ふぉとふぁぶりけーしょんの英語

扁平金属板にフォトファブリケーションを施して、ポケット４を含む保持器５全体の外縁部と、径方向に貫通する複数の貫通孔６とを一括に形成した。例文帳に追加

Applying a photofabrication process to a flat metal plate, an outer edge portion of a whole of a retainer 5 including a pocket 4 and a plurality of through holes 6 penetrating in a radial direction are collectively formed. - 特許庁

半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、その他のフォトファブリケーション工程等に使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a pattern forming method for stably forming a high-definition fine pattern for use in the production process of a semiconductor, in the production of a circuit substrate of liquid crystal, thermal head and the like or in other photofabrication processes. - 特許庁

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、解像力、露光マージンの優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive resist composition excellent in resolution and exposure margin, which can be suitably used for microphotofabrication using far-UV rays, particularly ArF excimer laser light. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、パターン倒れ性、ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）が抑制できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition for improving the performance of essential micro-photofabrication using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, and also to provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays which suppresses pattern collapse or LER (line edge roughness). - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上のための技術における課題を解決するポジ型フォトレジスト組成物を提供することにあり、露光後加熱温度依存性、エッチング表面荒れが低減され、さらには疎密依存性が小さく、サイドローブマージンに優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition for exposure to far UV rays, the composition showing little dependence on heating temperature after exposure in a microphotofabrication process using far UV light, in particular, ArF excimer laser light, having decreased surface roughening by etching, having low dependence on pattern density, and having excellent side lobe margin. - 特許庁

パケット転送処理装置１０は、パケットの転送を行うフォワーディングエレメント（ＦＥ）１０１〜１０３と、ＦＥ１０１〜１０３間を接続するバックプレーンスイッチファグリック（ＳＷ）１００と、ＦＥ１０１〜１０３を制御するコントロールエレメント（ＦＥ）１０４と、を有する。例文帳に追加

The packet transfer processing apparatus 10 includes: forwarding elements (FEs) 101 to 103 for executing packet transfer; a back plane switch fabric (SW) 100 for interconnecting among the FEs 101 to 103; and a control element (CE) 104 for controlling the FEs 101 to 103. - 特許庁

遠紫外光を使用するミクロフォトファブリケ−ションにおいて、現像の際の現像欠陥発生及びスカムの発生の問題を解消し、更には基板密着性に優れたレジストパターンを与え得るポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition which solves the problem of the occurrence of development defects and scum in development in micro-photofabrication using far ultraviolet light and which is capable of giving a resist pattern excellent in adhesion to a substrate. - 特許庁

ユーザにより、メモリカードに記憶された複数のファイルを記憶媒体（ＤＶＤ−ＲＷなど）へＭＰＶ形式で保存する処理が選択されると、メモリカードに記憶された複数のファイルのうち印刷に利用可能なファイルを拡張子に基づいて選択し（Ｓ１３０）、今回選択したファイルを作成したフォルダにコピーする（Ｓ１４０）。例文帳に追加

When processing for storing a plurality of files stored in a memory card to a storage medium (DVD-RW, etc.) in MPV format is selected by a user, a file usable for printing of the plurality of files stored in the memory card is selected based on an extender (S130), and the selected file is copied to a formed holder (S140). - 特許庁