ドーパ反応の英語

反応炉の冷却に用いた冷媒から効果的に熱回収を行なうとともに、反応炉内で多結晶シリコンを析出させる際の反応炉内壁からのドーパント不純物の混入を低減して高純度の多結晶シリコンを製造し得る技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a technology producing high purity polycrystalline silicon by effectively recovering heat from a coolant used for cooling a reaction furnace and by decreasing mixing of dopant impurities from an inner wall of the reaction furnace upon precipitating polycrystalline silicon in the reaction furnace. - 特許庁

開孔を有するカーボンナノチューブを、ドーパント物質を溶解させた溶液中に浸漬してドーピング反応を生じさせ、カーボンナノチューブ内にドーパント物質が導入されたハイブリッドカーボンナノチューブを作製する。例文帳に追加

The hybrid carbon nanotube into which a dopant material is introduced is produced by generating a doping reaction by immersing a carbon nanotube having an opening into a solution containing a dopant substance. - 特許庁

導電性エラストマーは、ドーパントによりドーピングされたポリアニリン誘導体と、水酸基およびカルボキシル基の少なくとも一方を有する化合物からなる二次ドーパントと、活性水素と反応する重合性化合物と、を含む。例文帳に追加

This conductive elastomer includes: a polyaniline derivative doped with a dopant; a secondary dopant made of a compound having at least one of a hydroxy group and a carboxyl group; and a polymerizable compound reacting with active hydrogen. - 特許庁

厳密解では、数式処理によって血液中のドーパミン濃度が消去されており、検査部位と参照部位のドーパミン濃度計測値の比がラプラス空間にて複数の反応定数で表される。例文帳に追加

In exact solution, the dopamine concentration in blood is eliminated by formula manipulation, and the ratio between each dopamine concentration measured value in the inspection portion and in the reference portion is expressed by a plurality of reaction constants in the Laplace space. - 特許庁

阻害反応物を用いてドーパント前駆体が利用可能な結合部位の一部を阻害することによって、堆積したドーパントの濃度および均一性を制御することができる。例文帳に追加

To provide doping which allows the concentration and uniformity of a deposited dopant to be controlled by blocking some of the available binding sites for a dopant precursor with a blocking reactant and allows the blocking reactant to be introduced prior to introduction of the dopant precursor in an ALD (atomic layer deposition) process or allows the blocking reactant and the dopant precursor to be introduced simultaneously. - 特許庁

導電率が高い導電性組成物を高反応効率で提供するための酸化剤兼ドーパント溶液、該酸化剤兼ドーパント溶液を構成するためのドーパント溶液、上記導電率が高い導電性組成物および長期信頼性の高い固体電解コンデンサを提供する。例文帳に追加

To provide a dopant solution also serving as an oxidizer for providing a conductive composition with high conductivity at a high reaction efficiency; a dopant solution for composing the dopant solution also serving as an oxidizer; the conductive composition with high conductivity; and a solid electrolytic capacitor with high long-term reliability. - 特許庁

導電率の高い導電性組成物を良好な反応効率で形成するための酸化剤兼ドーパント、該酸化剤兼ドーパントを構成するためのドーパント溶液、該導電性組成物、および該導電性組成物を用いた固体電解コンデンサとその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an oxidizing agent also serving as a dopant for forming an electrically conductive composition having high conductivity with good reaction efficiency, a dopant solution for constituting the oxidizing agent also serving as the dopant, the conductive composition, a solid electrolytic capacitor using the conductive composition, and to provide a method of manufacturing the same. - 特許庁

シリコンウェーハを反応炉内で水素ベークする第１の工程（ステップＳ３）と、反応炉にシリコン原料ガス及びドーパントガスを導入することにより、水素ベークされたシリコンウェーハの表面にエピタキシャル層を形成する第２の工程（ステップＳ４）とを備える。例文帳に追加

The method of manufacturing an epitaxial wafer includes a first step (step S3) for performing hydrogen baking of a silicon wafer in a reactor, and a second step (step S4) for forming an epitaxial layer on the surface of the silicon wafer subjected to hydrogen baking by introducing a silicon material gas and a dopant gas into the reactor. - 特許庁