粒子応力の英語

吸着フィン（20）が熱変形した際には、ゼオライト粒子（28）の変位が第１粒子層（21）の隙間によって吸収され、ゼオライト粒子（28）に作用する応力が緩和される。例文帳に追加

When the fin (20) is thermally deformed, the displacement of the zeolite particles (28) is absorbed by the gaps in the first particle layer (21) to relax stress acting on the zeolite particles (28). - 特許庁

また、鉛直板２０の間の土粒子を拘束するため、側方へ変位する土粒子からも水平応力を受けることができ、単に杭径を大きくする場合よりも、土粒子から受ける水平方向の有効応力を大きくすることができる。例文帳に追加

Because the soil particle between the vertical plates 20 is constrained, horizontal stress can be also received from the soil particle displaced to the side, and the horizontal effective stress received from the soil particle can be enlarged in the comparison with the case when a pile diameter is only enlarged. - 特許庁

線形加速器を用いて生成された第２の複数の高エネルギー粒子に第２の角度で半導体基板の表面領域をさらすことを含み、第２の複数の高エネルギー粒子は第１の応力レベルから第２の応力レベルに劈開領域の応力レベルを上昇させるようにする。例文帳に追加

The method includes subjecting the surface region of the semiconductor substrate to second multiple high energy particles generated using the linear accelerator and provided at a second angle, the second multiple high energy particles being provided to increase a stress level of the cleave region from a first stress level to a second stress level. - 特許庁

発光表示装置１Ａを、樹脂基材１１中に応力発光体粒子１２を分散してなるシート状の応力発光体１０と、この応力発光体１０に外力を付与するドット部材２０とから構成する。例文帳に追加

The light-emitting display device 1A is composed of a sheet-like stress-induced light-emitting material 10 comprising stress-induced light-emitting particles 12 dispersed in a resin substrate 11, and a dot member 20 imparting external force to the stress-induced light-emitting material 10. - 特許庁

効率よく微粒子を捕集し、しかも高温にさらされても熱応力によるクラックが発生しないセラミックハニカムフィルタを得る。例文帳に追加

To obtain a ceramic honeycomb filter which efficiently captures particulates and is not cracked by a thermal stress even when the filter is exposed to a high temperature. - 特許庁

杭基礎の土粒子から受ける水平方向の有効応力を大きくし、地震時の水平荷重に対する抵抗力を増大させる。例文帳に追加

To enlarge the horizontal effective stress received from a soil particle of a pile foundation to increase resistance force against horizontal load in the case of an earthquake. - 特許庁

基板内に粒子および、または熱で誘導される応力を回避することができ、パターンの転写精度を改善できるリソグラフィ装置を提供する。例文帳に追加

To provide a lithographic apparatus that can avoid stress guided by particles and heat in a substrate and can improve precision of pattern transcription. - 特許庁

数十μｍ以下の寸法の球形粒子であっても、より高い精度で降伏応力が測定できるようにする。例文帳に追加

To measure the yield stress of a spherical particle with a dimension of several ten μm or below with higher precision. - 特許庁