プラズマ物理学の英語

前記被覆層は、好ましくは化学的蒸着法、特にプラズマＣＶＤ法、または物理的蒸着法、特にイオンプレーティング法により形成されて成る口腔内装着体である。例文帳に追加

The covering layer is the intra-orally worn body formed by preferably a chemical vapor deposition method, especially a plasma CVD method, or by a physical vapor deposition method, especially an ion plating method. - 特許庁

親水化処理としては、有機溶剤による処理、酸溶液処理、アルカリ溶液処理のような化学的処理方法、及びプラズマグロー放電のような物理的処理を挙げることができる。例文帳に追加

As the treatment for hydrophilicity impartment, chemical treating methods such as treatment by an organic solvent, acid soln. treatment and alkali soln. treatment, and physical treatment such as plasma glow discharge can be given. - 特許庁

表面エネルギーを上げる手段としては、酸・アルカリなどを使った化学的処理などがあるが、コロナ放電処理やプラズマ処理などの物理的処理のほうが一般的に効果も高く生産性の点からも利用しやすい。例文帳に追加

As for a means for raising surface energy, chemical treatment using acid, alkali or the like; however, physical treatment such as corona discharge treatment and plasma treatment is generally effective and accessible in terms of productivity. - 特許庁

生体分子が親和的かつ特異的に結合する均一なプラズマ重合表面であって、さらに化学的もしくは物理的特性が多様な表面を提供する。例文帳に追加

To provide a uniform plasma polymerized surface to which biomolecules bind with specificity and affinity, and further a surface with diverse chemical or physical properties. - 特許庁

次に、物理的気層成長法によりＴｉ膜１０８を、続いて化学的気層成長法によりＴｉＮ膜１０９を堆積し、ＴｉＮ膜１０９の表面を、Ｎ２プラズマに暴露する。例文帳に追加

Then, a Ti film 108 is deposited by a physical vapor-phase growth method and then a TiN film 109 by a chemical vapor-phase growth method, and the surface of TiN film 109 is exposed to N2 plasma. - 特許庁

本発明にかかるフッ素樹脂系成形物の表面改質方法は、フッ素樹脂系成形物表面に対しプラズマ照射を行うに際して、成形物表面に負電圧を印加することにより、成形物表面にプラズマ中のイオンを注入して粗面化する物理的改質と、成形物表面におけるフッ素原子をフッ素原子以外の原子に置換する化学的改質を行うことを特徴とする。例文帳に追加

This method for modifying the surface of fluororesin-based molding is characterized in that physical modification for roughening the surface of the molding by injecting ions in plasma and chemical modification for substituting fluorine atoms on the surface of the molding by atoms other than fluorine atoms are conducted by plasma irradiation to the surface of the fluororesin-based molding, where a negative voltage is applied to the surface of the molding. - 特許庁

エッチングプロセス及び／又はクリーニングプロセス中の物理的損傷及び／又は化学的損傷から、プラズマ反応器又は反応性種発生器等の半導体処理装置の内部コンポーネントを保護する装置及び方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a device and a method for protecting the internal component of a semiconductor treatment device such as a plasma reactor or a reactive species generator from physical damage and/or chemical damage in an etching process and/or a cleaning process. - 特許庁

耐焼き付き被膜は、物理蒸着法またはプラズマ化学蒸着法で基材上に合成され、周期律表の４Ａ、５Ａ、６Ａ族およびＢ、Ａｌ、Ｓｉのうちの少なくとも１つの元素を含んだ窒化物または酸窒化物を有する。例文帳に追加

A seizure resistant coating is synthesized on a substrate with a physical vapor deposition method or a plasma chemical vapor deposition method, and has a nitride or an oxynitride containing at least one element among 4A, 5A and 6A groups in the periodic table, and B, Al and Si. - 特許庁