亜鉛不純物原子の英語

Ａｌ：０．５〜８原子％、Ｃｅ：０．００３〜０．５原子％をドープした酸化亜鉛からなり、不可避不純物として含まれる炭素が４０ｐｐｍ以下に限定されていることを特徴とする。例文帳に追加

The sputtering target consists of zinc oxide wherein 0.5-8 atom% Al and 0.003-0.5 atom% Ce are doped, and the amount of carbon contained as inevitable impurities is limited to be ≤40 ppm. - 特許庁

原子％で亜鉛を２．０〜１０％、ジルコニウムを０．０５〜０．２％、希土類元素を０．２〜１．５０％含み、残部がマグネシウムと不可避不純物とからなることを特徴とするマグネシウム合金。例文帳に追加

The magnesium alloy comprises, by atom, 2.0 to 10% zinc, 0.05 to 0.2% zirconium, 0.2 to 1.50% rare earth elements, and the balance magnesium with inevitable impurities. - 特許庁

第２半導体は３−５族化合物半導体であり、第２不純物原子が、ベリリウム、ボロン、炭素、マグネシウム、および亜鉛からなる群から選択された少なくとも１つであってもよい。例文帳に追加

The second semiconductor is a compound semiconductor of 3- and 5-Group elements, and the second-impurity atoms may be atoms of at least one element selected from a group consisting of beryllium, boron, carbon, magnesium and zinc. - 特許庁

Ｃｅ：０．２〜５原子％をドープし、さらに必要に応じてＡｌをＡｌ：０．００５〜０．５原子％でかつＡｌドープ量＜Ｃｅドープ量となるようにドープした酸化亜鉛からなる透明導電膜であって、この透明導電膜に不可避不純物として含まれる炭素が４０ｐｐｍ以下に限定されていることを特徴とする。例文帳に追加

The transparent conductive film is made of zinc oxide with Ce:0.2 to 5 atom% doped, and further, with Al doped at Al:0.005 to 0.5 atom% so that an Al dope volume is smaller than a Ce dope volume, and carbon contained in the transparent conductive film as inevitable impurities is limited to 40 ppm or less. - 特許庁