データハンドリングの英語

本発明は画像データハンドリングシステムに関し、リムーバブル情報記憶媒体にどのような画像が記憶されているかを容易に見分けることができる画像データハンドリングシステムを提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide an image data handling system by which a user can easily identify what kind of image is stored in a removable information storage medium. - 特許庁

オンライン網を基盤とする統合レンダリングシステム及びオンライン網を基盤とするレンダリングターゲットデータハンドリング方法例文帳に追加

INTEGRATED RENDERING SYSTEM BASED ON ONLINE NETWORK AND RENDERING TARGET DATA HANDLING METHOD BASED ON ONLINE NETWORK - 特許庁

画像観賞システム、画像表示装置、データハンドリング装置、データ管理装置、データ管理方法およびデータ管理プログラム例文帳に追加

PICTURE VIEWING SYSTEM, PICTURE DISPLAY DEVICE, DATA HANDLING DEVICE, DATA MANAGING DEVICE, DATA MANAGING METHOD, AND DATA MANAGING PROGRAM - 特許庁

サービス手順は、セキュリティ機構あるいは、データハンドリングの様なサポート機構を含むことができる。例文帳に追加

The service procedure is able to include a security mechanism or a support mechanism, such as data handling. - 特許庁

各種データハンドリング処理（Ｓ２）は、レーザーデータ処理（Ｓｂ）、または、デジタルマトリックス（ＤＭ）データ処理（Ｓｃ）による最新・高精細航空写真画像データ（Ｓａ）を作成する。例文帳に追加

Various data handling processes (S2) create newest-high definition aerial photograph image data (Sa) based on laser data processing (Sb) or digital matrix (DM) data processing (Sc). - 特許庁

既存のシステムとの調和を図りつつ、情報や機能の一元化を図ることができる電子データハンドリングシステム及びこれに用いる中継サーバを提供する。例文帳に追加

To provide an electronic data handling system and a relay server to be used therefor in which information or functions are unified while attaining harmony with an existent system. - 特許庁

クライアント側ユーザインタフェース要素の処理は、イベントハンドリング処理、ポストバックデータハンドリング処理、データ結合処理およびサーバ側制御オブジェクトの状態に関する状態管理処理のうちの１つ以上の処理を行う。例文帳に追加

The processing of the client side user interface element is performed by performing one or more processing out of event handling processing, post back data handling processing, data connection processing, and state management processing concerned with the states of the server side control objects. - 特許庁

本発明は、レチクルの電子ビーム描画データの作成において、ＯＰＣパターンの発生に起因する描画データのデータ容量増加、これに伴うデータハンドリング時間の増加、および生産資源に対する負荷の増加を緩和できるパターンデータ作成方法およびレチクルの描画方法を得る。例文帳に追加

To obtain a pattern data forming method which is capable of relieving an increase in the data capacity of drawing data occurring in the generation of OPC patterns in formation of electron beam drawing data of a reticle, an increase in data handling time by accompanying the same, and an increase in the load on production resources and a drawing method for reticle. - 特許庁