SPUTTER ETCHINGとは 意味・読み方・使い方

To remove overhang of the deposition of a liner, a barrier and a seed using sputter etching.例文帳に追加

スパッタエッチングを用いるライナ／バリア／シードの堆積においてオーバハングを除去すること。 - 特許庁

In addition, the barrier layer forming process includes a selective film-forming process and a sputter etching process.例文帳に追加

また、バリア層形成工程は、選択成膜工程と、スパッタエッチング工程を有する。 - 特許庁

To provide a device for etching a layer or sputter-depositing a layer for improving the uniformity.例文帳に追加

均一性を改善するための、層をエッチングまたはスパッタ堆積する装置を提供する。 - 特許庁

Then, during the sputter etching process in the barrier layer 340, sputtering particles in the barrier layer 340 are laminated in a sidewall part 344 of the opening part while sputter etching is performed with respect to the barrier layer 340 of the plane part 342.例文帳に追加

次いで、バリア層３４０のスパッタエッチング工程は、平面部３４２のバリア層３４０をスパッタエッチングしながらバリア層３４０のスパッタ粒子を開口部の側壁部３４４に堆積させる。 - 特許庁

Sputter etching is applied to a reflector layer or a dielectric layer formed between the base and the recording layer, and another sputter etching is carried out on the surface of the recording layer laminated on it.例文帳に追加

基板と記録層の間に形成された反射膜層又は誘電体層の表面にスパッタエッチングを行い、さらにその上に積層する記録層の表面にもスパッタエッチング処理を施す。 - 特許庁

To detect abnormal discharge related with defective products in the sputter etching utilizing high frequency plasma.例文帳に追加

高周波プラズマを利用したスパッタエッチングにおける製品不良に繋がる異常放電を検出する。 - 特許庁

Recessed shape processing (recess-shaped sputter etching) using a converged ion beam is carried out along the width of the supercondcutvie film 210.例文帳に追加

超電導膜２１０の幅方向に集束イオンビームによる凹形加工（凹形スパッタエッチング）を行う。 - 特許庁

It is preferable that the mixed gas further contains BCl3 66 so that sputter-etching by boron ion can be carried out.例文帳に追加

ガス混合物は、ホウ素イオンによるスパッタエッチングが行われるように、更にＢＣｌ_3６６を含むことが好ましい。 - 特許庁