四塩化すずの英語

四塩化錫という化合物例文帳に追加

a chemical compound called tin tetrachloride発音を聞く  - EDR日英対訳辞書

四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化シリコン、四塩化錫をグリコールやグリコールアルコールに添加して、金属グリコールアルコールキレート液を作り、これを表面処理剤としてニッケル、コバルト、鉄、真鍮等の金属、ガラス等に塗布して、金属あるいは金属酸化物皮膜を形成する。例文帳に追加

Titanium tetrachloride, zirconium tetrachloride, silicon tetrachloride and tin tetrachloride are added to glycol or glycol alcohol to prepare a metallic glycol alcohol chelate solution, and this solution, as a surface treating agent, is applied, e.g. on metals such as nickel, cobalt, iron and brass or glass to form a metallic or metallic oxide film. - 特許庁

成形直後のガラスびんの外面に気化した四塩化スズの蒸気を２００〜４５０℃の雰囲気で蒸着させて酸化スズ被膜を形成する。例文帳に追加

This method comprises depositing vaporized tin tetrachloride in an atmosphere at 200-450°C on the outer surface of a glass bottle just after molded to form a tin oxide coating film on the outer surface. - 特許庁

四塩化珪素処理炉の炉内雰囲気の測定試料を、１５０℃以上に保ちながら、石英ウール１で濾過し、粉状酸化カルシウム２の間及び細粒化錫３の間を通過させた後に、水分を測定することを特徴とする四塩化珪素処理炉の炉内雰囲気の水分測定方法。例文帳に追加

While a sample, to be measured, in an in-furnace atmosphere in a silicon tetrachloride treatment furnace is kept at 150°C or higher, it is filtered by quartz wool 1, it is passed through poedery calcium oxide 2 and fine-particle tin 3, and moisture in them is measured. - 特許庁

周期表IIIa族、 IVa族、 IVb族、Va族、Vb族、及び VIb族元素の金属の誘導体から選ばれる触媒、特に五塩化アンチモン及び四塩化スズの存在下、温度50℃〜150℃で、圧力２〜40barでフッ化水素により一般式Ｃ_4Ｈ_5Ｃｌ_XＦ_5-X（式中、ｘ＝１〜５）のクロロ（フルオロ）ブタンをヒドロフルオロ化する。例文帳に追加

The process hydrofluorinates chloro(fluoro)butane of the general formula: C_4H_5Cl_xF_5-x (wherein, x=1 to 5) with hydrogen fluoride in the presence of a catalyst chosen from the derivatives of IIIa, IVa, IVb, Va, Vb and VIb metals, especially antimony pentachloride or tin tetrachloride, at 50-150°C and under 2-40 bar. - 特許庁

四塩化スズと水のような比較的安価な材料を使用して、反応体の間で実質的に予備反応することなく、予備混合して、ガラス上に酸化スズの均一なコーティングを形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a uniform tin oxide coating on glass using relatively cheap materials such as tin tetrachloride and water, in which the reactants are premixed with substantially no pre-reaction taking place between them. - 特許庁

ガラス基板上に四塩化錫を原料として熱分解法により厚さ５００〜１０００ｎｍの酸化錫膜を形成し、前記酸化錫膜を、非酸化雰囲気で３００〜６５０℃で熱処理することを特徴とする酸化錫膜付きガラス基体の製造方法。例文帳に追加

The glass substrate with the tin oxide film is manufactured by forming the tin oxide film of a thickness 500 to 1,000 nm by a pyrolysis method using a tin tetrachloride as a raw material on a glass substrate and heat-treating the tin oxide film at 300 to 650°C in a nonoxidizing atmosphere. - 特許庁