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しもぬまちょう４ちょうめの英語
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「しもぬまちょう４ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 213件
本発明の皮膚貼付基布は、高捲縮繊維を主体とする不織布からなる皮膚貼付基布であり、前記不織布の次の式から算出される換算曲げ剛性Ｂｃが５．０×１０^−４ｇｆ・ｃｍ^２／ｃｍ／（ｇ／ｍ^２）以下である。例文帳に追加
This skin pasting base fabric comprises a nonwoven fabric mainly composed of highly crimped fibers, wherein converted flexural rigidity Bc calculated from the following formula of the nonwoven fabric is ≤5.0×10^-4 gf-cm^2/cm/(g/m^2). - 特許庁
宝永年間から正徳丁銀発行までの京都の銀座における鋳造高は5,337貫156匁4分（20.00トン）であり、この内、対馬藩に渡された丁銀は5,197貫500匁（19.47トン）である。例文帳に追加
The amount of the coin minted from the Hoei era to the time when Shotoku Chogin was issued was 5,337 kan 156 momme 4 bu (20.00 ton).発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
一町目（3か所）、今出川町、蛭子町、扇町、大猪熊町、大宮町、頭町、亀屋町（4か所）、菊屋町、北町、荒神町、革堂町、近衛町、米屋町、栄町、三町目、神明町、大黒町、鷹司町、玉屋町、突抜町（3か所）、中之町、仲之町（4か所）、西大路町、西北小路町、西町（3か所）、二町目、東橋詰町、東町（3か所）、菱屋町、毘沙門町（3か所）、桝屋町（3か所）、四町目（3か所）例文帳に追加
1-chome (three locations), Imadegawa-cho, Ebisu-cho, Ogi-cho, Oinokuma-cho, Omiya-cho, Kashira-cho, Kameya-cho (four locations), Kikuya-cho, Kita-machi, Kojin-cho, Kodo-cho, Konoe-cho, Komeya-cho, Sakae-cho, 3-chome, Shinmei-cho, Daikobu-cho, Takatsukasa-cho, Tamaya-cho, Tsukinuke-cho (three locations), Nakano-cho, Nakano-cho (four locations), Nishioji-cho, Nishikitakoji-cho, Nishi-cho (three locations), 2-chome, Higashihashizume-cho, Higashi-cho (three locations), Hishiya-cho, Bishamon-cho (three locations), Masuya-cho (three locations), 4-chome (three locations)発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
５５０ｎｍ〜６２０ｎｍの波長領域の光を吸収し、それ以外の波長領域の可視光を透過する波長選択層１をＬＥＤ光源３から導光板４の出光面までの光路上に設ける。例文帳に追加
A wavelength selection layer 1 to absorb light with a wavelength region of 550 nm to 620 nm and penetrate visible light with other wavelength regions is arranged on an optical path from an LED light source 3 to a light-emitting surface of a light guide plate 4. - 特許庁
４，６−ジメトキシインドール−２−カルボン酸又はその誘導体からなる毛髪の成長を刺激又は誘発、及び／又は抜毛を防止するための薬剤例文帳に追加
MEDICAMENT FOR STIMULATING OR INDUCING HAIR GROWTH AND/ OR PREVENTING HAIR LOSS CONSISTING OF 4, 6- DIMETHOXYINDOLE-2-CARBOXYLIC ACID OR DERIVATIVE THEREOF - 特許庁
化学気相成長方法により膜を形成する為の材料であって、 Ｓｉ（ＯＲ）_４とＨｆ（ＮＲ’Ｒ”）_４とを用いる。例文帳に追加
Si(OR)_4 and Hf(NR'R")_4 are employed as materials for forming the film by chemical vapor phase epitaxial method. - 特許庁
フッ素原子は、当該微粒子１６ａの少なくとも表面から４ｎｍ以下の深さまでの領域に含まれるように調整する。例文帳に追加
The fluorine atom is adjusted to be contained in areas up to the depth of 4 nm from the surface. - 特許庁
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「しもぬまちょう４ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 213件
また、Ｓｉ膜３１より後に形成されるｎ型ＧａＮ層４の結晶成長過程で、結晶成長表面からの光の反射率が一旦低下し、ｎ型ＧａＮ層４より後に形成される窒化物半導層の結晶成長過程で、結晶成長表面からの光の反射率が上昇するように構成する。例文帳に追加
The method includes temporarily lowering the refractivity of light from a crystal growth plane during the crystal growth of n-type GaN layer 4 formed after the Si film 31, and increasing the refractivity of light from a crystal growth plane during the crystal growth of a nitride semiconductor layer formed after the n-type GaN layer 4. - 特許庁
布地１にトルマリン２を両面粘着体４を用い粘着させ次に該両面粘着体の反対面を用いて該布地と布地５を粘着したことを特徴とするトルマリンの布地。例文帳に追加
This fabric of tourmaline is characterized by bonding the tourmaline 2 on a fabric 1 by using a double side adhesive 4 and bonding the fabric with another fabric 5 by using a reverse side of the double side adhesive. - 特許庁
また、積層体１の内部で最も外側に配置された微細格子不織布４が目詰まりしたら、その外側の微細格子不織布４を除去することで、積層体１をフィルタとして長期的に使用できる。例文帳に追加
When the fine lattice nonwoven fabric 4 arranged on the outermost side in the laminate 1 is clogged, the outer fine lattice nonwoven fabric 4 is removed to enable the long-term use of the laminate 1 as the filter. - 特許庁
そして、この絶縁膜マスク８の開口部９から露出するｎ型ＧａＮ層７から、III族窒化物半導体からなるｎ型ＧａＮ層３、ｐ型ＧａＮ層４およびｎ型ＧａＮ層５が、この順に成長させられてｎｐｎ構造からなるメサ状積層部１５が形成される。例文帳に追加
Then, an n-type GaN layer 3 made of group III nitride semiconductor, a p-type GaN layer 4 and an n-type GaN layer 5 are grown in this order from the n-type GaN layer 7 exposed from the opening 9 of the insulation film mask 8, forming a mesa lamination part 15 with npn structure. - 特許庁
熱可塑性合成樹脂製で、囲壁布と少なくとも底壁布とから成り、前記囲壁布と底壁布の合わせ目及び囲壁布同士の合わせ目を、ミシン縫いした上、該ミシン目を跨がって縫目方向に超音波ウエルダー加工を施して成る熱可塑性合成樹脂方形袋の製法である。例文帳に追加
In a method for producing a square bag of a thermoplastic synthetic resin comprising side wall cloths and a bottom wall cloth, the seams of the side wall cloths and the bottom wall cloth and the seams of the side wall clothes are sewn 3 by a sewing machine and ultrasonic welding-processed 4 in the seam direction across perforations. - 特許庁
スピーカ振動板１の表面に、形状が直径８７０ｎｍ以下で、間隔が１６００ｎｍ以下、深さが１６００ｎｍ以下の凸面２または凹凸面３または凸面４を設けたことを特徴とするスピーカ振動板。例文帳に追加
The speaker diaphragm 1 is provided, on the surface thereof, with protruding faces 2, protruding and recessed faces 3 or protruding faces 4 having a diameter of 870 nm or less, an interval of 1600 nm or less, and a depth of 1600 nm or less. - 特許庁
接続部４は、第１メッキ膜Ｎ１、Ｎ２と、第１メッキ膜とはメッキ応力の向きが異なる第２メッキ膜Ｇ１、Ｇ２とが交互にそれぞれ複数層に亘って積層され、超音波圧着加工を施しても超音波振動を十分に伝えることができ、効果的に圧着することができる。例文帳に追加
In the connection 4, first plating films N1 and N2 and second plating films G1 and G2 having the directions of plating stresses different from the first plating films are laminated alternately in a plurality of the layers respectively, ultrasonic vibrations are transmitted sufficiently even when an ultrasonic contact-bonding working is carried out, and the connection 4 are contact-bonded effectively. - 特許庁
導電性基材１の表面に、ＳｎまたはＳｎ合金からなる表面めっき層２が形成され、当該表面めっき層の少なくとも表層部に潤滑性粒子４を有することを特徴とするめっき材料。例文帳に追加
The metal plating material is characterized in that the surface plated layer 2 comprising Sn or the Sn alloy is formed on the surface of a conductive base material 1 and the lubricative particle 4 is contained at least in the surface layer part of the surface plating layer. - 特許庁
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