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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JMnedict > 大高平の英語・英訳 

大高平の英語

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JMnedictでの「大高平」の英訳

大高平

読み方意味・英語表記
おおたかだいら

地名) Ootakadaira

JMnedictは、日本語の一般的な固有名詞の分類とそれを英語で表記した内容を中心に扱っています。
同じ日本語に複数の英語表記が表示される項目もあります。

「大高平」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 16



例文

また、ドライブパルス信号生成部には発光デューティ値を、最高平均階調値がきいときには小さく、最高平均階調値が小さいときにはきくする変換用マップデータを備えた。例文帳に追加

Moreover, in the driving pulse signal generation section, a map data for conversion in which the light emitting duty value is made small when the maximum average gray scale value is large, and made large when the maximum average gray scale value is small. - 特許庁

5月23日、別働第三旅団が倉谷・高平野方面の薩軍を次々と破り、野に進入してきた。例文帳に追加

On May 23, the detached 3rd brigade defeated the Satsuma army in the Kuratani, Takahira and Ono areas one after another, entering Ono.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

新たな工程を増やしたり、エピタキシャル成長後の平坦度の劣化を招来することなく、高平坦度を確保でき、製品不良をきく減少させることが可能な高平坦度エピタキシャルウェーハの製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of producing a highly flat epitaxial wafer, by which the epitaxial wafer high in flatness can be obtained and the rate of inferior products can be reduced without adding a new process and causing lowering of flatness after epitaxially growing. - 特許庁

インゴットを切断した直後の比較的うねりのきい半導体ウエーハを高平坦、高平滑な面に加工し、自動化と低コスト化の問題を解決できる研削方法と平面研削装置を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding method and a surface grinder which can process a semiconductor wafer which is relatively wavy just after cutting an ingot, into the one with a highly flat and smooth surface, and can facilitate both automation and cost reduction. - 特許庁

きな共振領域で高安定に高平均出力を行うことができる固体レーザ発振器を得る。例文帳に追加

To obtain a solid-state laser oscillator which can produce high average output, with high stability in a large resonance region. - 特許庁

該プロファイルは、約900℃の最温度を有し、高平均壁面熱負荷において、より長い動作寿命を許容している。例文帳に追加

The profile has maximum temperature of around 900°C and allows a longer operation life at high average wall surface heat load. - 特許庁

例文

砥石径を増することなく、高平坦度の研削成型寸法が得られる成型研削装置を提供する。例文帳に追加

To obtain a high flatness of grinding and forming size without increasing the diameter of a grinding wheel. - 特許庁

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「大高平」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 16



例文

増膜しなくても高平滑性が確保できる、構造発色を発現する粒径の着色材または光輝材を使用した積層塗膜を提供する。例文帳に追加

To provide a laminated film using a large-sized coloring material or luster material exhibiting structural coloring wherein high flatness is secured without increasing the film thickness. - 特許庁

高平・ルート協定(たかひら・ルートきょうてい、)は、アメリカ合衆国国務長官エリフ・ルートと、日本の高平小五郎駐米使の間で交渉が行われ、11月30日に調印された、日本帝国とアメリカ合衆国との間の協定のこと。例文帳に追加

Root-Takahira Agreement refers to an agreement between the United States and the Empire of Japan signed by the United States Secretary of State Elihu Root and Japanese Ambassador to the United States Kogoro TAKAHIRA on November 30 after negotiations by those two.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

これは、麻田藩領の多くが経済の中心地であった阪に程近い摂津国豊島郡(摂津国)(豊嶋郷)、川辺郡(兵庫県)(高平郷)にあったことによるものと考えられる。例文帳に追加

This might have been because most of the territories of Asada Domain were located in Toshima-gun (Toshimago) and Kawabe-gun (Takahirago) in Settsu Province close to Osaka, which was the center of finance.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

被研磨面を、傷なく、酸化珪素膜と窒化珪素膜の研磨速度比をきく、凸部を選択的に研磨でき、高平坦化することが可能であるCMP研磨液を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical mechanical polishing (CMP) liquid capable of selectively polishing protruding parts of a surface to be polished and highly leveling the surface at a high polishing speed ratio of an silicon oxide film to a silicon nitride film without flaws. - 特許庁

増膜しなくても高平滑性が確保できる、構造発色を発現する粒径の着色材または光輝材を使用した積層塗膜を提供する。例文帳に追加

To provide a laminated coating film wherein a coloring material or a brightening material having a large particle diameter expressing structural coloring is used which can surely ensure high smoothness without increasing film thickness. - 特許庁

表面が高平坦度で、裏面光沢度の選択性がきい裏面梨地ウェーハ、その製法、および、その製法に用いる表面研削裏面ラップ装置を得る。例文帳に追加

To obtain a back surface matted wafer, where the front surface is highly flat and the selectivity of back surface glossiness is large, its manufacturing method, and a front surface grinding back surface lapping device used for the manufacturing method. - 特許庁

チタン・サファイア・レーザなどの型で高平均パワーの固体レーザからの光パルスを用いずに、半導体レーザからの光パルスを利用して、高いピークパワーの光により、狙いとする非線形光学効果を引き起こすことである。例文帳に追加

To induce a target nonlinear optical effect by light having high peak power utilizing an optical pulse from a semiconductor laser without using an optical pulse from a large solid laser of high average power such as a titanium sapphire laser. - 特許庁

例文

両面研磨装置、特に、自転しない円運動をするキャリアを備える両面研磨装置において硬質研磨布を用いて研磨を行う場合でも、装置のきな改良を必要とせず、テーパ形状や外周ダレ等のない高平坦度のウエーハに仕上げることができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide technology capable of finishing a wafer of high flatness without a taper shape, outer peripheral sag, etc. without requiring extensive improvement of a double side polishing device especially even in the case of polishing the wafer by using a hard polishing cloth on the both side polishing device furnished with a carrier not to autorotate but to take a circular motion. - 特許庁

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