有機アジド化合物の英語

フェノール性水酸基を有する化合物とナフトキノンジアジドスルホニルハライドを、有機溶媒中、二塩基アミン類を使用し反応することにより高収率で且つ金属含量を大幅に低減したナフトキノンジアジド感光体素材例文帳に追加

A compound having a phenolic hydroxyl group is reacted with a naphthoquinonediazidesulfonyl halide in an organic solvent using dibasic amines to obtain the objective naphthoquinonediazide photoreceptor material having a reduced metal content with a high yield. - 特許庁

多価フェノール化合物と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハロゲン化物とを有機アミンの存在下、アミド系以外の有機溶媒中で縮合させた後、アミド系溶媒を加え、生成した有機アミンの酸塩をろ別する。例文帳に追加

This method for producing the 1,2-naphthoquinone diazide-based photosensitive agent is provided by condensing a polyhydric phenol compound with halogenated 1,2-naphthoquinone diazide sulfonic acid compound in the presence of an organic amine in a solvent other than an amide-based solvent, adding the amide-based solvent and then filtering the produced acid salt of the organic amine. - 特許庁

フェノール性水酸基を有する化合物と１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとを有機塩基を用いてエステル化反応させてナフトキノンジアジド系感光剤を製造する方法において、水と混和しない溶媒に水を添加した反応溶媒を用いてエステル化反応し、反応液を水洗してナフトキノンジアジド系感光剤溶液とする。例文帳に追加

In the method for manufacturing a naphthoquinone diazide type photosensitive agent by esterification reaction of a compound having a phenolic hydroxyl group and 1,2-naphthoquinone diazide sulfonylchloride by using an organic base, a reaction solvent prepared by adding water to a solvent which is not miscible with water is used for the esterification reaction and then the reaction liquid is washed with water to prepared the naphthoquinone diazide type photosensitive agent. - 特許庁

本発明は、芳香環を有し且つこの芳香環を構成する炭素原子にハロゲン原子が結合しているハロゲン化芳香族化合物を、アジド化合物、金属若しくはこの金属を含む化合物、塩基性有機化合物及び極性溶媒の存在下に加熱して反応させて、上記ハロゲン原子がアミノ基に置換されてなる芳香族アミン化合物を製造する方法である。例文帳に追加

The method for producing the aromatic amine compound is characterized by thermally reacting a halogenated aromatic compound which has an aromatic ring and in which a halogen atom has been bound to a carbon atom constituting the aromatic ring, in the presence of an azide compound, a metal or a compound containing the metal, a basic organic compound, and a polar solvent to produce the aromatic amine compound having the amino group substituted with the halogen atom. - 特許庁

アルカリ可溶性樹脂（ａ）、キノンジアジド基含有化合物（ｂ）及び有機溶剤（ｃ）を含有してなるポジ型フォトレジスト組成物であって、有機溶剤（ｃ）が、プロピレングリコールモノアルキルエーテルのエステル化合物（ｃ１）７５〜９８重量％及びアルコール性水酸基を含有する化合物（ｃ２）２〜２５重量％からなる混合溶剤であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。例文帳に追加

The positive photoresist composition comprises an alkali-soluble resin (a), a quinonediazido group-containing compound (b) and an organic solvent (C), wherein the organic solvent (c) is a mixed solvent consisting of 75-98 wt.% of an ester compound (c1) of a propylene glycol monoalkyl ether and 2-25 wt.% of a compound (c2) containing an alcoholic hydroxyl group. - 特許庁

（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）酸および熱により脱離する有機基を有するリン酸エステル（１）、下記一般式（２）〜（３）から選ばれる少なくとも一種の化合物、および（ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物。例文帳に追加

The positive photosensitive composition contains: (a) a polysiloxane; (b) a naphthoquinone diazide compound; (c) at least one compound selected from (1) a phosphate having an organic group separated by acid or heat, and compounds represented by general formulas (2) and (3); and (d) a solvent. - 特許庁

（ａ）不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合体、（ｂ）不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とそれ以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体、（ｃ）キノンジアジド基含有化合物及び（ｄ）有機溶媒を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises (a) a copolymer of an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride and an epoxy-containing polymerizable unsaturated compound, (b) a copolymer of an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride and another monoolefinically unsaturated compound, (c) a quinonediazide- containing compound, and (d) an organic solvent. - 特許庁

（Ａ）その中に存在するフェノール性水酸基若しくはカルボキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸解離性基で置換されたヒドロキシスチレン系共重合体の少なくとも１種からなる基材樹脂成分、（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）有機アミンを含む有機溶剤中に（Ｄ）ビスアジド化合物を添加した化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物とする。例文帳に追加

The chemical amplification type positive photoresist composition is obtained by adding (D) a bisazido compound to an organic solvent containing (A) a base resin component comprising at least one hydroxystyrene copolymer having acid dissociable groups substituted for the hydrogen atoms of at least part of phenolic hydroxyl groups or carboxyl groups present in the copolymer, (B) a compound which generates an acid when irradiated with radiation and (C) an organic amine. - 特許庁