おおわだ２ちょうめの英語

このＬＥＤチップ２は、５５０ｎｍ以上５７０ｎｍ以下の主波長を有する黄色系蛍光体と赤色蛍光体とを透明樹脂に混合・分散させた蛍光体層９（蛍光体含有樹脂層９）により覆われている。例文帳に追加

This LED chip 2 is covered with a phosphor layer 9 (phosphor-containing resin layer 9) in which a yellow-based phosphor and a red phosphor each having a main wavelength of 550 nm-570 nm are mixed and dispersed in a transparent resin. - 特許庁

このＬＥＤチップ２は、励起端の波長が５３０〜５７０ｎｍの範囲にあり発光の主波長が６００〜６３０ｎｍである橙色蛍光体を透明樹脂に混合・分散させた蛍光体含有樹脂層９により覆われている。例文帳に追加

The LED chip 2 has a wavelength at a long wavelength side excitation end of 530 to 570 nm, and is covered with a resin layer 9 containing phosphor in which orange phosphor having a main wavelength of emission of 600 to 630 nm is mixed and dispersed to a transparent resin. - 特許庁

ソース領域２と延長ドレイン領域３との間にはゲート絶縁膜を介してゲート電極１０が形成され、ゲート電極１０および半導体基板１の表面は絶縁膜１２により覆われている。例文帳に追加

A gate electrode 10 is formed via a gate insulating film between the source region 2 and an extension drain region 3, and the gate electrode 10 and the surface of the semiconductor substrate 1 are covered with an insulating film 12. - 特許庁

このＬＥＤチップ２，３は、波長４９０〜５１０ｎｍと５３０〜５８０ｎｍにそれぞれ発光ピークを有する蛍光体（緑色蛍光体）を透明樹脂に混合・分散させた蛍光体含有樹脂層１０により覆われている。例文帳に追加

The LED chip 2, 3 are covered with a phosphor containing resin layer 10 mixing/dispersing, in a transparent resin, a phosphor (green phosphor) having emission peaks in wavelength 490-510 nm and 530-580 nm. - 特許庁

このＬＥＤチップ２，３は、波長４９０〜５１０ｎｍと５３０〜５８０ｎｍにそれぞれ発光ピークを有する蛍光体（緑色蛍光体）を透明樹脂に混合・分散させた蛍光体含有樹脂層１０により覆われている。例文帳に追加

The LED chips 2, 3 are covered with a phosphor-containing resin layer 10 in which a phosphor (green phosphor) having light-emitting peaks on wavelengths 490-510 nm and 530-580 nm is mixed and dispersed in a transparent resin. - 特許庁

立体加飾部３の塗膜層４だけをレーザーＬにより除去するため、立体加飾部３はインストルメントパネル１の表面２の色が露出し、塗膜層４で覆われている他の一般面とは色調が異なることになる。例文帳に追加

Since only a coating film layer 4 of a three-dimensional decorative part 3 is removed by laser beams L, the color of a surface 2 of an instrument panel 1 is exposed in the three-dimensional decorative part 3, and the color tone thereof is different from that of other general surfaces covered by the coating film layer 4. - 特許庁

本発明の研磨液は、半導体集積回路のバリア層を研磨するための研磨液であって、表面の一部がアルミニウムで覆われたコロイダルシリカと、酸化剤と、を含み、ｐＨが２〜７であることを特徴とするバリア層用研磨液である。例文帳に追加

The polishing agent for the barrier layer for polishing the barrier layer of a semiconductor integrated circuit contains colloidal silica which has part of a surface covered with aluminum and an oxidizing agent wherein pH is in a range of 2 to 7. - 特許庁

横の長さが縦より長い略長方形状の吸収剤２を有し、一つの面が防水性の素材よりなる防水シート３で覆われていて、横方向における一端部であって防水シート３で覆われている面に防水性の袋４が設けられている洗浄用シート１により課題を解決する。例文帳に追加

The sheet 1 for cleaning is covered with a waterproof sheet 3 having an absorbent 2 of an approximately oblong configuration longer in lateral length than longitudinal length and consisting of waterproof material on one side and is provided with a waterproof bag 4 on the side which is one end in a transverse direction and is held covered by the waterproof sheet 3. - 特許庁