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ポストベークの英語
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英訳・英語 post-bake
「ポストベーク」を含む例文一覧
該当件数 : 66件
ポストベークフリー用エッチングレジスト例文帳に追加
POST BAKING-FREE ETCHING RESIST - 特許庁
温度は前の工程で行ったポストベーク温度よりも低くする。例文帳に追加
A temperature is set lower than the post baking temperature of the previous step. - 特許庁
または、(a)ポストベーク前のレジストパターンの下でのITO膜4のエッチング→ (b)ポストベークによるレジストパターンの拡大→ (c)ポストベーク後のレジストパターンの下での金属膜5のエッチング、という一連の工程を行なう。例文帳に追加
Otherwise a sequence of processes as follows is executed: (a) etching of the ITO film 4 under a resist pattern prior to post baking→(b) extension of the resist pattern by the post baking→(c) etching of the metal film 5 under the resist pattern after the post- baking. - 特許庁
現像後に枝リブ84の幅を点検し、規格より小さい際に、現像とポストベークの間で第2露光を行い、ポストベークで枝リブを熱フロー。例文帳に追加
The width of the branch rib 84 is inspected after development and when the width is smaller than specification, second exposure is performed between the development and post baking, and the branch rib is caused to thermally flow by post baking. - 特許庁
着色剤含有量を高めてパターンを形成する際に、露光後現像時のパターン剥離の発生及び残渣の発生とポストベーク時のパターン崩れを抑制し、ポストベーク後に矩形なパターンを得る。例文帳に追加
To provide a rectangular pattern after post baking by suppressing occurrence of pattern peeling and generation of residue in developing after exposure, and pattern breakage in post baking when forming a pattern with an increased coloring agent content. - 特許庁
次に紫外線照射工程(S5)で、ポストベーク処理を終えた感光性着色レジストのパターンに対して、紫外線(UV)の照射を行う。例文帳に追加
Then in an irradiation process with UV rays S5, the photosensitive color resist pattern after post baking treatment is irradiated with UV rays UV. - 特許庁
次にポストベーク工程(S4)で、現像工程から残存して水分を除去し、レジストパターンを乾燥する。例文帳に追加
The water content remaining from the developing process is removed in a post baking process S4 and the resist pattern is dried. - 特許庁
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「ポストベーク」を含む例文一覧
該当件数 : 66件
こうしてフォトレジスト層12に所定のパターンを形成した後、再び熱処理(ポストベーク)を行う。例文帳に追加
After a predetermined pattern is accordingly formed on the photoresist layer 12, heat treatment (post baking) is performed again. - 特許庁
ポジ型感光性樹脂組成物を用いた、ポストベーク前後での形状変化が小さい硬化物を形成する方法を提供すること。例文帳に追加
To provide a method of forming a cured material which deforms less before and after the postbaking by using a positive photosensitive resin composition. - 特許庁
ポストベーク後に硬度の高い膜を与え、かつ溶解性に優れた着色感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加
To provide a colored photosensitive resin composition giving a high hardness film after post-baking and having excellent solubility. - 特許庁
応力はレジストを露光し、現像した後にポストベークを施すことによってレジストが硬化されるために生じる。例文帳に追加
The stress is generated because a resist is hardened by post baking after the resist is exposed and developed. - 特許庁
ある品目の枝リブの幅より大きな幅の枝リブを有する他品目を製造する際に、ある品目のフォトマスクを介し他品目の枝リブを形成する第1露光、現像を行い、現像とポストベークの間で第2露光を行い、ポストベークで枝リブを熱フロー。例文帳に追加
When manufacturing another item having the branch rib of the width larger than the width of the branch rib of a certain item, first exposure and the development to form the branch rib of the other item are performed via the photomask of the certain item, the second exposure is performed between the development and the post baking, and the branch rib is caused to thermally flow by the post baking. - 特許庁
(A)基板に青色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、(B)プレベークする工程、(C)露光・現像する工程、及び(D)ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、(D)ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。例文帳に追加
The method for manufacturing a color filter comprises steps of (A) applying a negative resist composition containing a blue pigment; (B) pre-baking; (C) exposing/developing; and (D) post-baking, wherein (D) the post-baking is performed under a reduced pressure. - 特許庁
基板10上のフォトレジスト11を露光現像して凹凸パターン12,13を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト11をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト11の凹凸パターン13にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。例文帳に追加
The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step. - 特許庁
(A)基板に赤色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、(B)プレベークする工程、(C)露光・現像する工程、及び(D)ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、(D)ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。例文帳に追加
The method of manufacturing the color filter includes steps of (A) applying a negative resist composition containing a red pigment on a substrate, (B) pre-baking, (C) exposing/developing, and (D) post-baking, wherein the step of (D) post-baking is carried out under reduced pressure. - 特許庁
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