ガスの励起の英語

窒素ガスの励起種は基板上にＳｉ−Ｃ−Ｎ材料を蒸着するようシリコン及び炭素の励起種と反応する。例文帳に追加

The excitation seeds of the nitrogen gas so reacts on the excitation seeds for silicon and carbon as to deposit the Si-C-N material on a substrate. - 特許庁

処理容器２の内周面に，第１のプラズマ励起用ガス供給口４０を設け，原料ガス供給構造体３０の上面に第２のプラズマ励起用ガス供給口５３を備えたプラズマ励起用ガス供給構造体５０を設ける。例文帳に追加

A first gas feeding port 40 for exciting the plasma is provided in the inner peripheral surface of the processing container 2, and a gas feeding structure 50 for exciting the plasma which has a second gas feeding port 53 for exciting the plasma is provided on the top surface of the raw-material-gas feeding structure 30. - 特許庁

プラズマ生成領域Ｒ１に対し側方と下方のプラズマ励起用ガス供給口４０，５３からプラズマ励起用ガスを供給し，各プラズマ励起用ガス供給口４０，５３からの供給流量を調整することによってプラズマ生成領域Ｒ１内のプラズマ励起用ガス濃度を均一にする。例文帳に追加

Gases for exciting the plasma are so fed to the plasma generating region R1 from the lateral and lower gas feeding ports 40, 53 by adjusting the flow rates of the gases fed from the respective gas feeding ports 40, 53 for exciting the plasma as to make uniform the concentration of the gas for exciting the plasma which is generated in the plasma generating region R1. - 特許庁

励起ガスが透過する薄膜、または試料を含浸させ得る繊維体や多孔質体に試料を包むか染み込ませるかして試料に励起ガスを当て、試料を励起ガスと反応させてイオン化させるようにした。例文帳に追加

The sample is wrapped with or impregnated in an excitation gas permeable thin film, or a sample-impregnatory fibrous material or porous body to be brought into contact with excitation gas, the sample is made to react with the excitation gas to be ionized. - 特許庁

マイクロ波プラズマ処理装置において、プラズマ励起のためのガス導入経路での放電を防止する。例文帳に追加

To prevent discharge in a gas introducing path for plasma excitation, in a microwave plasma processing apparatus. - 特許庁

その後、ガス導入配管８に設置された励起用電源９により励起されたＮ_２、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガスでプロセスおよびエッチングに関係のないガスをプロセスチャンバ４内に導入する。例文帳に追加

Thereafter, a gas having no relation with processes nor etching is introduced into the chamber 4 by using an inert gas of N2, Ar, He, etc., excited by means of a power source 9 for excitation installed to a gas introducing pipeline 8. - 特許庁

真空引き可能になされて内部に処理すべき被処理体Ｗを収容する処理容器２２と、前記処理容器とは別個に設けられて、励起光により処理ガスを励起させて前記処理容器へ供給する励起ガスを形成する励起ガス形成手段２３とを備えて処理装置を形成する。例文帳に追加

The processing system comprises an evacuative processing container 22 for containing an article W to be processed, and an independent means 23 for exciting a processing gas with exciting light to form an exciting gas being supplied to the processing container. - 特許庁

プラズマ励起用ガスが供給前にプラズマ化することを防止しつつ，プラズマ生成領域に供給されるプラズマ励起用ガスの濃度を均一にする。例文帳に追加

To make uniform the concentration of a gas for exciting a plasma which is fed to a plasma generating region, while preventing the gas for exciting the plasma from being brought into a plasma before it is fed to the plasma generating region. - 特許庁