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chemical oxidantとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 化学的酸化剤
「chemical oxidant」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 46件
CHEMICAL EMISSION DETECTOR FOR MEASURING OXIDANT, AND MEASURING METHOD OF OXIDANT USING IT例文帳に追加
酸化剤測定用化学発光検出器、及びそれを用いた酸化剤の測定方法 - 特許庁
The fuel cell system comprises the oxidant gas flow passage going through an air electrode of a fuel cell, a plurality of sensors provided on the oxidant gas flow passage, and a chemical filter arranged on an upstream side of the plurality of the sensors on the oxidant gas flow passage for adsorbing the impurities contained in the oxidant gas to itself.例文帳に追加
燃料電池の空気極を経由する酸化剤ガス流路と、酸化剤ガス流路に設けられた複数のセンサと、酸化剤ガス流路において複数のセンサの上流側に配置され、酸化剤ガスに含まれる不純物を自身に吸着させるケミカルフィルタとを含む燃料電池システムである。 - 特許庁
Then, when the oxidant is detected in the treated liquid, it is decided that the chemical substance having hormone- like activity is completely treated and when no oxidant is detected, it is decided that the oxidation of the chemical substance is not completed.例文帳に追加
そして、処理水中に酸化剤が検出されるときにはホルモン様活性を有する化学物質の処理が完了しているが、検出されないときには上記処理が完了していないと判断する。 - 特許庁
The solid electrolytic capacitor using, as a solid electrolyte, an electroconductive polymer obtained by chemical polymerization using the oxidant, and the method for manufacturing the solid electrolytic capacitor are also provided.例文帳に追加
また、該酸化剤を用いて化学重合させてなる導電性高分子を固体電解質として用いた固体電解コンデンサとその製造方法。 - 特許庁
A metal oxide layer is deposited on the substrate by reacting a precursor with an oxidant gas in a chemical gas phase growing chamber.例文帳に追加
化学気相成長チャンバ中で、前駆物質を酸化体ガスと反応させることによって、基板上に金属酸化物層を堆積させる。 - 特許庁
A chemical-mechanical abrasive composition contains a 7-13C dicarboxylic acid, an oxidant, abrasive grains, and water.例文帳に追加
炭素数7〜13のジカルボン酸、酸化剤、砥粒、及び水を含有する、化学的機械的研磨組成物とする。 - 特許庁
To provide a chemical mechanical polishing composition capable of polishing a noble metal-containing substrate more efficiently than conventional chemical mechanical polishing compositions, without the need for using a specialized oxidant or chemical etchant, and a method for using the chemical mechanical polishing composition for polishing a substrate.例文帳に追加
本発明は、特別な酸化剤又は化学エッチャントの使用を必要とせず、従来の化学機械研磨組成物と比べて、貴金属含有基板のより効率的な研磨を可能にする化学機械研磨組成物、及び基板を研磨するためにそれを用いる方法を提供する。 - 特許庁
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「chemical oxidant」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 46件
The method of treating waste water containing the hardly decomposable chemical substances comprises adding an oxidant such as H2O2 to the waste water containing the hardly decomposable chemical substances and then allowing the waste water to pass through a metal catalyst layer 10 of an iron powder or the like to react it.例文帳に追加
難分解性化学物質含有排水にH_2O_2等の酸化剤を添加した後、この排水を鉄粉等の金属触媒層10に通水して反応させる。 - 特許庁
The chemical filter unit 1 is employed for removing nitrogen oxides contained in the oxidant gas, and is formed to a unit by alternatively arranging an adsorption layer 11 containing activated carbon coated with a sticker adsorbing NO_2 and an oxidized layer 12 containing an oxidant for oxidizing NO to NO_2.例文帳に追加
本発明のケミカルフィルタユニット1は、酸化剤ガス中に含まれる窒素酸化物を除去するためのものであって、NO_2を吸着する添着剤をコーティングした活性炭を含む吸着層11と、NOをNO_2に酸化するための酸化剤を含む酸化層12とを交互に配置させてユニット化したものである。 - 特許庁
The chemical mechanical polishing liquid contains (A) silica particles, (B) an oxidant, (C) metal ions within a range of not smaller than 0.01 to smaller than 10 ppm, (D) a compound improving reaction activity by the oxidant and metal ions, and having pH within a range of 2.0-5.0.例文帳に追加
(A)シリカ粒子、(B)酸化剤、(C)0.01ppm以上、10ppm未満の範囲内にある金属イオン、及び、(D)酸化剤と金属イオンとによる反応活性を向上させる化合物を含有し、pHが2.0〜5.0の範囲内にあることを特徴とする化学的機械的研磨液。 - 特許庁
To provide a method and a device, by which treating state of a chemical substance having hormone-like activity contained in a liquid to be treated is rapidly confirmed and the amount of an oxidant to be added to the liquid to be treated is rapidly and appropriately controlled according to the confirmed result when the chemical substance mentioned above is subjected to oxidation treatment by the oxidant.例文帳に追加
被処理液中に含まれるホルモン様活性を有する化学物質を酸化剤により酸化処理するに当たり、上記化学物質の処理状況を直ちに確認することができ、また、その結果に基づいて被処理液への酸化剤添加量を迅速かつ適切に制御できる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The solid capacitor formation oxidant includes trivalent iron ions and sulfonic acid ferric salt that is an ion compound having a constitution expressed in a specific chemical formula and comprised of at least one organic sulfonic acid ion.例文帳に追加
固体コンデンサ形成用酸化剤は、3価の鉄イオンと、ある特定の化学式で表される構造を有する少なくとも1つの有機スルホン酸イオンとからなるイオン化合物であるスルホン酸鉄塩を含む。 - 特許庁
The polishing solution for metals is used for the chemical mechanical polishing in a semiconductor device manufacturing process, and contains a polymer having an azole group with three or four nitrogen atoms at a side chain, an oxidant, and organic acid.例文帳に追加
半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、窒素原子を3または4つ有するアゾール基を側鎖に有するポリマー、酸化剤および有機酸を含有することを特徴とする金属用研磨液。 - 特許庁
To provide a chemical filter unit, which can efficiently remove nitrogen oxides contained in an oxidant gas by oxidizing NO converted (reduced) from NO_2 to NO again and further adsorbing NO_2.例文帳に追加
NO_2から転化(還元)したNOを再度酸化してNO_2にし、このNO_2を更に吸着することにより、酸化剤ガス中に含まれる窒素酸化物を効率的に除去することができるケミカルフィルタユニットを提供する。 - 特許庁
The oxidant electrode 7 is equipped with a proton conductive material 33 capable of conducting protons, a catalyst 32 accelerating chemical reaction synthesizing water with proton and oxygen, and a limiting permeation layer 34.例文帳に追加
このとき、酸化剤極7は、プロトンを伝導することができるプロトン伝導性材料33と、プロトンと酸素とから水を合成する化学反応を進める触媒32と、制限透過層34とを備えている。 - 特許庁
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