非拡散部の英語

面取り工程によって、面取りされた拡散ウェーハが、枚葉片面エッチング工程によって、拡散ウェーハの非拡散層の表面２１ａの各部にエッチング液３２を均一に供給されて、拡散ウェーハの片面２１ａが枚葉でエッチングされる。例文帳に追加

The diffused wafer having been beveled in a beveling stage has one surface 21a etched in sheet form in a sheet one-surface etching stage, by uniformly supplying an etchant 32 to respective parts of the surface 21a of a non-diffused layer of the diffused wafer. - 特許庁

基板（４２）の外面（３８）の少なくとも一部は、基板（４２）上のβ‐ＮｉＡｌ系、ＭＣｒＡｌＸ、見通し拡散アルミナイド、非見通し拡散アルミナイド、パック拡散アルミナイド及びスラリ拡散アルミナイドより成る群から選択された被覆膜層（４４）で被覆される。例文帳に追加

At least a portion of the external surface (38) of the substrate (42) is coated with a coating layer (44) selected from the group consisting of β-NiAl, MCrAlX, exposed diffusion aluminide, non-exposed diffusion aluminide, pack diffusion aluminide and slurry diffusion aluminide on the substrate (42). - 特許庁

ガス拡散層１４４，１３４は、相対しており、オフセットしている非重なり部１４６を有する。例文帳に追加

The gas diffusion layers 144, 132 face each other and include offset non-overlapping parts 146. - 特許庁

噴流層Ａを、気体案内面３から稜線部５を経由し、気体拡散面４に付着した状態で拡散させることにより、稜線部５から気体拡散面４にかけて負圧を発生させてワークＷを非接触に保持する。例文帳に追加

By diffusing the jet layer A from the gas guide face 3 through the edge line part 5 with the jet layer A contacted with the gas diffusion face 4, a negative pressure is generated from the edge line part 5 to the gas diffusion face 4 to retain the work W in a non-contact state. - 特許庁

拡散板１０には、基板４の少なくとも一部の領域と重なるように、開口部１０ｂが形成されており、非開口部１０ａは、基板加熱ヒータから照射された輻射エネルギーを拡散する。例文帳に追加

An opening 10b is formed overlapping at least a partly area of a substrate 4 in the diffused plate 10, and a non-opening 10a diffuses a radiation energy applied from a substrate heating heater. - 特許庁

そして、可動装飾体６０の移動に伴ってＬＥＤ５８からの光が照射されなくなる光透過部の非照射部位には、光拡散部６０ａで拡散された光が照射される。例文帳に追加

A non-irradiation part of the light-transmitting part not irradiated with light from the LEDs 58 with the movement of the movable decorative body 60 is irradiated with light diffused by the light diffusion part 60a. - 特許庁

この実装の際に、周回溝４２からあふれ出た非導電性接着剤４７の拡散を防止する目的で、開口部２１の周縁に沿う外周部分に、拡散防止溝４８を刻設する。例文帳に追加

In the mounting, a diffusion preventing groove 48 is provided at an outer peripheral part along a peripheral edge of the aperture part 21 in order to prevent diffusion of the non-conductive adhesive 47 overflowed from the circumferential groove 42. - 特許庁

マスクレイアウトデータ関連付け処理部は、非矩形の拡散層領域と複数の矩形拡散層領域とをマスクレイアウトデータに関連付ける。例文帳に追加

A mask layout data association processing part associates the non-rectangular diffusion layer area and the plurality of rectangular diffusion layer areas to the mask layout data. - 特許庁