ニッケルイオンの英語

埋め込み配線構造を有する電子デバイス装置の配線の少なくとも一部にＮｉ−Ｂ合金膜を無電解めっきで形成するめっき液であって、ニッケルイオン、ニッケルイオンの錯化剤、ニッケルイオンの還元剤としてのアルキルアミンボランまたは硼素化水素化合物及びアンモニアイオン（ＮＨ_４^＋）を含有する。例文帳に追加

The plating solution is used for depositing the Ni-B alloy film by electroless plating at least on a part of the wiring of electronic device equipment having buried wiring structure and contains a nickel ion, a complexing agent for the nickel ion, alkylamine borane or borohydride compound as a reducing agent for the nickel ion, and an ammonia ion (NH4+). - 特許庁

本発明のニッケルナノ粒子の製造方法は、ニッケルイオンと、ポリビニルピロリジノンと、前記ニッケルイオンのモル量に対して、１．２倍量以上かつ１．８倍量以下のアミノアルコールとを含むニッケル水溶液に還元剤を添加し、該還元剤により前記ニッケル水溶液に含まれるニッケルイオンを還元することによりニッケルナノ粒子を生成することを特徴とする。例文帳に追加

The method for producing nickel nanoparticles is characterized in that a reducing agent is added to a nickel aqueous solution containing nickel ions, polyvinyl pyrrolidinone, and amino alcohol in a quantity 1.2 to 1.8 times the molar quantity of the nickel ions, and the nickel ions contained in the nickel aqueous solution are reduced by the reducing agent to thereby produce nickel nanoparticles. - 特許庁

前記ニッケルイオンと前記アミン化合物とのモル比が、前記アミン化合物の前記ニッケルイオンへの配位数の１．０〜３．０倍であり、また、前記アミン化合物は、ニッケルイオンと錯体形成する際における第一段階反応の逐次生成定数Ｋ_１が、Ｋ_１＝４．０〜１５．０の範囲にあることが好ましい。例文帳に追加

Molar ratio of the nickel ion to the amine compound is 1.0 to 3.0 times of coordination number of the amine compound to the nickel ion and stepwise formation constant K_1 of a primary step reaction when the amine compound forms the complex with the nickel ion preferably falls into the range of K_1= 4.0 to 15.0. - 特許庁

電解液は、マンガンイオン，鉄イオン，コバルトイオン，ニッケルイオン，銅イオンあるいは亜鉛イオンを含んでいる。例文帳に追加

The electrolytic solution contains manganese ion, iron ion, cobalt ion, nickel ion, copper ion, or zinc ion. - 特許庁

そして、銅イオンの１００モルに対するニッケルイオンの添加量は、０．０１〜１．０モルの範囲内とされている。例文帳に追加

Adding quantity of nickel ions is to be in a range of 0.01-1.0 mol against 100 mol of copper ions. - 特許庁

ニッケル塩化合物と、ニッケルイオンと錯体を形成するアミン化合物と、を含み、ｐＨが８〜１２であるめっき液。例文帳に追加

The plating liquid comprises a nickel salt compound and an amine compound which forms a complex with a nickel ion, and has pH 8 to 12. - 特許庁

懸濁液中の全ニッケルイオン濃度が１０〜７０ｍｇ／Ｌであり、かつ全コバルトイオン濃度が５〜４０ｍｇ／Ｌである。例文帳に追加

The total nickel ion concentration in the suspension is 10 to 79 mg/L, and the total cobalt ion concentration is 5 to 40 mg/L. - 特許庁

本発明における血液凝固測定用試薬は、非イオン性界面活性剤、ニッケルイオン、及び組織因子を含有する。例文帳に追加

The reagent for measuring the blood clotting contains a nonionic surfactant, a nickel ion and the tissue factor. - 特許庁