姿勢変換機構の英語

光学面の姿勢調整機構、マイケルソン干渉計、およびフーリエ変換分光分析装置例文帳に追加

POSTURE ADJUSTMENT MECHANISM OF OPTICAL SURFACE, MICHELSON INTERFEROMETER, AND FOURIER TRANSFORMATION SPECTROSCOPIC ANALYZER - 特許庁

姿勢変更用駆動源４２の回転を減速する減速機構４３と、減速された出力を回転運動から進退運動に変換する動作変換機構４４Ａと、この動作変換機構４４Ａの出力により姿勢操作部材３１を進退動作させる出力部材５１とを設ける。例文帳に追加

A speed reducing mechanism 43 reducing the speed of the rotation of the drive source 42 for changing the attitude, a movement converting mechanism 44A for converting the speed reduced output from rotational movement to back and forth movement, and an output member 51 for moving back and forth the attitude operating member 31 by the output of the movement converting mechanism 44A are arranged. - 特許庁

ウエハＷがロータ３４に収納された状態で、Ｚ軸リニア駆動機構２９により、ロータ回転機構２７および姿勢変換機構２８を連結点Ｐが位置Ｐ２に移動するように上昇させ、位置Ｐ２においては、姿勢変換機構２８を動作させて、ウエハＷが水平保持から垂直保持の状態になるようにロータ回転機構２７全体を９０°回転させ、横姿勢の状態とする。例文帳に追加

A rotor rotating mechanism 27 and an attitude converting mechanism 28 are raised by a Z-axis linear driving mechanism 29, so that a connection point P may move to a position P2, in such a state that a wafer W is held in a rotor 34. - 特許庁

そして、電着槽１に浸漬するワークＷ１についてはキャリア反転機構３ａによりレール支持体６ａごとワークＷ１の姿勢を反転させて搬送し、電着槽１に浸漬させないワークＷ２については、姿勢を変換しないでそのままの姿勢で通過させる。例文帳に追加

The work W1 immersed in the electrodeposition tank 1 is carried with the attitude of the work W1 inverted together with the rail supporter 6a by the carrier inverting mechanism 3a, and the work W2 which is not immersed in the electrodeposition tank 1 is passed as it is without inverting the attitude. - 特許庁

基板ホルダを、大掛かりな回転機構を用いることなく、水平状態から垂直状態、または垂直状態から水平状態に姿勢を変換することができるめっき装置、めっき処理方法及びめっき装置用基板ホルダの姿勢変換方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plating apparatus in which the posture of a substrate holder can be changed from a horizontal state to a vertical state or from a vertical state to a horizontal state without using any large-scale complicated rotating mechanism, to provide a plating method, and to provide a method for changing the posture of a substrate holder for a plating apparatus. - 特許庁

第２処理部１３は、第１処理部１２から水平姿勢で基板を受け入れ、この基板Ｓを第１処理部１２における搬送方向と直交する方向に傾斜させる姿勢変換機構３４と、これにより変換された基板Ｓの姿勢を維持しつつ当該基板Ｓを勾配に沿って搬送する搬送ローラ３３等を備える。例文帳に追加

The second processing part 13 includes a posture changing mechanism 34 for receiving the substrate in the horizontal posture from the first part 12 and tilting the substrate S into the direction orthogonal to the carrying direction in the first part 12, a conveyance roller 33 for carrying the substrate S along the slope while keeping the posture of the substrate S changed by the mechanism 34, and so on. - 特許庁

基板処理室３３，基板保持体４１，保持体姿勢変換機構４３及び保持体移動機構４５は，処理システム１本体から一体的に取り外し可能なユニット５を構成する。例文帳に追加

The substrate processing room 33, the substrate retainer 41, the retainer posture transforming mechanism 43 and the retainer moving mechanism 45 constitute a unit 5 which can be removed integrally from the processing system 1 body. - 特許庁