不活性基板の英語

プリント基板搬送領域に充満した不活性ガスがプリント基板非搬送領域側へ流出するのを防ぎ、また、プリント基板搬送領域のみに不活性ガスを供給することで、不活性ガスの使用量を低減すること。例文帳に追加

To prevent inert gas being filled a printed board conveyance region from leaking out into a printed board non-convyance region side and supply inert gas to the printed board conveyance region only to reduce the used quantity of the inert gas. - 特許庁

基板表面近傍を不活性ガス雰囲気とするように不活性ガスを噴射する不活性ガス噴射ノズル（１４４）と、不活性ガス噴射ノズル（１４４）から噴射する不活性ガス流れを受けて、基板の外方に向かう流れに偏向するじゃま板（１４６）を有する。例文帳に追加

The system for processing a substrate comprises a nozzle (144) for jetting inert gas to for an inert gas atmosphere in the vicinity of the surface of the substrate, and a baffle plate (146) for receiving inert gas flow jetted from the inert gas jet nozzle (144) and deflecting it outward of the substrate. - 特許庁

シリコン基板等の半導体基板の表面を一層不活性化し、基板表面でのキャリアの再結合を一層低減する。例文帳に追加

To further reduce the recombination of carriers on the surface of a semiconductor substrate such as a silicon substrate by further inactivating the surface of the semiconductor substrate. - 特許庁

不活性ガスを用いて配線基板の半田付けを行う装置の、不活性ガス供給ノズルがフラックスミストで閉塞することを防止する。例文帳に追加

To prevent the inert gas feeding nozzle of a soldering device, which applies a soldering to a wiring board using inert gas, from being blocked with a flux mist. - 特許庁

半導体基板の不純物を活性化させる際に、表面に荒れを生じさせることなく効果的に不純物の活性化を行うことを可能にする。例文帳に追加

To effectively activate impurities of a semiconductor substrate without roughening its surface in activating the impurities. - 特許庁

基板４を上面に保持する基板保持台５と、基板４の下面と基板保持台５の上面との間にガス流路７を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給源８（不活性ガス供給手段）とを備えたプラズマ処理装置において、不活性ガス供給源８のガス流路７を、基板保持台５に挿入されたスリーブ７１（筒状体）から構成した。例文帳に追加

The plasma processing apparatus comprises a base 5 for holding the substrate 4 on the upper surface, and a source 8 (inert gas supply means) for supplying inert gas between the lower surface of the substrate 4 and the upper surface of the substrate holding base 5 through a gas channel 7 comprising a sleeve 71 (tubular body) inserted into the substrate holding base 5. - 特許庁

露光装置において、エア８から不活性ガス９を取り出す不活性ガス生成手段１１と、基板３に照射される照明光Ｌ１の光路に不活性ガス生成手段から不活性ガスを供給する不活性ガス供給ライン１２とを設ける。例文帳に追加

The aligner comprises an inert gas producing means 11 for taking an inert gas 9 from air 8, and an inert gas feed line 12 for feeding the inert gas from the inert gas producing means to the optical path of an illumination light L1 irradiating a substrate 3. - 特許庁

基板保持台２１により基板Ｗが略水平に保持され、その基板Ｗに処理液ノズル５０から処理液が供給されるとともに、不活性ガス供給板１１０から不活性ガスが供給される。例文帳に追加

A substrate W is held almost horizontally on the substrate holding boat 21 where the treatment liquid from the treatment liquid nozzle 50 and an inert gas from the inert gas supply plate 110 are supplied to the substrate W. - 特許庁