スパッタエッチングの英語

スパッタエッチングを用いるライナ／バリア／シードの堆積においてオーバハングを除去すること。例文帳に追加

To remove overhang of the deposition of a liner, a barrier and a seed using sputter etching. - 特許庁

基板と記録層の間に形成された反射膜層又は誘電体層の表面にスパッタエッチングを行い、さらにその上に積層する記録層の表面にもスパッタエッチング処理を施す。例文帳に追加

Sputter etching is applied to a reflector layer or a dielectric layer formed between the base and the recording layer, and another sputter etching is carried out on the surface of the recording layer laminated on it. - 特許庁

次いで、バリア層３４０のスパッタエッチング工程は、平面部３４２のバリア層３４０をスパッタエッチングしながらバリア層３４０のスパッタ粒子を開口部の側壁部３４４に堆積させる。例文帳に追加

Then, during the sputter etching process in the barrier layer 340, sputtering particles in the barrier layer 340 are laminated in a sidewall part 344 of the opening part while sputter etching is performed with respect to the barrier layer 340 of the plane part 342. - 特許庁

エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。例文帳に追加

A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method. - 特許庁

ガス混合物は、ホウ素イオンによるスパッタエッチングが行われるように、更にＢＣｌ_3６６を含むことが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the mixed gas further contains BCl3 66 so that sputter-etching by boron ion can be carried out. - 特許庁

次に、半導体素子１に集束イオンビームを走査し、不良箇所を厚さ０．１μｍ以下までスパッタエッチングする。例文帳に追加

The semiconductor element 1 is covered by a thin film 4 comprising an element with small electron dispersion activity, and scanned by a converged ion beam. - 特許庁

バリアメタル膜をスパッタエッチングしても、配線の信頼性を低下させない半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device manufacturing method which does not deteriorate the reliability of wiring even though etching a barrier metal layer by sputtering. - 特許庁

その結果、ＳＥプラズマ空間７には円盤状のプラズマが形成され、基板２の表面全体が均一にスパッタエッチングされる。例文帳に追加

As a result, a disk-like plasma is formed in the SE plasma space 7, and the entire surface of the substrate 2 is uniformly etched by sputtering. - 特許庁