交互蒸着の英語

導電性材料１６および熱可塑性樹脂１７の蒸発ガスは、混合部２２で混合してから、基材１１上に蒸着させてもよいし、基材１１上に各蒸発ガスを交互に蒸着させてもよい。例文帳に追加

The evaporated gases of the material 16 and resin 17 can be vapor-deposited on the substrate 11, after the gases have been mixed with each other in a mixing section 22 or they can be vapor-deposited alternately on the substrate 11. - 特許庁

高分子樹脂よりなる基材の表面に金属又は合金よりなる蒸着層を積層してなる蒸着材予め多数製造しておき、そしてそれらを、常に前記基材と前記蒸着層とが交互に積層された形態となるように複数積層してなる構成を有した金属蒸着フィルムとした。例文帳に追加

A large number of vapor deposited materials, each of which is obtained by laminating a vapor deposition layer comprising a metal or an alloy on the surface of a base material comprising a high-molecular resin, are preliminarily produced and a plurality of vapor deposition materials are laminated so that the base materials and the vapor deposition layers are always laminated alternately to obtain the metallized film. - 特許庁

ポリプロピレンやポリエチレンテレフタレートなどの誘電体フィルム１１に金属蒸着電極１２を形成した金属化フィルム１３と、誘電体フィルム１４に金属蒸着電極１５を形成した金属化フィルム１６が交互になるように重ね合わせて巻回または積層したコンデンサ素子１７において、金属蒸着電極１２はアルミニウムを蒸着して形成し、また金属蒸着電極１５は亜鉛または亜鉛合金を蒸着して形成する。例文帳に追加

In a capacitor element 17 formed by winding or stacking a metallized film 13 having a metal deposition electrode 12 formed on a dielectric film 11 of polypropylene, polyethylene terephthalate, etc., and a metallized film 16 having a metal deposition electrode 15 formed on a dielectric film 14 alternately one over the other, the metal deposition electrode 12 is formed by vapor-depositing aluminum and the 15 is formed by vapor-depositing zinc or zinc alloy. - 特許庁

反射防止膜１５，１６を構成する交互積層体の高屈折率層及び低屈折率層のいずれもがイオンアシスト蒸着法により形成されている。例文帳に追加

Both the high refractive index layer and low refractive index layer in each mutual stacked body composing the antireflection films 15, 16 are formed by an ion beam assisted deposition process. - 特許庁

なお、この反射防止膜４はＳｉＯ_2膜とＴｉＯ_2膜を交互に積層した５層構成で略一定膜厚であり、部分的にマスキングして真空蒸着法により成膜する。例文帳に追加

The antireflection films 4 consist of a five-layered configuration alternately laminated with SiO_2 films and TiO_2 films, have an approximately fixed film thickness, are partially masked and are formed by vacuum deposition method. - 特許庁

基板３にフッ化マグネシウム、フッ化鉛、及び酸化アンチモンなどから成る高屈折率を有する層５１と、低屈折率を有する層５２を共蒸着によって交互に堆積する。例文帳に追加

A layer 51 having a high refractive index and composed of such as magnesium fluoride, lead fluorination, and antimony oxide and a layer 52 having a low refractive index are alternately deposited on a substrate 3 by co-vapor-deposition. - 特許庁

シリコンまたは無酸素同基材の上に、低屈折率層としてＺｎＳｅまたはＺｎＳを、高屈折率層としてＧｅを組み合わせた交互多層膜を複数組、イオンアシスト蒸着する。例文帳に追加

A plurality of sets of alternate multilayered films combined with ZnSe or Zns as low-refractive index layers and Ge as high-refractive index layers on a silicon or oxygen-free silicon substrate are formed by ion assisted vapor deposition. - 特許庁

チャンバー内の絶縁性下層３付き基板１に形状をエッチングする際に、プラズマによるエッチング・ステップとプラズマによる不動態化層の蒸着ステップとを交互に繰り返す。例文帳に追加

When etching a shape on the substrate 1 with an insulating lower layer 3 inside a chamber, an etching step by plasma and a passivated-layer depositing step by plasma are repeated alternately. - 特許庁