「ポストベーク」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

次に紫外線照射工程（Ｓ５）で、ポストベーク処理を終えた感光性着色レジストのパターンに対して、紫外線（ＵＶ）の照射を行う。例文帳に追加

Then in an irradiation process with UV rays S5, the photosensitive color resist pattern after post baking treatment is irradiated with UV rays UV. - 特許庁

次にポストベーク工程（Ｓ４）で、現像工程から残存して水分を除去し、レジストパターンを乾燥する。例文帳に追加

The water content remaining from the developing process is removed in a post baking process S4 and the resist pattern is dried. - 特許庁

こうしてフォトレジスト層１２に所定のパターンを形成した後、再び熱処理（ポストベーク）を行う。例文帳に追加

After a predetermined pattern is accordingly formed on the photoresist layer 12, heat treatment (post baking) is performed again. - 特許庁

ポジ型感光性樹脂組成物を用いた、ポストベーク前後での形状変化が小さい硬化物を形成する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of forming a cured material which deforms less before and after the postbaking by using a positive photosensitive resin composition. - 特許庁

ポストベーク後に硬度の高い膜を与え、かつ溶解性に優れた着色感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a colored photosensitive resin composition giving a high hardness film after post-baking and having excellent solubility. - 特許庁

応力はレジストを露光し、現像した後にポストベークを施すことによってレジストが硬化されるために生じる。例文帳に追加

The stress is generated because a resist is hardened by post baking after the resist is exposed and developed. - 特許庁

ある品目の枝リブの幅より大きな幅の枝リブを有する他品目を製造する際に、ある品目のフォトマスクを介し他品目の枝リブを形成する第１露光、現像を行い、現像とポストベークの間で第２露光を行い、ポストベークで枝リブを熱フロー。例文帳に追加

When manufacturing another item having the branch rib of the width larger than the width of the branch rib of a certain item, first exposure and the development to form the branch rib of the other item are performed via the photomask of the certain item, the second exposure is performed between the development and the post baking, and the branch rib is caused to thermally flow by the post baking. - 特許庁

（Ａ）基板に青色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。例文帳に追加

The method for manufacturing a color filter comprises steps of (A) applying a negative resist composition containing a blue pigment; (B) pre-baking; (C) exposing/developing; and (D) post-baking, wherein (D) the post-baking is performed under a reduced pressure. - 特許庁

基板１０上のフォトレジスト１１を露光現像して凹凸パターン１２，１３を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト１１をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト１１の凹凸パターン１３にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。例文帳に追加

The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step. - 特許庁

（Ａ）基板に赤色顔料を含有するネガ型レジスト組成物を塗布する工程、（Ｂ）プレベークする工程、（Ｃ）露光・現像する工程、及び（Ｄ）ポストベークする工程を有するカラーフィルターの製造方法であって、（Ｄ）ポストベークを減圧下で行うことを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。例文帳に追加

The method of manufacturing the color filter includes steps of (A) applying a negative resist composition containing a red pigment on a substrate, (B) pre-baking, (C) exposing/developing, and (D) post-baking, wherein the step of (D) post-baking is carried out under reduced pressure. - 特許庁

メラミン樹脂はポストベーク工程の熱によってアルカリ可溶樹脂、モノマーと架橋することで塑性変形量を低減すると共に、形成されるフォトスペーサ−に柔軟性を付与する。例文帳に追加

The melamine resin crosslinks with the alkali-soluble resin and the monomer by the heat of a post-baking step to impart flexibility to formed photo spacers as well as to reduce plastic deformation. - 特許庁

有機複屈折膜１８上にポジレジストを塗布し、フォトリソグラフィーにより周期的な回折格子を完成させる（このとき加熱（プリベーク，ポストベーク））。例文帳に追加

The membrane 18 is coated with positive resist, and a periodical diffraction grating is completed by photolithography {at such a time, heating (pre-baking, post-baking) is performed}. - 特許庁

印刷適性に大きな影響を与えることなく、ポストベーク時の熱架橋により凝集力と硬化性を向上でき、密着性とＰＣＴ耐性に優れたブラックマトリックス用着色組成物の提供。例文帳に追加

To provide a color composition for a black matrix capable of improving cohesion and curability upon heat crosslinking in post-baking without considerably affecting printability, and excellent in adhesion and PCT resistance. - 特許庁

現像時に未露光部の基板上及び遮光層上に残渣を生じることがなく、現像後ポストベークされた画素が耐熱性、耐アルカリ性に優れているカラーフィルター用感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition for a color filter which produces no residue on a substrate and on a light shielding layer in an unexposed part in development and ensures superior heat and alkali resistances for pixels post-baked after development. - 特許庁

永久レジストは、上記ポジ型感光性組成物を基材上に塗布し、塗布物を露光し、アルカリ現像した後に、１２０〜３５０℃の温度でポストベークして製造される。例文帳に追加

The permanent resist is produced by applying the positive photosensitive composition on a substrate and subjecting the resulting coating to exposure, alkali development and post-bake at 120-350°C. - 特許庁

この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。例文帳に追加

For this regulation, prebake temperature and conditions in development processing after pattern exposure are set so that undercut parts having a proper depth and length are formed in a thin film material layer before post-bake. - 特許庁

ポストベーク時の優れた形状保持性を有し、プラズマ加工性にも優れた４Ｍａｓｋ方式による表示素子基板加工に利用することができるハーフトーンパターンが形成可能なフォトレジストを提供する。例文帳に追加

To provide a photoresist that has superior shape retainability during post baking and is also superior in plasma processability, and with which a half tone pattern used for processing of a display element substrate by a four-Mask system is formed. - 特許庁

解像性に優れ、かつ、加熱処理（ポストベーク工程）前後のコンタクトホール径の寸法安定性に優れた硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in resolution and gives a cured film with excellent dimensional stability of a contact hole diameter before and after a heat treatment (post-bake step). - 特許庁

現像後のパターンがＴ−Ｔｏｐ形状となることを抑制し、かつ、ポストベーク後のパターンにシワを生じたり、フローを生じたりすることを抑制できる感光性組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a photosensitive composition for suppressing formation of a T-shaped top in a pattern after developed, and suppressing wrinkles or generating flows induced in a pattern, after post-baking. - 特許庁

最後の着色レジスト形成時においては、光硬化及び仮ポストベーク工程の代わりに全ての現像後着色レジストパターンを一括して硬化させる本焼成工程を行う。例文帳に追加

In the final coloring resist formation, a primary baking process of setting all coloring resist patterns having been developed together at a time is carried out instead of the photosetting and temporary postbaking process. - 特許庁

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and with which pattern rectangularity is not deteriorated even in a subsequent step of post baking in pattern formation with low exposure (in particular, less than 200 mJ/cm^2). - 特許庁

現像時に基板上に顔料の残さが発生することなく、かつ、現像時の接着性とポストベーク後の接着性、両者とも優れたカラーフィルター用感光性レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resist composition for color filters which avoids occurrence of residue of pigment on a substrate in development and excels in both of adhesiveness in development and adhesiveness after post-bake. - 特許庁

重合させたバンク９０は、熱硬化手段１１０によりレジストのポストベーク温度以上に加熱して熱硬化処理をしたのち、撥液処理手段１３により表面が撥液化される。例文帳に追加

The polymerized bank 90 is subjected to thermosetting treatment by heating to the temperature equal to or higher than the post baking temperature of the resist by a thermosetting means 110, and its surface is converted to have liquid repelling property by a liquid repelling treating means 13. - 特許庁

着色層中の開始剤および分散剤の残存量を低下させるために、ポストベークは、２００℃で、１時間以上の条件が与えられている。例文帳に追加

A condition of 200°C and ≥1 hour is assigned to the post baking so as to lower the remaining amounts of the initiator and the dispersing agent in the coloring layer. - 特許庁

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition which provides superior resolution, even when a pattern is formed, using a low exposure intensity (in particular, <200 mJ/cm^2) and may inhibit deterioration in pattern rectangularity, during a post baking process of a post treatment. - 特許庁

このレジスト層３に対して露光、現像及びポストベークを順に行うことで第１レジストパターンを形成し、この第１レジストパターンを用いて酸化膜２に対するエッチング処理を行う。例文帳に追加

The resist layer 3 is successively subjected to exposure, developing, and post baking for the formation of a first resist pattern, and the oxide film 2 is subjected to an etching process through the first resist pattern as an etching mask. - 特許庁

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対してポストベークを行なった後、現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部よりなり、良好な形状を持つレジストパターン１０２ａを得られる。例文帳に追加

When a development is performed after the resist film 102 in which the pattern exposure is conducted is postbaked, a resist pattern 102a made of an unexposed part of the resist film 102 and having a good shape is obtained. - 特許庁

固体撮像素子の画素形成に用いられ、解像性に優れた画素が形成でき、且つ、画素形成の際に行われるポストベーク後において画素の剥がれ欠陥の発生が抑制された感放射線性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive composition being used for pixel formation of a solid state imaging device, allowing a pixel excellent in resolution, and enabling suppression of occurrence of release defect in a pixel after post-bake carried out in pixel formation. - 特許庁

ポストベーク時に発生する異物故障を防止し、高歩留まり、高スループット化を達成することで、高い生産性を有するカラーフィルタの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a color filter by which the occurrence of a failure due to foreign matter in post-bake is prevented and a higher yield and higher throughput are attained to ensure high productivity, and a color filter having colored pixel parts excellent in film properties. - 特許庁

次いで、プリ・ポストベークを行ない、その後、加熱処理をしてレジスト材料の表面凹凸を僅かに流動させて滑らかな表面をもつ目的形状とした。例文帳に追加

Pre-postbaking is then carried out and the rugged surface of the resist material is slightly fluidized by heat treatment to obtain the objective shape having a smooth surface. - 特許庁

高温ポストベーク工程におけるレジストパターンの変形を防止できるとともに、高温加熱時の脱ガス量を低減させることができるようにする。例文帳に追加

To provide a positive photoresist composition which prevents deformation of a resist pattern in a high temperature postbaking process and which decreases the degassing amount during high temperature heating. - 特許庁

この水溶性樹脂層上にフォトレジストの微細溝パターン１４を所定の方法で形成した後、ポストベークを行うことなくこのパターン上にニッケル導電皮膜１５を真空蒸着法により形成して光ディスク用原盤１０とする。例文帳に追加

The microgroove pattern 14 of a photoresist is formed on the water-soluble resin layer by a prescribed process, then a nickel conductive film 15 is deposited on this pattern by vacuum deposition without post baking, thus a master optical disk 10 is obtained. - 特許庁

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０５が得られる。例文帳に追加

The resist film 102 after the pattern exposure is subjected to post baking, and developed with an alkaline developing solution to obtain a resist pattern 105 having a favorable profile comprising the unexposed part 102b of the resist film 102. - 特許庁

１，０００Ｊ/ｍ^２以下の露光量でも十分な残膜率が得られ、２００℃未満のポストベーク温度においても、密着性、ラビング耐性に優れ、さらに高い弾性回復率を有する表示素子用スペーサーまたは保護膜を形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition obtaining an adequate residual film ratio even under ≤1,000 J/m^2 of exposure energy, and capable of forming a spacer or a protective film for a display device excellent in adhesion and rubbing resistance and further having a high elastic recovery rate even at a post-bake temperature of <200°C. - 特許庁

感光性ソルダーレジストの印刷後のプリベーク工程またはポストベーク工程、あるいはソルダーレジストの印刷後のベーク工程において、リール内の乾燥バラツキを抑制し、品質の安定したＴＡＢテープ等を得ることを可能とする。例文帳に追加

To obtain a TAB tape of stabilized quality by drying the inside of a reel uniformly in prebaking or post-baking process after printing a photosensitive solder resist or in the baking process after printing a solder resist. - 特許庁

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０５が得られる。例文帳に追加

After applying a post baking to the resist film 102 which is pattern exposured, the film 102 is developed by an alkaline developing solution to be able to obtain a resist pattern 105 comprising an unexposed part 102b of the resist film 102 and having a satisfactory shape. - 特許庁

第１レジストパターンによるエッチング処理の後、残存するレジスト層３に対して露光、現像及びポストベークを再度行うことで第２レジストパターン３ｂを形成し、この第２レジストパターン３ｂを用いて酸化膜２に対するエッチング処理を行う。例文帳に追加

After an etching process is carried out as the first resist pattern is used as a mask, the residual resist layer 3 is successively subjected to exposure, developing, and post baking again to form a second resist pattern 3b, and the oxide film 2 is etched through the second resist pattern 3b as a mask. - 特許庁

この発明のカラー液晶表示装置は、ポストベーク後の着色層１８中に含まれる開始剤ならびに分散剤の量が、それぞれ、３．５％，３％以下に抑制された着色層または着色層と同時に一体的に形成されるスペーサ２０を有する。例文帳に追加

The color liquid crystal display device is provided with the coloring layer 18, of which the amounts of an initiator and an dispersing agent contained therein after post baking are suppressed to be ≤3.5% and ≤3% respectively, or the spacer 20 simultaneously and integratedly formed with the coloring layer. - 特許庁

次に、Ｐｔ膜２３上にレジスト２４を０．６μｍの厚みで堆積し、１７０℃の温度でポストベークを行った後、このレジスト２４をマスクとしてＰｔ膜２３のエッチングを行うことにより金属配線３、５を形成する。例文帳に追加

Next, a resist 24 is accumulated in the thickness of 0.6 μm on the Pt film 23, and after performing a post-bake at a temperature of 170°C, the Pt film 23 is etched with this resist 24 as a mask to form the metallic wiring 3 and 4. - 特許庁

配向制御突起が、配向制御突起を形成する材料として、配向制御突起形成時のポストベークの熱で溶解するフィラー２０を含有した同一の材料を用い、第一配向制御突起Ｍｖ１と第二配向制御突起Ｍｖ２を同時に形成した配向制御突起であること。例文帳に追加

In alignment control projections, one and the same material containing a filler 20 which is melted by heat of post-baking during formation of alignment control projections is used as a material of forming the alignment control projections, and a first alignment control projection Mv1 and a second alignment control projection Mv2 are simultaneously formed. - 特許庁

自己解裂型開始剤でありながら、光照射時又はポストベーク時に低分子分解物の揮発や臭気の発生が軽減され、且つ、最終製品中に低分子分解物を残留させないラジカル発生剤、当該ラジカル発生剤を用いた感光性樹脂組成物及び物品を提供する。例文帳に追加

To obtain a radical generator which is a self-cleavage initiator but is reduced in volatilization of low molecular decomposed products and generation of odor during light irradiation or postbaking and leaves no low molecular decomposition products in the final product and provide a photosensitive resin composition and articles using the radical generator. - 特許庁

複数の異種顔料を含む着色感光性樹脂組成物において、低エネルギーでの露光においても硬化性が高く、硬化膜をポストベーク処理にした場合においても、シワやムラの発生が抑制された着色感光性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a colored photosensitive resin composition which exhibits high curability even in exposure with low energy and suppresses the occurrence of a crease and unevenness when a cured film is post-baked, with respect to a colored photosensitive resin composition containing a plurality of different pigments. - 特許庁

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な形状を持つレジストパターン１０６が得られる。例文帳に追加

When the resist film 102 is developed with an alkaline developing solution after post-baking is performed on the resist film 102 exposed to the pattern, a resist pattern 106 composed of the unexposed sections 102b of the film 102 and having an excellent shape is obtained. - 特許庁

現像性やパターング適性に大きな影響を与えることなく、ポストベーク時のカルボキシル基およびヒドロキシル基の架橋により凝集力と耐水性を向上でき、密着性とＰＣＴ耐性に優れた、アルカリ現像可能な活性エネルギー線硬化性着色組成物の提供。例文帳に追加

To provide an active energy ray-curing color composition developable with an alkali and having improved aggregation force and water proof property by crosslinking of carboxyl groups and hydroxyl groups during post baking without influencing the developing property or pattern adaptability so much, and having excellent adhesion property and PCT (pressure cooker test) durability. - 特許庁

パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して、ポストベークを行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部１０２ｂよりなり良好な断面形状を持つレジストパターン１０５が得られる。例文帳に追加

The resist film 102 subjected to pattern exposure is then subjected to post bake and developed using alkaline developer thus obtaining a resist pattern 105 composed of the unexposed part 102b of the resist film 102 and having a good cross-sectional profile. - 特許庁