「photo-stage」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The ink complex viscoelastic modulus control subsystem may comprise a partial curing stage, such as a photo-curing stage.例文帳に追加

インク複素粘弾性係数制御サブシステムには、光硬化ステージ等の一部硬化ステージを設けることができる。 - 特許庁

The level of a proximity gap formed between a photo mask 3A on a mask receiver 4 and a glass substrate 1C on a substrate stage 2 is changed at a center part which is a barycentric position of the photo mask 3A and at a peripheral part near a fixed end of the photo mask 3A.例文帳に追加

マスク受け４上のフォトマスク３Ａと基板ステージ２上のガラス基板１Ｃとの間に形成されるプロキシミティギャップを、フォトマスク３Ａの重心位置となる中央部とフォトマスク３Ａの固定端に近い周縁部では、プロキシミティギャップの大きさを変えている。 - 特許庁

A photo electron is emitted from the surface of a sample 12 being placed on a sample stage 13 by applying ultraviolet rays from an ultraviolet-ray irradiation device 15.例文帳に追加

紫外線照射装置１５からの紫外線照射により試料ステージ１３上に載置された試料１２の表面から光電子が放出される。 - 特許庁

The photo-curable liquid composition 1 is cured on a support stage 3 with light 8 to form the cured layers 6,7.例文帳に追加

光硬化性液状組成物１は、支持ステージ３上で光８によって硬化し、硬化層６，７となる。 - 特許庁

Furthermore, the transmitted X-rays impinge on a solid detector 30b of the next stage consisting of a scintillator and a photo-diode, and are converted to another electric signal.例文帳に追加

さらに透過Ｘ線は次段のシンチレータとフォトダイオードからなる固体検出器３０ｂに入射し、電気信号に変換される。 - 特許庁

Furthermore, the long photo-curing time, problem of the light emitting diodes, can be solved by carrying out the preheating process as a pre-stage operation of the photo-curing process.例文帳に追加

且つ、発光ダイオードの場合の課題である硬化作業時間の長期化を予熱工程を光硬化工程の前段の動作として行うことで解消している。 - 特許庁

The output of a photo diode 1 which detects an optical signal from an optical fiber sequentially passes an initial-stage amplifier part, an amplifier 17, a hysteresis comparator 18, a buffer 19, and an output stage.例文帳に追加

光ファイバからの光信号を検知するフォトダイオード１の出力は、初段アンプ部、アンプ１７、ヒステリシスコンパレータ１８、バッファ１９および出力段を順次経由する。 - 特許庁

To provide an inspection method in which problems associated with product reliability and those associated with manufacturing steps are reflected at an early stage, by detecting an influence of a photo-electric effect on a thin film transistor at an early stage.例文帳に追加

光電効果の薄膜トランジスターに対する影響を早期に検出し、製品の信頼性および工程に関連する問題を早期に反映させることのできる検査方法を提供する。 - 特許庁

Or the attitude control mechanism includes a straightening means 11 which is arranged in the mask stage 6 for holding a photo mask 1 mounting the pellicle structure 2 thereon and straightens the airflow near the film surface of the pellicle film 3 when the mask stage 6 is scanned.例文帳に追加

または、ペリクル構造体２が装着されたフォトマスク１を保持するマスクステージ６に設けられ、このマスクステージ６の走査時にペリクル膜３の膜面付近の気流を整流する整流手段１１を有する。 - 特許庁

In a constant temperature chamber 10, a lighting system 11 and a reticle stage 13 that holds a reticle 12 as a photo mask are deployed, and further, a projection optical system 14, an alignment optical system 15, a wafer stage mechanism 16, and a stage position measuring system 17 are deployed.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１、フォトマスクとしてのレチクル１２を保持するレチクルステージ１３が配備され、さらに、投影光学系１４、アライメント光学系１５、ウェハステージ機構１６、ステージ位置計測系１７が配備されている。 - 特許庁

To provide an optical communication module that suppresses initial stage defect due to contamination of an optical element, that has a high photosensitivity when using a silicon based photo diode or a gallium arsenide based photo diode, and that enables near infrared light to be used for communication.例文帳に追加

光素子の汚染による初期不良を抑え、さらにシリコン系のフォトダイオードやガリウム砒素系のフォトダイオードを用いた場合に受光感度が高い、近赤外の光を通信用に使用可能とする光通信モジュールを提供する。 - 特許庁

In this device, a condensing lens 42 and a photo sensor 44 are disposed on a rack 50 moved together with a beam splitter 40 so that the distance N between the condensing lens 42 and the photo sensor 44 on a second stage on the movable shaft side is unchanged irrespective of the movement of the movable shaft (here, a galvano-unit 32) side.例文帳に追加

集光レンズ４２及びフォトセンサ４４を、ビームスプリッタ４０と共に移動する架台５０に配設して、移動軸側後段の集光レンズ４２とフォトセンサ４４間の距離Ｎが移動軸（ここではガルバノユニット３２）側の移動に拘わらず変化しないようにした。 - 特許庁

By moving an X stage 15 in the main scanning direction X, three pairs of sensors consisting of slitted pin photo diodes 17a, 17b and 17c and CCD line sensors 18a, 18b and 18c provided on the X stage 15 at predetermined intervals also move to arbitrary positions in the scanning direction X.例文帳に追加

Ｘステージ１５を主走査方向Ｘに移動させることにより、Ｘステージ１５に所定の間隔を隔てて配置されたスリット付ピンフォトダイオード１７ａ，１７ｂ，１７ｃおよびＣＣＤラインセンサ１８ａ，１８ｂ，１８ｃからなる３組のセンサ対も走査方向Ｘの任意の位置に移動する。 - 特許庁

In a standby state, a photo diode circuit 110 and a current amplifier 112 in the first stage are supplied with a power source voltage to operate, and current amplifiers 114 and 116 in the second stage or later are not supplied with a power source voltage and prevented from operating.例文帳に追加

スタンバイ状態の際には、フォトダイオード回路１１０と初段の電流アンプ１１２に電源電圧を供給して動作させるが、２段目以降の電流アンプ１１４及び１１６に電源電圧を供給せずに動作させない。 - 特許庁

The photo-mask is conveyed to an alignment stage unit by a conveyance means and placed on a temporary supporting member having a plurality of cushion functions provided on an exposure chuck.例文帳に追加

搬送手段が、フォトマスクをアライメントステージユニットに搬送して、露光チャックに設けられた複数の緩衝機能を有する一時支持部材上に載置する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure device that suppress temperature fluctuation of an exposure stage and a photo mask without affecting productivity and reduce variations in accuracy of total pitch of a product and transfer accuracy.例文帳に追加

生産性に影響を与えずに露光ステージ及びフォトマスクの温度変動を抑制し、製品のトータルピッチの精度や転写精度のバラツキを低減させる露光方法及び露光装置を提供するものである。 - 特許庁

Logical circuits 19 to 28 and an oscillator 30 are connected to the subsequent stage of the comparators 15 to 18, and a duty-ratio signal is formed corresponding to a voltage level and transmitted to the primary side via the one photo-coupler 10.例文帳に追加

コンパレータ１５〜１８の後段には論理回路１９〜２８と発振器３０とが接続され、電圧レベルに対応したデューティ比信号が形成され、ひとつのフォトカプラ１０を介して１次側に伝達される。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing apparatus and a drawing method in which deterioration in accuracy of a photo mask caused by a position error incurred in an orthogonal direction can be suppressed in accordance with a continuous moving direction of a stage.例文帳に追加

ステージの連続移動方向により直交方向に生じる位置誤差に起因するフォトマスクの精度悪化を抑制可能な荷電粒子ビーム描画装置、及び描画方法を提供する。 - 特許庁

A medium 12 composed of epoxy resin which is in such a condition that fine particles of a photo-semi-conductive material (zinc oxide) whose average diameter is 30 nm is dispersed at 5 pts.wt. concentration is accommodated in a receptacle 13 mounted on a stage 11.例文帳に追加

ステージ１１上に載置された容器１３内に、光半導性物質（酸化亜鉛）の平均粒径３０ｎｍの微粒子を５重量部の濃度で分散させた状態のエポキシ樹脂からなる媒体１２を収容する。 - 特許庁

To reduce the possibility of missing a function for detecting the rotational direction and rotational angle of a steering wheel and also to detects occurrence of disorder of a photo-coupler for detecting rotation in early stage.例文帳に追加

ステアリングホイールの回転方向並びに回転角度の検出機能が喪失する可能性を低くすること、並びに回転検出用のホトカプラの故障発生を早期に検出可能にすること。 - 特許庁

In the photo lithography process of a primary stage, when a wiring region 10 is formed on a substrate 1 in which photoresist 2 is spread on the whole surface, exposure is performed so that the resist cross-section becomes an inverse tapered shape profile.例文帳に追加

第１段階のフォトリソグラフィー工程において、フォトレジスト２を全面に塗布した基板１上に配線領域１０を形成する際、そのレジスト断面が逆テーパ形状となるように露光する。 - 特許庁

A position of a mask stage 7 for capturing EUV light is previously stored by using a photo diode 24 for EUV light detection, and a first intensity distribution of the EUV light at the position is measured.例文帳に追加

ＥＵＶ光検出用フォトダイオード２４によりＥＵＶ光を捉えるマスクステージ７の位置をあらかじめ記憶し、この位置におけるＥＵＶ光の第１強度分布を計測しておく。 - 特許庁

The four wing pieces 7b radially project from a central stage section excepting the distal end side and the root side of the pole shaft 7a, and a reflective type photo-sensor 40 is provided on each projecting end.例文帳に追加

４つの翼片７ａはポール軸７ａの先端側及び根元側を除く中段部から放射状に突出し、それぞれの突出端に反射型のフォトセンサ４０が設けられる。 - 特許庁

A wafer W1 that is coated with photo resist is retained on a wafer stage 23A via a wafer holder 24A, and two-dimensional reference marks 34A and 34B are formed at the outer-periphery part of the wafer holder 24A.例文帳に追加

ウエハステージ２３Ａ上にウエハホルダ２４Ａを介して、フォトレジストが塗布されているウエハＷ１を保持し、ウエハホルダ２４Ａの外周部に２次元の基準マーク３４Ａ，３４Ｂを形成しておく。 - 特許庁

A dummy quantum well element 3 equipped with a dummy quantum well layer 4 to be irradiated with high-directivity light 6 for operating transmission of light 5 to be detected is provided on the pre-stage of a quantum well element 1 for photo-detection.例文帳に追加

指向性の高い光６を照射することによって被検知光５の透過を操作できるダミー量子井戸層４を備えたダミー量子井戸素子３を光検知用量子井戸素子１の前段に設ける。 - 特許庁

In a constant temperature chamber 10, a lighting system 11 is provided as well, and a reticle stage 13 which holds a reticle 12 that is a photo mask for alignment, a projection optical system 14, an alignment system 15 and a shutter 16 that is interlocked with it, a wafer stage 17 for holding a semiconductor substrate Waf, and a stage position measuring system 18 are provided.例文帳に追加

恒温チャンバー１０内において、照明系１１が併設され、フォトマスクであるレチクル１２を保持して位置決めするレチクルステージ１３、投影光学系１４、アライメント系１５及びこれに連動するシャッター１６、半導体基板Ｗａｆを保持するウェハステージ１７、ステージ位置計測系１８が配備されている。 - 特許庁

To provide a photo-receiver shortening the decision time of an input disconnection while being capable of easily changing the decision time and being capable of deciding input disconnection, even if a clock frequency cannot be extracted from a receiving signal in the photo-receiver having a constitution in which the receiving signal at the post-stage of a capacitive element for AC coupling is detected.例文帳に追加

交流結合用容量素子の後段における受信信号を検波する構成を有する光受信器において、入力断の判定時間を短縮するとともに該判定時間を容易に変更でき、且つ受信信号からクロック周波数を抽出できない場合でも入力断を判定できる光受信器を提供する。 - 特許庁

Hideki TOGI, for example, who hardly ever puts on any makeup during his performances in gagaku (ancient Japanese court dance and music), appeared in a photo book wearing stage makeup similar to what is used in Kabuki Buyo, and Ayumi HAMASAKI, who already gives a strong impression of wearing atsugesho, puts on even heavier atsugesho in advertisements for digital cameras and other similar cases too numerous to mention. 例文帳に追加

例えば、雅楽の演奏の時には殆ど化粧しない東儀秀樹が写真集の中で歌舞伎舞踊と同様の舞台化粧で登場する、元々厚化粧の印象が強い浜崎あゆみもデジタルカメラの広告で更に厚化粧になる、と言うようなケースは枚挙にいとまが無い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a curable resin composition having a characteristic of a two-stage curing of photo-curing and heat-curing, having a low property of being stained by a curable resin when being in contact with a liquid or a liquid crystal, and having a high adhesion strength, and a sealant, a sealing agent for use in a liquid crystal dropping process, and a liquid crystal display element using the same.例文帳に追加

光硬化及び熱硬化の２段階硬化を特長とし、液体又は液晶との接触時に硬化性樹脂による汚染性が低く、接着強度が高い硬化性樹脂組成物並びにこれを用いた封止剤、液晶滴下工法用シール剤及び液晶表示素子を提供すること。 - 特許庁

In constructing a residence and a store, when titanium dioxide and the photo-catalyst are carried at the stage of construction materials, an environment which cockroaches and ticks evade in the whole space of the residence and the store, anti-bacterial and mildew-resistant actions, and decomposing and purifying actions for the organic substances can be obtained.例文帳に追加

住宅や店舗の建築において、二酸化チタンや光触媒を建材の段階で担持させれば、住宅・店舗の全ての空間においてゴキブリやダニの忌避する環境と、抗菌、防カビ、有機物の分解、浄化作用が得られる。 - 特許庁

In a power supply circuit supplying power to an I.I (image intensifier) tube drive part 13 with a switch 12, a delay circuit 16 comprising a resistor 14 and a capacitor 15 is provided for delaying an ON signal of the switch 12, and a photo MOS relay 18 is provided in a post-stage of the delay circuit 16.例文帳に追加

スイッチ１２にてＩ・Ｉチューブ駆動部１３へ電源を投入する電源回路において、上記スイッチ１２のオン信号を遅延するために、抵抗１４及びコンデンサ１５からなる遅延回路１６を設けると共に、この遅延回路１６の後段に、フォトモスリレー１８を設ける。 - 特許庁

The photo direct printer includes a means to measure and hold time when the thumbnails are displayed when a subsequent image is selected before the main images are displayed with the thumbnails displayed, and realizes optimum two-stage image display by varying the display timing of the subsequent main images in accordance with the measured time.例文帳に追加

サムネールが表示されている状態で、主画像が表示されるまえに、次の画像が選択された場合、サムネールが表示されていた時間を測定して保持する手段を有し、その測定時間に応じて以降の主画像の表示タイミンウグを変化させることで、最適な２段階画像表示を実現する。 - 特許庁

The photo-detector 108 receives the measuring light that is obliquely incident to the projection optical system UL, passed through the projection optical system UL, incident to a wafer W on the wafer stage WS, reflected on the wafer W and further passed through the projection optical system UL.例文帳に追加

受光器１０８は、投影光学系ＵＬに斜入射して投影光学系ＵＬを通過し、基板ステージＷＳ上の基板Ｗに入射して基板Ｗで反射され、投影光学系ＵＬを更に通過した計測光を受光する。 - 特許庁

A controller 9 moves the stage 2 from a reference place to a target place while referring to one measured value of the system 6 or the cameras 7, and detects the displacement or the like of the stage 2 and the photo mask 4 on the basis of the displacement of the other measured value of the system 6 or the cameras 7 and a value to be measured by the other at the target place.例文帳に追加

制御装置９は、レーザー測長系６又はカメラ７のうち一方の測定値を参照しつつ、ステージ２を基準位置から目標位置へ移動させ、レーザー測長系６又はカメラ７のうち他方の測定値と、目標位置にて他方が測定すべき値とのずれに基づいて、ステージ２とフォトマスク４とのずれ等を検出する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.例文帳に追加

本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁

After re-installing a light source 6, a second intensity distribution of the EUV light at the position of the mask stage 7 for capturing the EUV light is measured as a function of the position coordinate of the photo diode 24 for EUV light detection, The light source 6 is moved by a light source fine movement mechanism 23 so that the first intensity distribution coincides with the second intensity distribution.例文帳に追加

光源６を再設置した後、ＥＵＶ光を捉えるマスクステージ７の位置でのＥＵＶ光の第２強度分布をＥＵＶ光検出用フォトダイオード２４の位置座標の関数として計測し、第１強度分布と第２強度分布とが一致するように光源微動機構２３によって光源６を移動させる。 - 特許庁

The apparatus has a stage holding a substrate, a nozzle portion having an outlet from which photo-curable fine liquid drops are discharged toward the substrate, an optical fiber emitting a pulse light on the drops synchronously with the discharging of the drops from the nozzle portion and a moving mechanism moving the nozzle portion relative to the substrate.例文帳に追加

パターン形成装置は、基板を保持するステージ、光硬化性の微小液滴を基板に向けて吐出する吐出口を有するノズル部、ノズル部からの微小液滴の吐出に同期して微小液滴にパルス光を照射する光ファイバ、ノズル部を基板に対して相対的に移動する移動機構を有する。 - 特許庁

In the coating film removing device for the cylindrical electrophotographic photoreceptor having the photo conductive layer applied and formed on the surface by the dip coating method, inside wiping bodies in the inside and outside wiping bodies are provided in upper and lower 2 stages and a wiping body main part of the upper stage wiping body is intermittently formed.例文帳に追加

浸漬塗布法により光導電層が表面に塗布形成された円筒状電子写真用感光体の塗布膜除去装置において、前記内外面各拭取体のうち内面拭取体が上下二段に設けられ、かつ上段の拭取体の拭取体主要部を間欠状に構成した円筒状電子写真用感光体の塗布膜除去装置とすることにより達成される。 - 特許庁