化学的酸化剤の英語

非酸化物単結晶基板を化学的機械的に研磨するための研磨剤であって、酸化還元電位が０．５Ｖ以上の遷移金属を含む酸化剤と、平均２次粒子径が０．５μｍ以下の酸化セリウム粒子と、分散媒とを含有することを特徴とする。例文帳に追加

A polishing agent for chemically mechanically polishing a non-oxide single crystal substrate contains: an oxidant including transition metal having an oxidation reduction potential of 0.5 V or greater; a cerium oxide particle having an average secondary particle size of 0.5 μm or less; and a dispersion medium. - 特許庁

本発明の化学的機械的研磨スラリー組成物は、酸化セリウム研磨剤、カルボン酸またはその塩、アルコール系化合物及び水を含む。例文帳に追加

The chemical mechanical polishing slurry composition comprises cerium oxide abrasive powder, carboxylic acid or its salt, alcoholic system compound and water. - 特許庁

メタンスルホン酸、アルカリ金属イオン、酸化剤、シリカ研磨材、水を含有し、且つｐＨが８〜１２である、化学的機械的研磨組成物とする。例文帳に追加

A chemical-mechanical polishing composition contains methanesulfonic acid, an alkali metal ion, an oxidizing agent, a silica abrasive, and water; and has a pH of 8 to 12. - 特許庁

炭素数７〜１３のジカルボン酸、酸化剤、砥粒、及び水を含有する、化学的機械的研磨組成物とする。例文帳に追加

A chemical-mechanical abrasive composition contains a 7-13C dicarboxylic acid, an oxidant, abrasive grains, and water. - 特許庁

本発明の、銅の層又は銅の合金の層を研摩する化学的−機械的研摩（ＣＭＰ）スラリーは、エッチャントと、酸化抑制剤と、銅及び酸化抑制剤の間の錯化を調整する添加剤とを含む。例文帳に追加

The chemical - mechanical polishing(CMP) slurry for polishing the layer of copper or that of the alloy of copper contains an etchant, an oxidation suppression agent, and an additive for adjusting the complexing between the copper and the oxidation suppression agent. - 特許庁

固体酸化物形燃料電池のアノード還元法であって、固体酸化物形燃料電池のアノードの燃料流路側にパージガスを流し、カソードの酸化剤流路側に酸化剤ガスを流しながら、固体酸化物形燃料電池に逆電流を流すことにより、アノード中の触媒金属の酸化物を電気化学的に還元することを特徴とする固体酸化物形燃料電池のアノード還元法。例文帳に追加

In this anode reduction method of the solid oxide fuel cell, a purge gas is sent to the fuel passage side of the anode of the solid oxide fuel cell, a reverse current is sent to the solid oxide fuel cell while sending an oxidizer gas to the oxidizer passage side of a cathode, and thereby the oxide of a catalyst metal in the anode is electrochemically reduced. - 特許庁

本発明においては、コバルト化合物で被覆した水酸化ニッケルを酸化剤により化学的に酸化した後に、還元剤により還元した水酸化ニッケルを主体とした活物質を含むとともにＣｏ，Ｚｎ，Ｙ，Ｎｂ，Ｗから選ばれる少なくとも一種以上の化合物を添加した正極を用いるようにしている。例文帳に追加

In this application, after nickel hydroxide coated with a cobalt compound is chemically oxidized by an oxidizer, a positive electrode containing an active material containing, as a main constituent, the nickel hydroxide which is reduced by a reducer and formed by adding at least one or more kinds of compound selected from among Co, Zn, Y, Nb and W, is used. - 特許庁

化学機械的な研磨酸化物スラリーは研磨粒子と二つまたはそれ以上の相異なるパッシベーション剤を含む水溶液とよりなる。例文帳に追加

A chemical mechanical polishing oxide slurry comprises polishing particles and an aqueous solution containing two or more passivation agents different from each other. - 特許庁