, at an interface between a copper (Cu) metal wiring having no head for electromigration and a capping film.例文帳に追加
エレクトロマイグレーションに弱い銅(Cu)金属配線とキャッピング膜との界面に選択的に銅の拡散を防止することが可能なチタニウム又はルテニウム金属を選択的に形成して金属配線の信頼性を確保することが可能な金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁
This semiconductor device is provided with a contact hole 47, inside which a boundary between diffusion layers 41 and 42 and an element isolation region 12 is exposed, and a high melting-point metal layer (a titanium film 48) for covering the surface of a silicon substrate 11 exposed inside the contact hole 47 is formed into a thickness of 5 nm-11 nm.例文帳に追加
拡散層41,42と素子分離領域12との境界が内部に露出する接続孔(コンタクトホール47)を備えた半導体装置において、コンタクトホール47の内面に露出するシリコン基板11表面を被覆する高融点金属層(チタン膜48)が5nm以上11nm以下の膜厚に形成されているものである。 - 特許庁
A lithographic printing material applying a silver complex salt diffusion transfer process is provided which has at least a silver halide emulsion layer and a physical development nucleus layer in order on a support, wherein the lithographic printing material contains a titanium oxide subjected to an inorganic surface treatment in at least one of the silver halide emulsion layer and a layer above the emulsion layer.例文帳に追加
支持体上に少なくともハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層を順に有する銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷材料に於て、該ハロゲン化銀乳剤層及びその上層の少なくとも一層に、無機表面処理が施された酸化チタンを含有することを特徴とする平版印刷材料 - 特許庁
A lithographic printing plate which contains physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum supporting body and a silver halide emulsion layer and which utilizes a silver complex salt diffusion transfer method is exposed, developed and then treated with a processing liquid containing at least one compound in fluorides of metals selected from titanium, zirconium, zinc and hafnium.例文帳に追加
陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光、現像処理後に前記平版印刷版を、チタン、ジルコニウム、亜鉛及びハフニウムの中から選ばれる金属のフッ化物の中の少なくとも1つの化合物を含む処理液で処理する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a titanium honey comb wherein a spreading is performed without a hindrance, cleaning and removing of a mold release agent is made easy and scattering of a mold release powder, generation of speckles are restrained because reaction between a base metal and the mold release agent is restrained at the time of diffusion joining.例文帳に追加
第1に、拡散接合に際し母材と離型剤の反応が抑えられ、母材の表層部に化合物,脆化層を生成,形成することが回避され、第2に、もって展張が支障なく行われ、離型剤の洗浄,除去も容易化され、製造されたハニカムコアの耐食性等も維持され、更に第3に、溶剤の乾燥,揮発,蒸発が順調に行われ、離型粉末の飛散、斑の発生も抑えられる、チタンハニカムの製造方法を提案する。 - 特許庁
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