photo-stageとは 意味・読み方・使い方

A photo electron is emitted from the surface of a sample 12 being placed on a sample stage 13 by applying ultraviolet rays from an ultraviolet-ray irradiation device 15.例文帳に追加

紫外線照射装置１５からの紫外線照射により試料ステージ１３上に載置された試料１２の表面から光電子が放出される。 - 特許庁

The photo-curable liquid composition 1 is cured on a support stage 3 with light 8 to form the cured layers 6,7.例文帳に追加

光硬化性液状組成物１は、支持ステージ３上で光８によって硬化し、硬化層６，７となる。 - 特許庁

Furthermore, the transmitted X-rays impinge on a solid detector 30b of the next stage consisting of a scintillator and a photo-diode, and are converted to another electric signal.例文帳に追加

さらに透過Ｘ線は次段のシンチレータとフォトダイオードからなる固体検出器３０ｂに入射し、電気信号に変換される。 - 特許庁

Furthermore, the long photo-curing time, problem of the light emitting diodes, can be solved by carrying out the preheating process as a pre-stage operation of the photo-curing process.例文帳に追加

且つ、発光ダイオードの場合の課題である硬化作業時間の長期化を予熱工程を光硬化工程の前段の動作として行うことで解消している。 - 特許庁

The output of a photo diode 1 which detects an optical signal from an optical fiber sequentially passes an initial-stage amplifier part, an amplifier 17, a hysteresis comparator 18, a buffer 19, and an output stage.例文帳に追加

光ファイバからの光信号を検知するフォトダイオード１の出力は、初段アンプ部、アンプ１７、ヒステリシスコンパレータ１８、バッファ１９および出力段を順次経由する。 - 特許庁

To provide an inspection method in which problems associated with product reliability and those associated with manufacturing steps are reflected at an early stage, by detecting an influence of a photo-electric effect on a thin film transistor at an early stage.例文帳に追加

光電効果の薄膜トランジスターに対する影響を早期に検出し、製品の信頼性および工程に関連する問題を早期に反映させることのできる検査方法を提供する。 - 特許庁

Or the attitude control mechanism includes a straightening means 11 which is arranged in the mask stage 6 for holding a photo mask 1 mounting the pellicle structure 2 thereon and straightens the airflow near the film surface of the pellicle film 3 when the mask stage 6 is scanned.例文帳に追加

または、ペリクル構造体２が装着されたフォトマスク１を保持するマスクステージ６に設けられ、このマスクステージ６の走査時にペリクル膜３の膜面付近の気流を整流する整流手段１１を有する。 - 特許庁

In a constant temperature chamber 10, a lighting system 11 and a reticle stage 13 that holds a reticle 12 as a photo mask are deployed, and further, a projection optical system 14, an alignment optical system 15, a wafer stage mechanism 16, and a stage position measuring system 17 are deployed.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１、フォトマスクとしてのレチクル１２を保持するレチクルステージ１３が配備され、さらに、投影光学系１４、アライメント光学系１５、ウェハステージ機構１６、ステージ位置計測系１７が配備されている。 - 特許庁