「ガスの励起」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

放電励起ガスレーザの放電回路例文帳に追加

DISCHARGE CIRCUIT OF DISCHARGE-EXCITED GAS LASER - 特許庁

プラズマチャンネル３の中心部分に供給されるＮＯガスは、窒素と酸素に解離されることなく、Ｏ2ガスを励起して励起酸素としている。例文帳に追加

The gaseous NO which is supplied to the central part of the plasma channel 3 is not subject to dissociation but excited to make the gaseous O2 into the excitation oxygen. - 特許庁

放電励起ガスレーザ装置のスイッチング素子の冷却構造例文帳に追加

COOLING STRUCTURE OF SWITCHING ELEMENT OF DISCHARGE EXCITING GAS LASER DEVICE - 特許庁

放電励起ガスレーザ装置における予備電離機構の冷却機構例文帳に追加

COOLING MECHANISM OF PRELIMINARY IONIZATION MECHANISM IN DISCHARGE-EXCITED GAS LASER APPARATUS - 特許庁

光源は、直流駆動型の放電ガス励起発光管とする。例文帳に追加

The light source is a DC driven type discharge gas excited light emission tube. - 特許庁

放電励起式ガスレーザ装置およびその故障箇所判別方法例文帳に追加

DISCHARGE EXCITATION GAS LASER AND METHOD OF DISCRIMINATING DEFECTIVE PART OF THE SAME - 特許庁

反応性エッチングガスをエネルギー励起するためにプラズマを用いる。例文帳に追加

Plasma is used for energy excitation of reactive etching gas. - 特許庁

また、エッチングガスは、マイクロ波を用いて励起されることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the etching gas is excited by using microwave. - 特許庁

また、エッチングガスは、マイクロ波を用いて励起されることが好ましい。例文帳に追加

Moreover, it is preferable that the etching gas is excited with use of microwave. - 特許庁

原子発振器の物理部５０Ａは、ガスセル１０Ａと、ガスセル１０Ａ内の気化された金属原子を励起する励起光の光源３０と、ガスセル１０Ａを通過した励起光を検出する光検出器４０と、を有している。例文帳に追加

A physical portion 50A of the atomic oscillator includes the gas cell 10A, a light source 30 for pumping light exciting vaporized metal atoms in the gas cell 10A, an optical detector 40, which detects pumping light having passed through the gas cell 10A. - 特許庁

励起ガスが透過する薄膜、または試料を含浸させ得る繊維体や多孔質体に試料を包むか染み込ませるかして試料に励起ガスを当て、試料を励起ガスと反応させてイオン化させるようにした。例文帳に追加

The sample is wrapped with or impregnated in an excitation gas permeable thin film, or a sample-impregnatory fibrous material or porous body to be brought into contact with excitation gas, the sample is made to react with the excitation gas to be ionized. - 特許庁

真空引き可能になされて内部に処理すべき被処理体Ｗを収容する処理容器２２と、前記処理容器とは別個に設けられて、励起光により処理ガスを励起させて前記処理容器へ供給する励起ガスを形成する励起ガス形成手段２３とを備えて処理装置を形成する。例文帳に追加

The processing system comprises an evacuative processing container 22 for containing an article W to be processed, and an independent means 23 for exciting a processing gas with exciting light to form an exciting gas being supplied to the processing container. - 特許庁

ガスを励起するためのパイプセクション並びに装置、及びガスの純化のための方法例文帳に追加

PIPE SECTION AND DEVICE FOR EXCITING GAS AND GAS PURIFYING METHOD - 特許庁

窒素ガスの励起種は基板上にＳｉ−Ｃ−Ｎ材料を蒸着するようシリコン及び炭素の励起種と反応する。例文帳に追加

The excitation seeds of the nitrogen gas so reacts on the excitation seeds for silicon and carbon as to deposit the Si-C-N material on a substrate. - 特許庁

真空紫外線励起蛍光体は、希ガス放電ランプやＰＤＰなどの真空紫外線を励起源とする発光装置に用いられる。例文帳に追加

The vacuum ultraviolet rays-excited fluorophor is used for a light emission device using vacuum ultraviolet rays such as of a gas discharge lamp and a PDP as an excitation source. - 特許庁

レーザガス成分分析機能を有する放電励起ガスレーザ装置及びその安定化運転方法例文帳に追加

DISCHARGE EXCITATION GAS LASER EQUIPMENT HAVING LASER GAS COMPONENT ANALYZING FUNCTION AND ITS STABILIZED OPERATION METHOD - 特許庁

ノズル本体１は、励起酸素ガスノズル２と、超音速希釈ガスノズル３とを有する。例文帳に追加

The nozzle body 1 includes an exciting oxygen gas nozzle 2 and an ultra sound velocity reduction gas nozzle 3. - 特許庁

処理容器２の内周面に，第１のプラズマ励起用ガス供給口４０を設け，原料ガス供給構造体３０の上面に第２のプラズマ励起用ガス供給口５３を備えたプラズマ励起用ガス供給構造体５０を設ける。例文帳に追加

A first gas feeding port 40 for exciting the plasma is provided in the inner peripheral surface of the processing container 2, and a gas feeding structure 50 for exciting the plasma which has a second gas feeding port 53 for exciting the plasma is provided on the top surface of the raw-material-gas feeding structure 30. - 特許庁

ヘリウムガスを用いてプラズマ励起シラン酸化物プロセス、プラズマ励起シランオキシナイトライドプロセス及びプラズマ励起シランナイトライドプロセスの堆積速度を下げる。例文帳に追加

A helium gas is used to lower the deposition rate of plasma-enhanced silane oxide, silane oxynitride, and silane nitride processes. - 特許庁

励起酸素発生器は、ホローカソード２のプラズマチャンネル３に、Ｏ2ガスまたはＯ2ガスに他のガスを混合してなる混合ガスを供給して一重項励起酸素を生成する。例文帳に追加

Singlet excitation oxygen is generated by the excitation oxygen generator by supplying the gaseous O2 or the gaseous mixture of O2 with other gas to the plasma channel 3 of the hollow cathode 2. - 特許庁

例えば、フッ素含有ガスを希ガスとを混合させ放電励起することによって生成する励起状態の希ガス元素と活性なフッ素元素とを反応させて希ガスフッ素化合物を得る。例文帳に追加

For example, a rare gas element in an excitation state being generated by mixing a gas containing fluorine with the rare gas for discharge excitation is allowed to react with the active fluorine element, thus obtaining the rare gas fluorine compound. - 特許庁

被処理基板を処理するプラズマ処理装置において、プラズマを励起するための空間と、プラズマを励起するためのプラズマガス導入経路を多孔質媒体、たとえば多孔質セラミック材料で分離することにより、前記プラズマガス導入経路でのプラズマの励起を防止して、所望のプラズマ励起空間において高密度かつ均一なプラズマを励起させることが可能とする。例文帳に追加

In the plasma processing apparatus for processing a substrate to be processed, a space for plasma excitation and a plasma gas introducing path for the same are separated from each other by a porous medium such as a porous ceramic material, thereby: preventing the plasma excitation in the plasma introducing path; and exciting uniform plasma of high density in a desired plasma excitation space. - 特許庁

大気圧または大気圧近傍の圧力下で、放電ガスを放電空間に導入して励起し、該励起した放電ガスと、原料を含む薄膜形成ガスとを、放電空間外で混合させて二次励起ガスとし、該二次励起ガスを基材に晒すことにより、該基材上に薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。例文帳に追加

In the thin film deposition method, discharge gas is introduced in a discharge space and excited under atmospheric pressure or the pressure close to atmospheric pressure, the excited discharge gas is mixed with thin film deposition gas containing a raw material outside the discharge space to form secondary excitation gas, and a thin film is deposited on a base material by exposing the secondary excitation gas to the base material. - 特許庁

マイクロ波プラズマ処理装置において、プラズマ励起のためのガス導入経路での放電を防止する。例文帳に追加

To prevent discharge in a gas introducing path for plasma excitation, in a microwave plasma processing apparatus. - 特許庁

ガスレーザー内における高周波電気放電の励起のための方法およびデバイス例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR EXCITING HIGH-FREQUENCY ELECTRIC DISCHARGE IN GAS LASER - 特許庁

イオントラップ１内にイオンを捕捉してプリカーサイオンを選別した後、被励起ガス導入部２３よりエチレンガスをイオントラップ１内に導入し、該ガス分子を振動励起させる所定波長（１０．６μｍ）のレーザ光を励起レーザ照射源２２から照射する。例文帳に追加

After selecting precursor ions by capturing the ions in an ion trap 1, ethylene gas is introduced into the ion trap 1 from an introducing part 23 for gas to be excited, and is irradiated with laser beam having a prescribed wavelength (10.6 μm) oscillating and exciting the gas molecules from an exciting laser irradiating source 22. - 特許庁

容量性の励起構体を有するガス放電ランプの発光効率を向上させる。例文帳に追加

To improve the luminous efficiency of the gas discharge lamp with capacitive excitation structure. - 特許庁

処理容器２内において、原料ガスの励起種を用いて半導体ウェハＷの処理を行う。例文帳に追加

In the treating vessel 2, a semiconductor wafer W is treated by using an excited species generated from a feed gas. - 特許庁

放電電極間の放電により、レーザー媒質ガスを励起してレーザー光を発生する。例文帳に追加

A laser medium gas is excited by a discharge between the discharge electrodes to emit laser light. - 特許庁

カラム１１からのガスを質量分析計または原子励起検出器１２に送り、分析を行う。例文帳に追加

The gas from the column 11 is sent to a mass analyzer or an atom exciting detector 12 to be subjected to analysis. - 特許庁

プラズマ生成領域Ｒ１に対し側方と下方のプラズマ励起用ガス供給口４０，５３からプラズマ励起用ガスを供給し，各プラズマ励起用ガス供給口４０，５３からの供給流量を調整することによってプラズマ生成領域Ｒ１内のプラズマ励起用ガス濃度を均一にする。例文帳に追加

Gases for exciting the plasma are so fed to the plasma generating region R1 from the lateral and lower gas feeding ports 40, 53 by adjusting the flow rates of the gases fed from the respective gas feeding ports 40, 53 for exciting the plasma as to make uniform the concentration of the gas for exciting the plasma which is generated in the plasma generating region R1. - 特許庁

コンパクトな構成で、希ガスを安定して励起させて真空紫外レーザー光を発生させること。例文帳に追加

To generate a vacuum ultraviolet laser beam by stably exciting a rare gas in a compact configuration. - 特許庁

光励起された処理ガスを反応チャンバ２に導入してウェハに成膜処理を施す。例文帳に追加

Optically stimulated gas is introduced into the reaction chamber 2 where a film is deposited on the wafer. - 特許庁

その後、ガス導入配管８に設置された励起用電源９により励起されたＮ_２、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガスでプロセスおよびエッチングに関係のないガスをプロセスチャンバ４内に導入する。例文帳に追加

Thereafter, a gas having no relation with processes nor etching is introduced into the chamber 4 by using an inert gas of N2, Ar, He, etc., excited by means of a power source 9 for excitation installed to a gas introducing pipeline 8. - 特許庁

プロセス領域４にて、励起された希ガス１によってプロセスガス３から励起された希ガス１に比べて短寿命である反応種を生成する。例文帳に追加

In the process zone 4, the reactive species, which has the life shorter than that of the excited rare gas 1, is produced from the process gas 3 by using the excited rare gas 1. - 特許庁

これにより、照射されるプラズマ励起ガスＰ／Ｇの外周をガスカーテンＧ／Ｃにより取り囲みながらプラズマ励起ガスＰ／Ｇを被洗浄面１１ａに照射するようになっている。例文帳に追加

Thereby, the surface to be cleaned 11a is irradiated with the plasma exited gas P/G while the periphery of the emitted plasma exited gas P/G is surrounded with a gas curtain G/C. - 特許庁

本レーザラマン分光による気泡内ガス成分分析装置は、レーザラマン光学系を有し、試料近傍での空気励起を防止する第１の空気励起防止手段と、反射または散乱したレーザ光線が絞られる中間集光位置での空気励起を防止する第２の空気励起防止手段を設け、レーザラマン光学系における空気励起を防止して分析を行なう。例文帳に追加

The apparatus for analyzing gas components in air bubbles by laser Raman spectroscopy has a laser Raman optical system, provided with both a first air excitation preventing means for preventing air excitation in the vicinity of a sample and a second air excitation preventing means for preventing air excitation at an intermediate location of light condensation at which a reflected or scattered laser beam is narrowed, and performs analysis by preventing air excitation in the laser Raman optical system. - 特許庁

励起ガス４としては、キセノン、クリプトン、アルゴン等の希ガスと酸素あるいはハロゲンガス等を混合したものを用いる。例文帳に追加

Example of the gas 4 is a mixture of a rare gas such as xenon, krypton, argon, and oxygen or any halogen gas or the like. - 特許庁

両側の第１及び第２電極５１，５２どうし間に形成された異極電極対向空間５０ｆ，５０ｒには、プラズマによって上記原料を膜化可能に励起される一方、それ自体は励起するだけでは膜化されない励起ガス（第２ガス）が供給される。例文帳に追加

An exciting gas (second gas) which is excited by plasma so as to convert the above raw material into a film, and, on the other hand, is not converted into a film in itself only by the excitation is fed to homopolar electrode counter spaces 50f and 50r. - 特許庁

低出力時におけるレーザ強度分布の偏りをなくすことのできる放電励起ガスレーザ発振器およびこの放電励起ガスレーザ発振器を用いたレーザ発振方法を提供する。例文帳に追加

To eliminate imbalance of laser intensity distribution when low powered. - 特許庁

デカリン１２を活性の高い励起デカリンに変えて反応タンク１５に供給し、供給された励起デカリンを脱水素反応させて水素ガスを生成する水素ガス生成装置である。例文帳に追加

The hydrogen gas generation equipment is characterized by changing decalin 12 to excited decalin with high activity, then supplying the same to a reaction tank 15 and conducting the dehydrogenation reaction of the supplied excited decalin to generate the hydrogen gas. - 特許庁

処理ガスを光励起する光励起部として、紫外線透過窓５により画成される処理ガス供給室１１を、ウェハＷが収容される反応チャンバ２の外部に設ける。例文帳に追加

As a section for optically stimulating gas, a processing gas supply chamber 11 formed by a UV-ray transmitting window 5 is provided outside a reaction chamber 2 for containing a wafer W. - 特許庁

プラズマ励起用ガスが供給前にプラズマ化することを防止しつつ，プラズマ生成領域に供給されるプラズマ励起用ガスの濃度を均一にする。例文帳に追加

To make uniform the concentration of a gas for exciting a plasma which is fed to a plasma generating region, while preventing the gas for exciting the plasma from being brought into a plasma before it is fed to the plasma generating region. - 特許庁

プラズマ励起ガス洗浄装置を構成するプラズマ照射器１は、プラズマ照射ノズル２から被洗浄面１１ａにプラズマ励起ガスＰ／Ｇを照射することにより被洗浄面１１ａを洗浄する。例文帳に追加

The surface to be cleaned 11a is cleaned by irradiating the surface to be cleaned 11a with a plasma exited gas P/G from a plasma irradiating nozzle 2 of a plasma radiator 1 constituting an apparatus for cleaning by a plasma exited gas. - 特許庁

次の第２の工程においては、フッ素原子（Ｆ）を含むガスと塩素原子（Ｃｌ）を含むガスをプラズマにより励起して供給する。例文帳に追加

In a second process, a gas containing fluorine atoms (F) and a gas containing chlorine atoms (Cl) are excited by plasma and supplied. - 特許庁