二酸化テルルの英語

高純度二酸化テルルの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HIGH PURITY TELLURIUM DIOXIDE - 特許庁

テルルを電着テルルとして製造する際に発生する中間物から、高純度の二酸化テルルを製造する高純度二酸化テルルの製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing the high purity tellurium dioxide is provided in which the high purity tellurium dioxide is manufactured from the intermediate product produced when tellurium is manufactured as electrodeposited tellurium. - 特許庁

逆抽出した水溶液に二酸化硫黄のような還元剤を加え、２８０〜３００ｍＶまで還元して金属テルルを分離回収する。例文帳に追加

Then, a reducing agent such as sulfur dioxide is added to the aqueous solution after the back-extraction and reduction is effected to 280-300 mV to separate and recover metal tellurium. - 特許庁

本発明の課題は、銅電解工程の副産物として回収する、電着テルル製造工程の中間物から、高純度の二酸化テルルを製造することである。例文帳に追加

To manufacture high purity tellurium dioxide from an intermediate product of an electrodeposited tellurium manufacturing process recovered as a by-product of a copper electrolysis process. - 特許庁

アルカリ成分が40 〜60g/LのNaOHからなる常温の苛性ソーダ溶液で、空気を吹込みすることなく浸出して、鉛の浸出を抑えつつテルルを浸出した後、得られた浸出液を中和することにより、テルルを高純度の二酸化テルルとして回収する。例文帳に追加

With a caustic solution, at an ordinary temperature, composed of an alkali component of 40-60 g/L of NaOH, leaching-treatment is performed without blowing air into, and after tellurium is leached while suppressing leaching of lead, the obtained leachate is neutralized to recover tellurium as tellurium dioxide with high purity. - 特許庁

モリブデン、バナジウム、テルル、及びニオブを含む複合金属酸化物触媒の存在下、炭素数２〜８のアルカンの一段接触気相酸化反応により不飽和カルボン酸又は不飽和ニトリルを製造する際に、炭素数２〜８のアルカンの供給と同時に、二酸化炭素を供給する。例文帳に追加

An unsaturated carboxylic acid or an unsaturated nitrile is produced by a single-step catalytic vapor-phase oxidation of a 2-8C alkane in the presence of a composite metal oxide catalyst containing molybdenum, vanadium, tellurium and niobium while supplying carbon dioxide simultaneously with the supply of the 2-8C alkane. - 特許庁

６０ｋＡ／ｍより大きい保磁力、８５ｎＴｍ^３／ｇより大きい飽和磁化および３００ｎｍより短い平均粒子長さと共に狭い粒度分布を有する、鉄およびテルルまたはアンチモンで変性された二酸化クロムの製造方法である。例文帳に追加

The method of producing chromium dioxide modified by iron and tellurium or antimony and having coercive force of >60 kA/m, saturation magnetization of >85 nTm3/g and average particle length of <300 nm and narrow particle size distribution. - 特許庁