筒状絶縁体６１ａの両端部に閉塞蓋６１ｂ、６１ｃが設けられ、内部でガス状物質をプラズマ化するプラズマ室６１の、一方の閉塞蓋６１ｂにガス状物質を導入するガス導入管６２が挿入され、他方の閉塞蓋６１ｃにプラズマ放射口６１ｄが設けられている。例文帳に追加

Closing covers 61b and 61c are provided at both the ends of a cylindrical insulator 61a, a gas approach pipe 62 for introducing a gas-like substance is inserted into one choking lid 61b, and a plasma radiation opening 61d is provided at the other closing covers 61c. - 特許庁

排気ガスをプラズマ発生空間に流したときに、プラズマにより活性化された成分（活性成分）の失活を抑制し、その活性成分と粒子状物質とを効率的に反応させることができ、効率的に粒子状物質を反応処理することが可能なプラズマリアクタを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma reactor capable of efficiently react activated components with particulate matters to efficiently treat the particulate matters by reaction by suppressing the deactivation of the components (activated components) activated by plasma when exhaust gases flow in a plasma generating space. - 特許庁

粒子状物質及びガス状物質を同時に低減し、省電力化及びスパークへの遷移防止が可能なプラズマ反応器及びその製造方法とプラズマ反応器を備えた車両の排気ガス低減装置とを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma reactor which can reduce particulates and gaseous matters simultaneously, reduce electricity consumption, and prevent transition into spark, its manufacturing method, and an exhaust gas reducing device for a vehicle provided with the plasma reactor. - 特許庁

排ガスの出入り口を設けた非熱プラズマ反応器と、その反応器の内部に配置された線状導電性物質と、その反応器内に非熱プラズマを発生させる手段とを備えた排ガス処理装置である。例文帳に追加

This exhaust gas treatment apparatus is provided with a non-thermal plasma reactor having the inlet/outlet port of exhaust gas, a linear electric conductive substance disposed in the reactor, and a non-thermal plasma generating means in the reactor. - 特許庁

リモートプラズマＣＶＤ装置１において、処理基板Ｓがプラズマに曝されないように、プラズマ発生領域Ｐと処理基板Ｓとを離間すると共に、プラズマ発生領域Ｐと基板ステージ３との間に、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ及びＷＣから選ばれた物質で構成されているメッシュ状の遮蔽部材５を設ける。例文帳に追加

In the remote plasma CVD device 1, a plasma generating region P is separated from a treatment substrate S so that the treatment substrate S is not exposed to plasma and also a mesh-type shield member 5 composed of a substance selected among Mo, Ti, W and WC is provided between the plasma generating region P and a substrate stage 3. - 特許庁

放射性廃棄物等の粒状あるいは粉末状の物質をプラズマガスと効率よく反応させて処理する方法を得る。例文帳に追加

To provide a treating method that makes granular or powdery material of radioactive waste react efficiently with plasma gas. - 特許庁

ここで、線状の注入物質またはの長さは、プラズマへの注入速度で除して得られる時間が50マイクロ秒以上となるよう定める。例文帳に追加

In this case, the length of the linear injection material is determined so that the time obtained by dividing the length by an injection speed into the plasma becomes 50 microsecond or more. - 特許庁

平行平板型プラズマＣＶＤ装置の真空容器内の部品表面に付着する膜状物質の剥離を低減する。例文帳に追加

To reduce peeling of a film-like substance deposited on a surface of a component in a vacuum vessel of a parallel flat plate type plasma CVD apparatus. - 特許庁

低温プラズマによる粒子状物質酸化除去の効率を向上でき且つ燃費を向上できる排ガス浄化装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an exhaust emission control device capable of improving efficiency of particulate matter removal by oxidation by cold plasma and improving fuel consumption. - 特許庁

排ガス中の粒子状物質を大気圧プラズマにより荷電させるプラズマ処理装置１０と、プラズマ処理装置１０から送入される排ガスＧ２中の荷電した粒子状物質を、印加電界により選択的に触媒層２２に誘導して、触媒層２２の触媒作用によって分解処理する触媒処理装置２０を備える。例文帳に追加

This particulate matter processing device is provided with a plasma processing device 10 for charging particulate matter in exhaust gas by atmospheric pressure plasma and a catalyst processing device 20 for inducing the charged particulate matter in the exhaust gas G2 fed into from the plasma processing device 10 into a catalyst layer 22 selectively by an applied electric field to decompose and process it by catalyst action in the catalyst layer 22. - 特許庁

この排気ガス浄化装置は，プラズマ放電を用いて排気ガス中に含まれる粒子状物質等の有害物質を酸化反応焼却させて消失するものであり，構造が簡単で安価に製造できるプラズマ反応手段を簡単に装置内に組み込むことができる。例文帳に追加

To provide an exhaust emission control device capable of being assembled into a device of a plasma reaction means manufactured inexpensively by a simple configuration for eliminating hazardous substances such as particulates included in an exhaust gas using plasma discharge. - 特許庁

本発明は，排気ガス中の粒子状物質，ＮＯ_X の有害物質をプラズマ放電を用いて酸化・還元反応させて消失させるものであり，構造がシンプルで高強固にしかも安価に製造できるプラズマ反応器及びそれを用いた排気ガス浄化装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma reactor which eliminates hazardous substances such as NOx and particulates in an emission through an oxidation/reduction reaction by employing plasma discharge and which can be inexpensively manufactured with a simple structure and with high durability, and an exhaust emission control device using the same. - 特許庁

中空陰極放電を用いて粉・粒状物質や塊状物質などを高効率で放電の安定した状態で高温に加熱し、また、その物質とプラズマを反応させる。例文帳に追加

To provide a treatment method of heating a matter in powder state, particle state or aggregate state or the like at high temperature in a stable state of discharge in high efficiency, and of reacting the matters with plasma by the use of hollow negative electrode discharge. - 特許庁

中空陰極１２に物質５０を粉、粒、および塊などの適宜の状態で置き、その中空陰極放電でその物質５０を高温に加熱し、また、その物質５０とプラズマを反応させる。例文帳に追加

Matter 50 in an appropriate state such as powder, particle, and aggregate is placed in a hollow negative electrode 12, to be heated at high temperature by hollow negative electrode discharge, and the matter 50 and the plasma are made to react with each other. - 特許庁

排ガス含有物質供給部で発生したプラズマを観測しつつ、排ガス含有物質の除去状態を観察することができる排ガス含有物質除去観測装置の提供例文帳に追加

To provide a device for observing the removal of substance contained in exhaust gas capable of observing a removal condition of substance contained in exhaust gas while observing plasma generated at a supply part of substance contained in exhaust gas. - 特許庁

コントローラ１０は，回転センサ１８と負荷センサ１９によって検出されたエンジン運転状態の情報に応じてプラズマ発生装置のプラズマ電力を制御し，フィルタ３に捕集されたパティキュレート物質を反応消滅させる制御を行う。例文帳に追加

A controller 10 controls plasma power of a plasma generator according to information on an engine operating state detected by a rotation sensor 18 and a load sensor 19, and controls so as to react and extinguish the particulate substance scavenged by the filter 3. - 特許庁

物質表面に不活性コーティングを付着させる方法において、不活性ガスの存在下で表面を活性化するのに十分な時間前記表面をプラズマ放電に曝す第１工程、およびプラズマがない状態で、活性化された表面と、ガス状有機珪素物質とを接触させ、この活性化された表面に有機珪素物質を蒸着させる第２の工程を含む前記方法。例文帳に追加

The depositing method of an inert coating on a substance surface includes a first process to expose the surface to plasma discharge for an enough time to activate the surface in the presence of an inert gas, and a second process to bring the activated surface into contact with a gaseous org. silicon material without plasma and to carry out vapor deposition of the org. silicon material on the activated surface. - 特許庁

開始用の菅状部材（１２）が回転され、「ＣＦＯＴ」化学物質（２２）がプラズマトーチ（１６）中に選択的に注入され、「ＣＦＩＴ」化学物質（２４）が菅（１２）の空洞を通って流れるように選択的に注入される。例文帳に追加

A starting tubular member (12) is rotated, CFOT chemicals (22) are selectively injected into the plasma torch (16), and CFIT chemicals (24) are selectively injected to flow through the hollow of the tube (12). - 特許庁

この排気ガス浄化装置は，プラズマ放電を用いて排気ガス中のＮＯ_X ，粒子状物質等の有害物質を吸着し，酸化還元反応させて消失させる。例文帳に追加

To provide an exhaust emission control device that adsorbs hazardous substances such as NO_x and particulate substances contained in exhaust gas so as to cause oxidation and reduction reactions to remove the hazardous substances by using a plasma discharge. - 特許庁

グロー放電によりプラズマを発生さるプラズマ表面処理装置は、放電空間４に供給される少なくとも１種のガスの流路上であって、放電空間４の上流に多孔質体９が設置されており、多孔質体９に液状の作用物質を浸透させた状態で、前記ガスを通過させることによって、前記作用物質のミストが形成され前記ガスに含有されるようになっている。例文帳に追加

In the plasma surface treatment apparatus generating plasma by glow discharge, a porous body 9 is installed at the upstream of a discharge space 4 on at least one type of gas channel supplied to the discharge space 4, and the mist of an active material is contained in gas by passing the gas while the liquid active material is permeated to the porous body 9. - 特許庁

プラズマ処理装置等の処理において、処理室内の内壁への付着物質の表面状態の粗さ等から付着状況を簡単に評価できるようにする。例文帳に追加

To easily evaluate an attaching state of a substance attaching to the inner wall of a treatment chamber from the roughness of the surface condition of the substance, etc. in the handling of a plasma treatment apparatus, etc. - 特許庁

本発明は、このような低温プラズマ分解装置において、両電極の間に粒状強誘電体物質が充填されると共に、両電極の対向面側にそれぞれアルミナコーティング層を設ける。例文帳に追加

In the low temp. plasma decomposition device, a granular ferroelectric material 3 is filled between both electrodes 1 and 2 and also alumina coating layers are provided respectively at the opposite surface side of the both electrodes 1 and 2. - 特許庁

１４族元素を含む化合物、及び超臨界状態とした物質の混合系でプラズマ放電を行うことにより基材上に膜を形成する膜の製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the film comprises forming the film on a base material by performing plasma discharge with respect to a mixed system of a compound including a group 14 element and a substance made into a supercritical state. - 特許庁

本発明は燃料を予熱して排気ガスと混合することにより、排気ガス内の粒子状物質を効果的に酸化させて除去するプラズマバーナ及び煤煙濾過装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma burner for effectively oxidizing and removing the particulates in exhaust gas by preheating fuel and mixing it with the exhaust gas and to provide a soot filtration device. - 特許庁

試料12にパルスレーザ光Ｌを集光照射し、試料12がパルスレーザ光Ｌを受けて生成するプラズマＰから放出される蛍光Ｆを検出し、検出した蛍光Ｆから液体状の物質の元素分析をする。例文帳に追加

A pulse laser beam L is condensed to a sample 12 to irradiate the sample and the fluorescence F discharged from the plasma P formed upon the reception of the pulse laser beam L by the sample 12 is detected to perform the elementary analysis of the liquid material from the detected fluorescence F. - 特許庁

このプラズマは、気泡中に含まれる、液体に由来の気相状態の物質に作用し、合成反応や分解反応等の化学反応を進行させる。例文帳に追加

The plasmas act on a gaseous material, contained in the bubbles, originated from the liquid to promote a chemical reaction such as a synthesis reaction and a decomposition reaction. - 特許庁

本発明は、少なくとも表層が窒化ガリウムで構成された被処理基板を、塩素ガスをプラズマ状態に励起することによりエッチングする際に、前記塩化ガスから発生されたプラズマにより、アルミニウムラジカル及び塩化アルミニウムラジカルを発生する窒化アルミニウム（AlN）を含む物質を存在させた状態でエッチングすることを特徴とするドライエッチング方法である。例文帳に追加

There is provided a method of etching a substrate to be processed whose at least surface layer is composed of gallium nitride by exciting a chlorine gas into a plasma state, including a step of etching the substrate to be processed by the plasm generated from the chlorine gas in the presence of a material containing aluminum nitride (AlN) that generates aluminum radicals and aluminum chloride radicals. - 特許庁

物質の状態（つまり、溶液状態か固体状態か、組成、または大きさ等）に関わらず、高い励起効率とイオン化効率を得ることができる、プラズマを励起および／またはイオン源とした物質の励起および／またはイオン化方法、およびこの励起方法を利用した分析方法と分析装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for exciting and/or ionizing a material utilizing plasma as an excitation and/or ion source, capable of obtaining high excitation efficiency and ionization efficiency regardless of a material state (in other words, solution state, solid state, composition, size, or the like). - 特許庁

ディーゼルバーンエンジン等から排出された排気ガスに含まれ，且つ炭素系固形分と，それを覆う有機溶剤可溶分とよりなる粒子状物質を低減させるに当り，有機溶剤可溶分と酸素とを触媒の存在下で反応させてその有機溶剤可溶分を酸化させ，次いで排気ガス中にてプラズマを発生させることによりプラズマ励起種を生成させ，そのプラズマ励起種により炭素系固形分を酸化させる，といった手段を採用する。例文帳に追加

In this method for reducing the particulate substance that exhaust gas exhausted from a diesel burn engine contains and is composed of carbon system solid component and organic solvent soluble component covering it, the organic solvent soluble component and oxygen are mutually reacted under the presence of catalyst to oxidize the organic solvent soluble component, plasma is generated in exhaust gas to generate plasma excitation kind, and the carbon system solid component is oxidized by the plasma excitation kind. - 特許庁

２種以上の流動性物質を被塗工体表面に、各流動性物質に課されたパターン状に順次、少ない工程で効率よく塗工する方法、特に、プラズマディスプレーパネルの蛍光体を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method to efficiently and successively apply two or more kinds of flowable substances on the surface to be coated into the patterns assigned to the respective flowable substances in a small number of processes, and particularly a method for forming a phosphor of a plasma display panel. - 特許庁

炭化水素ガスをプラズマアシストCVD法により処理し、カーボンナノチューブを円錐状物質として、蜜に成長・凝集させ、自己組織化された状態で得られものであることを特徴とするカーボンナノチューブ集合体配列膜及びその製造方法。例文帳に追加

In the method for manufacturing the arrangement film of carbon nanotube aggregate, a hydrocarbon gas is treated by a plasma assist CVD method and carbon nanotubes are densely grown and aggregated into conical substances in a self-assembled state. - 特許庁

反射防止膜11は、光学部品ないし光学素子12の表面に形成された物質と空隙の錯綜した非周期的な海綿状微細構造を有し、非周期的海綿状微細構造が金属化合物を含むプラズマ加工残渣物から形成されている。例文帳に追加

The antireflection film 11 has a non-periodical sponge-like microstructure with a complicated structure of a substance and vacancies formed on the surface of optical parts or optical element 12, and the non-periodical sponge-like microstructure is formed from the residue of plasma processing containing metal compounds. - 特許庁

針状電極に負電位の、光触媒を塗布した板状電極に正電位の直流電圧を印加し、発生する波長400nm以下の紫外線により光触媒を活性化しながら、プラズマ放電とともに臭気物質を分解する方法。例文帳に追加

In an odor material decomposition method, the DC voltage of a negative potential is applied to the pin electrode and the DC voltage of a positive potential is applied to the plate electrode coated with the photocatalyst to thereby generate ultraviolet rays having a wavelength of ≤400 nm, the photocatalyst is activated by the generated ultraviolet rays and the odor material is decomposed by the plasma discharge and the activated photocatalyst. - 特許庁

針状電極(pin electrode)と 酸化チタニウムを塗布した板状電極（plate electrode）からなる電極に対し、直流高電圧を印加し、プラズマ放電を発生させ、さらに、電極間に発生する波長が400nm以下の紫外線を利用して、光触媒作用を示す酸化チタニウムを活性化させ、光触媒の示す酸化作用とプラズマ放電の両者により臭気物質をより完全に分解させることで、高効率に臭気物質を分解する。例文帳に追加

To highly efficiently decompose odor materials by applying a DC high voltage to electrodes composed of a pin electrode and a plate electrode coated with titanium oxide thereby generating plasma discharge, activating the titanium oxide indicating a photocatalytic action by utilizing ultraviolet rays having a wavelength of ≤400 nm generated between the electrodes further and completely decomposing the odor material by both of oxidation action indicated by a photocatalyst and the plasma discharge. - 特許庁

フォトレジストパターンを蝕刻マスクとして使用して半導体基板上に形成されたシリコン含有物質を露出させるコンタクトホールを形成した後、前記半導体基板をプラズマ前処理モジュールおよび蒸着モジュールが真空状態で互いに連結される、クラスター装置にローディングさせる。例文帳に追加

After making contact holes for exposing a substance containing silicon formed on a semiconductor substrate using a photoresist pattern as an etching mask, the semiconductor substrate is loaded in a cluster system where a plasma pretreatment module and a deposition module are coupled under vacuum state. - 特許庁

微粒子状の標的物質802がアノード電極805先端部に到達したときに、絶縁部材807の表面で発生したプラズマシートがアノード電極805の先端に到達するようなタイミングで、アノード電極805−カソード電極806間にパルス電圧を印加する。例文帳に追加

A pulse voltage is applied between the anode 805 and a cathode 806 with such timing that, when the particulate target substance 802 reaches an end part of the anode 805, a plasma sheet produced on a surface of an insulating member 807 reaches the end part of the anode 805. - 特許庁

本発明の一酸化珪素微粒子の製造方法は、二酸化珪素の粉末を、炭素を含む液体状の物質に分散させ、さらに水を添加してスラリーにし、このスラリーを液滴化させて酸素を含まない熱プラズマ炎中に供給して、一酸化珪素微粒子を得るものである。例文帳に追加

The method for producing the silicon monoxide fine particles includes dispersing a silicon dioxide powder into a liquid substance containing carbon, further adding water to the resulting dispersion to convert the dispersion into a slurry, converting the slurry into liquid droplet and supplying the droplet into a thermal plasma flame free from oxygen to obtain the silicon monoxide fine particles. - 特許庁

これにより、当該磁性電極２ｇ並びに誘電体３の周囲には磁界が発生するため、プラズマにより表面に電荷を帯びた粒子状物質ＰＭには排気ガスの気流に対面する方向に沿って移動しようとする力が働く。例文帳に追加

Hence, a magnetic field is generated around the magnetic electrode 2g and a dielectric body 3, and therefore, a force for a particulate matter PM having a surface electrically-charged by plasma to move along the direction facing the air flow of the exhaust gas, is exerted. - 特許庁

照明分野に属する高輝度放電ランプ（以下ＨＩＤランプ）を構成する管状材料（シリカガラス管材等）を、発光物質である金属ハロゲン化合物や、水銀などのプラズマから保護するの保護薄膜を、レーザアブレーションによって形成する薄膜創生方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of creating a protective thin film by laser ablation, which protects a tubular material (such as a silica glass pipe material) constituting a high-intensity discharge lamp (hereafter called a HID lamp) in a lighting field, from plasma of a metallic halide, mercury or the like that is a luminescent material. - 特許庁

分子構造の直前の構造とエネルギー状態、そして植物の光合成から物質が産み出されていることの証明から得られる原理から導き出される各種の発展的発明。具体的には、分子構造の崩壊によるエネルギーの放出を利用してのプラズマ蒸気タービンとかプラズマプロペラエンジンそしてプラズマ蒸気ボイラー。また宇宙への進出に植物の光合成を利用して、他の天体を植物で満たして第二、第三の地球を作り出すこと。地球型宇宙船の提案。そして植物が放射能から鉛を産み出していることを利用して、放射能除去と鉛の製造を同時に行う発明。またこのエネルギーを使用するに当たっての都会におけるプラズマの処理の方法と、天災から身を護るための方法の発明。例文帳に追加

PLASMA STEAM TURBINE, PLASMA AIRSCREW ENGINE, PLASMA STEAM BOILER AND THE LIKE USING RELEASE OF ENERGY BY DISRUPTION OF MOLECULAR STRUCTURE - 特許庁

炭化水素からダイヤモンド状炭素被膜を合成するにあたって、炭化水素とともに、シリコン及び炭素を含む物質を導入し、イオンプロセス主体での合成を可能にする高電圧を印加するプラズマ化学気相成長法により、炭化水素とシリコン及び炭素を含む物質とからダイヤモンド状炭素被膜を合成する。例文帳に追加

Upon synthesizing the diamond-like carbon film from hydrocarbon, the diamond-like carbon film is synthesized from the hydrocarbon and a substance containing silicon and carbon by a plasma chemical vapor growth method of introducing silicon and a substance containing carbon together with hydrocarbon, and applying a high voltage to enable synthesis mainly by an ion process. - 特許庁

この方法は，粒子状物質を含む排気ガス中にてプラズマを発生させることにより，複数のＯ（^１ Ｄ）ラジカルの生成，それに次ぐ複数のパーハイドロオキサイド励起種の生成を惹起させ，それらパーハイドロオキサイド励起種によって粒子状物質を酸化させることにより連続的に低減させる，といった手段を採用する。例文帳に追加

In this method, plasma is generated in exhaust gas containing particulate substance, a plurality of O(^1D) radicals are generated, a plurality of perhydrooxide excitation kinds following them are generated, and the particulate substance is oxidized by the perhydrooxide excitation kinds to reduce the particulate substance continuously. - 特許庁

検査対象である金属表面６にパルス状のレーザー光１１を照射して付着物質をアブレーションし、その後アブレーションによりプラズマ化された物質からの発光１３を計測し、分光することにより、金属表面に付着する微量成分の特定と濃度を求めるようにしている。例文帳に追加

A measurement method comprises the steps of: irradiating a metallic surface 6 to be inspected with a pulse-shaped laser beam 11 to perform the ablation of adhesion substance; measuring and dispersing emission 13 from the substance integrated into plasma by the ablation for specifying micro-components adhered to the metallic surface, and for calculating the concentration of the micro-components. - 特許庁

また、少なくとも、真空チャンバー１０内にアーク放電を行って放電プラズマを発生させる一対の電極１１ａ、１１ｂが設けられ、かつ、前記真空チャンバー１０内にキャリアーガスを供給し得るガス供給手段１７と、前記放電プラズマ中に導入管１５から含炭素液状物質を供給し得る原料供給手段１６と、を具備することを特徴とするカーボンナノチューブ等の製造装置である。例文帳に追加

At least a pair of electrodes 11a and 11b for generating discharge plasma by the arc discharge is provided in a vacuum chamber 10 and the vacuum chamber 10 is equipped with a gas supply means 17 capable of supplying a carrier gas and a raw material supply means 16 capable of supplying the carbon-containing liquid material to the discharge plasma through an introducing pipe 15. - 特許庁