スパッタ被着の英語

スパッタによる光学部品損傷の防止、および被溶接材へのスパッタの付着を防止することができるレーザ溶接方法およびその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a laser beam welding method and its apparatus capable of preventing any damage of an optical component due to sputtering, and preventing the adhesion of sputtering to a workpiece to be welded. - 特許庁

鉛直下方に向けて飛散するスパッタ原子（３４）が斜めに被着する向きに半導体基板（２６）を配置する。例文帳に追加

The semiconductor substrate (26) is arranged in such a direction that the vertically and downwardly flying sputtered atoms (34) are obliquely deposited on it. - 特許庁

半導体基板（２６）を、それに直交する中心軸回りに回転させながらスパッタ原子（３４）を被着させる。例文帳に追加

The sputtered atoms (34) are deposited while rotating the semiconductor substrate (26) about the center axis thereof orthogonal to it. - 特許庁

金属被膜は、蒸着、イオンプレーティングおよびスパッタリングのいずれかの方法で成膜するのが好ましい。例文帳に追加

The metallic thin film is preferably formed by either of processes such as vapor deposition, ion plating and sputtering. - 特許庁

次に、コーティングＢ（ｂ）工程において、樹脂薄膜１１上に、スパッタリングまたは蒸着によりＡｕなどの金属被膜１２を形成する。例文帳に追加

In a coating B(b) process, a metal coat 12 of Au is formed on the resin thin film 11 with sputtering or deposition. - 特許庁

Ｔｉ−Ａｌ系合金からなる基材の表面にスパッタリング法または電子ビーム蒸着法によりＡｌ_2 Ｏ_3 被膜を形成する。例文帳に追加

An Al2O3 film is deposited on the surface of a substrate composed of Ti-Al alloy by a sputtering method or an electron beam vapor deposition method. - 特許庁

次に、スパッタ法により、第２溝１１の内面に、ＣｕＭｎ合金からなる合金膜１８が被着される。例文帳に追加

Then, an alloy film 18 composed of a CuMn alloy is applied to an inner surface of the second groove 11 by sputtering. - 特許庁

スパッタ粒子は、開口角に応じて着膜することから、金属配線の上面および側面が配線保護膜で完全に被覆される。例文帳に追加

As the sputter particles deposit corresponding to the aperture angle, upper and side faces of the metal wiring are completely covered with the wiring protective film. - 特許庁