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スパッタ蒸着の英語
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英訳・英語 sputtered deposition; sputtering
「スパッタ蒸着」を含む例文一覧
該当件数 : 33件
DCスパッタ蒸着用ターゲット例文帳に追加
TARGET FOR DC SPUTTER DEPOSITION - 特許庁
スパッタ蒸着装置における基板の回転機構例文帳に追加
ROTATION MECHANISM OF SUBSTRATE IN SPUTTERING VAPOR DEPOSITION SYSTEM - 特許庁
デポアップ型スパッタ蒸着装置における基板の固定装置例文帳に追加
SUBSTRATE FIXING DEVICE IN DEPOSIT-UP TYPE SPUTTERING VAPOR DEPOSITION APPARATUS - 特許庁
この金属微粒子3はスパッタ、蒸着又は塗布によりフラーレン重合体膜2に担持させる。例文帳に追加
The metal fine particles 3 are deposited on the fullerene polymer film 2 by sputtering, vapor deposition or coating. - 特許庁
TiO_2薄膜を被覆するDCスパッタ蒸着用ターゲットにおいて、TiO_2とTiを混合した構成からなり、溶射法で形成されたDCスパッタ蒸着用ターゲットとする。例文帳に追加
The target for DC sputter deposition for TiO_2 thin film coating is constituted of a mixture of TiO_2 and Ti and formed by a thermal spraying process. - 特許庁
このため、本願発明のデポアップ型スパッタ蒸着においては、基板を汚染することなく、また、オフセット成膜も可能である。例文帳に追加
In the deposit-up type sputtering vapor deposition, the substrate is not polluted, and the offset film deposition is also performed. - 特許庁
この状態は、真空下において気体を含むチャンバ内で磁気層をスパッタ蒸着することによって達成される。例文帳に追加
This condition is achieved by sputter-depositing the magnetic layer in a chamber containing a gas under vacuum. - 特許庁
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「スパッタ蒸着」を含む例文一覧
該当件数 : 33件
次いで、基板2の表面に、Crをスパッタ蒸着することにより、ストッパー部6を形成し、その後、レジストを除去する。例文帳に追加
Then, the stopper potions are formed on the surface of the substrate by sputtering/vapor deposition of Cr on the surface of the substrate 2 and then the resist is removed. - 特許庁
プラズマスパッタ蒸着による、ガラス基板上への透明なかつ導電性に優れた薄膜の形成方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a method for forming a transparent thin-film superior in electroconductivity on a glass substrate with a plasma sputtering vapor-deposition technique. - 特許庁
ナノ粒子分散液晶は、スパッタ蒸着等の物理蒸着によって極めて簡便に製造することができる。例文帳に追加
The nanoparticle dispersed liquid crystal is extremely simply produced by physical vapor deposition such as sputtering vapor deposition, etc. - 特許庁
透明なTiO_2薄膜を高速で蒸着できるDCスパッタ蒸着ターゲットを提供する。例文帳に追加
To provide a target for DC sputter deposition by which a transparent TiO_2 thin film can be vapor-deposited at high speed. - 特許庁
薄膜蒸着での使用および再使用のためスパッタターゲットを作る方法とスパッタ蒸着ターゲット例文帳に追加
PRODUCTION OF SPUTTERING TARGET FOR USE AND REUSE IN THIN FILM VAPOR DEPOSITION, AND SPUTTERING VAPOR DEPOSITION TARGET - 特許庁
保護膜は例えば金属膜からなり、金属膜は例えばスパッタ、蒸着またはめっきにより形成することができる。例文帳に追加
The protective film comprises, e.g., a metal film, and the metal film can be formed, e.g., by sputtering, depositing, or plating. - 特許庁
SiGe半導体薄膜を、スパッタ蒸着方法により作製する方法であって、ターゲット上に発生するプラズマの周辺に、高周波コイルを設置し、電流を流すことで、良質のプラズマを発生させて、スパッタ蒸着後の半導体特性が優れている薄膜を作製することからなるSiGe半導体薄膜の作製方法、及びSiGe薄膜。例文帳に追加
With regard to a method of producing an SiGe semiconductor thin film by sputter deposition, a high frequency coil is installed around plasma generated on a target, and a current is made to flow to generate high-quality plasma, thereby producing a thin film having excellent semiconductor characteristics after sputter deposition. - 特許庁
プラズマエッチング耐性を有する被膜加工としては例えばアルマイト加工(アルミナイズ)であり、溶射法やスパッタ蒸着法によるAlコーティングとしている。例文帳に追加
As coating work having the plasma etching resistance, there is alumite work (aluminizing) for instance and Al coating is by a thermal spray method or a sputter vapor deposition method. - 特許庁
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